真空镀膜装置及系统制造方法及图纸

技术编号:40981492 阅读:23 留言:0更新日期:2024-04-18 21:27
本技术涉及真空镀膜设备技术领域,提供一种真空镀膜装置及系统,包括腔体、铰链座、腔盖和伸缩驱动件,铰链座设有腰型铰接孔,腔体与腔盖通过铰链座铰接,伸缩驱动件驱动腔盖打开或关闭,通过在铰链座上设置垂直于腔体贴合面的腰形铰接孔,使得腔盖扣合到腔体后,贴合面的法相有一定的自由度,在真空状态下,密封面可以更好的贴附,保证真空密封腔的密封性能,从而解决了现有技术中因过定位影响腔体与腔盖之间密封性的问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空镀膜设备,具体涉及一种真空镀膜装置及系统


技术介绍

1、真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术,例如,物理气相沉积(physicalvapor deposition,pvd)技术是就是在真空条件下采用物理方法将材料源表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,并通过低压气体过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术,可以作为电气、光学、磁学、化学、机械和装饰类膜层,被广泛应用于各个领域。

2、pvd真空镀膜设备由腔体和腔盖组成真空密封腔,各种真空镀膜工艺都在真空密封腔中进行,因此,镀膜过程中腔盖需要启闭成了比较重要的工作,现有的腔盖启闭方式有吊装分离式和铰链翻盖式。

3、然而,大型的pvd设备腔盖重量可以达到数十吨,采用吊装分离式就要求吊装设备巨大,操作十分不便,而铰链翻盖式通常采用电缸或油缸驱动,电缸或油缸驱动方式往往出现过定位,这就导致真空密封腔的密封性能难以保证,并且,电缸或油缸驱动结构缺少极端状态下的安全保护措施。


技术实现思路

1、本技术提供一种真空本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种真空镀膜装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述伸缩驱动件为液压油缸(4),所述液压油缸(4)包括缸体(41)和活塞杆(42),所述活塞杆(42)可移动地设于所述缸体(41)内,所述缸体(41)固定于所述腔体(1)的底部,所述活塞杆(42)与所述腔盖(3)活动连接。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述活塞杆(42)与所述腔盖(3)之间还设有连接臂(5),所述连接臂(5)为L型结构,所述连接臂(5)的一端与所述腔盖(3)固定连接,所述连接臂(5)的另一端与所述活塞杆(42)转动连接。

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【技术特征摘要】

1.一种真空镀膜装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述伸缩驱动件为液压油缸(4),所述液压油缸(4)包括缸体(41)和活塞杆(42),所述活塞杆(42)可移动地设于所述缸体(41)内,所述缸体(41)固定于所述腔体(1)的底部,所述活塞杆(42)与所述腔盖(3)活动连接。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述活塞杆(42)与所述腔盖(3)之间还设有连接臂(5),所述连接臂(5)为l型结构,所述连接臂(5)的一端与所述腔盖(3)固定连接,所述连接臂(5)的另一端与所述活塞杆(42)转动连接。

4.根据权利要求3所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述连接臂(5)的另一端与所述活塞杆(42)之间还设有关节轴承(6)。

5.根据权利要求4所述的真空镀膜装置,其特征在于,

6.根据权利要求5所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:安乐秦小宏
申请(专利权)人:株洲三一硅能技术有限公司
类型:新型
国别省市:

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