【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜设备,具体涉及一种真空镀膜装置及系统。
技术介绍
1、真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术,例如,物理气相沉积(physicalvapor deposition,pvd)技术是就是在真空条件下采用物理方法将材料源表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,并通过低压气体过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术,可以作为电气、光学、磁学、化学、机械和装饰类膜层,被广泛应用于各个领域。
2、pvd真空镀膜设备由腔体和腔盖组成真空密封腔,各种真空镀膜工艺都在真空密封腔中进行,因此,镀膜过程中腔盖需要启闭成了比较重要的工作,现有的腔盖启闭方式有吊装分离式和铰链翻盖式。
3、然而,大型的pvd设备腔盖重量可以达到数十吨,采用吊装分离式就要求吊装设备巨大,操作十分不便,而铰链翻盖式通常采用电缸或油缸驱动,电缸或油缸驱动方式往往出现过定位,这就导致真空密封腔的密封性能难以保证,并且,电缸或油缸驱动结构缺少极端状态下的安全保护措施。
技术实现思路
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...【技术保护点】
1.一种真空镀膜装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述伸缩驱动件为液压油缸(4),所述液压油缸(4)包括缸体(41)和活塞杆(42),所述活塞杆(42)可移动地设于所述缸体(41)内,所述缸体(41)固定于所述腔体(1)的底部,所述活塞杆(42)与所述腔盖(3)活动连接。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述活塞杆(42)与所述腔盖(3)之间还设有连接臂(5),所述连接臂(5)为L型结构,所述连接臂(5)的一端与所述腔盖(3)固定连接,所述连接臂(5)的另一端与所述活塞杆(42)转动连
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【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述伸缩驱动件为液压油缸(4),所述液压油缸(4)包括缸体(41)和活塞杆(42),所述活塞杆(42)可移动地设于所述缸体(41)内,所述缸体(41)固定于所述腔体(1)的底部,所述活塞杆(42)与所述腔盖(3)活动连接。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述活塞杆(42)与所述腔盖(3)之间还设有连接臂(5),所述连接臂(5)为l型结构,所述连接臂(5)的一端与所述腔盖(3)固定连接,所述连接臂(5)的另一端与所述活塞杆(42)转动连接。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述连接臂(5)的另一端与所述活塞杆(42)之间还设有关节轴承(6)。
5.根据权利要求4所述的真空镀膜装置,其特征在于,
6.根据权利要求5所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:安乐,秦小宏,
申请(专利权)人:株洲三一硅能技术有限公司,
类型:新型
国别省市:
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