异平面载药微针阵列的制备方法技术

一种医疗仪器技术领域的异平面载药微针阵列的制备方法，通过背面倾斜旋转曝光与传统曝光组合运用获得ＳＵ８光刻胶模具。利用ＰＤＭＳ的优良图形复制能力，通过两次ＰＤＭＳ转模得到ＰＤＭＳ模具，然后在ＰＤＭＳ模具上沉积金属种子层后电镀来制备金属微针阵列，最后采用ＰＤＭＳ剥离与种子层腐蚀的共同作用脱模获得异平面载药金属微针阵列，该方法具有批量化制备、简便易行、对金属结构完全无损害的技术特点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及的是一种医疗器材
的方法，具体是一种异平面载药微针阵列 的制备方法。
技术介绍
微针是直径为几十微米，长度在100微米以上的针状结构。微针在生物医学领域 有广泛的应用。采用微针阵列给药或采样，不仅具有微量、无痛的特点，而且可以使生化检 验的精度、可靠性和效率大幅度提高。载药微针是指在实心微针表面包裹一层药物，再将微针刺入皮肤使其持续释药的 微针给药技术，是目前微针给药研究的重点。它具有制造容易(本质上还是实心微针)，而 且药物包裹于缓释材料后给药还具有缓释给药的优势。经对现有技术的文献检索发现，2005年Yu Xie等人在Nanomedicine (纳米医学) (P184-190)发表了 “Controlled transdermal delivery of model drug compounds by MEMS microneedle array”(“模型药物化合物借助微机电系统微针阵列的可控经皮传输”)。 该方法利用光刻，薄膜沉积和反应离子刻蚀技术制作出了硅载药微针，并在微针的表面进 行了载药。该方法的不足在于一方面微针的倾角和高度可调范围不够大，另一方面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种异平面载药微针阵列的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：第一步，在玻璃基片上溅射Ｃｒ，并用第一掩膜版对其曝光、刻蚀，进行图形化，然后在Ｃｒ上旋涂第一层ＳＵ８光刻胶，倾斜基片并进行旋转背面曝光，获得ＳＵ８光刻胶凹锥阵列；第二步，经中烘后在第一层光刻胶上旋涂第二层ＳＵ８光刻胶，用第二掩膜版套刻曝光，经中烘和显影后，得到载药微针ＳＵ８光刻胶凹锥阵列；第三步，在凹锥阵列上填充ＰＤＭＳ制备载药微针阵列；第四步，在圆锥载药微针阵列上沉积薄膜、二次填充ＰＤＭＳ并经脱模后得到微针模具。第五步，在微针模具上沉积金属种子层，并在其上电镀金属，经二次脱模后得到异平面载药金属微针阵列。

【技术特征摘要】
一种异平面载药微针阵列的制备方法，其特征在于，包括如下步骤第一步，在玻璃基片上溅射Cr，并用第一掩膜版对其曝光、刻蚀，进行图形化，然后在Cr上旋涂第一层SU8光刻胶，倾斜基片并进行旋转背面曝光，获得SU8光刻胶凹锥阵列；第二步，经中烘后在第一层光刻胶上旋涂第二层SU8光刻胶，用第二掩膜版套刻曝光，经中烘和显影后，得到载药微针SU8光刻胶凹锥阵列；第三步，在凹锥阵列上填充PDMS制备载药微针阵列；第四步，在圆锥载药微针阵列上沉积薄膜、二次填充PDMS并经脱模后得到微针模具。第五步，在微针模具上沉积金属种子层，并在其上电镀金属，经二次脱模后得到异平面载药金属微针阵列。2.根据权利要求1所述的异平面载药微针阵列的制备方法，其特征是，所述的旋转背 面曝光是指基片固定在位于倾斜平台上的可旋转的电机上，金属Cr朝向曝光光源，SU8光 刻胶在下面，曝光时基片随电机一起旋转。3.根据权利要求1所述的异平面载药微针阵列的制备方法，其特征是，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱军，杨君，陈翔，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]