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【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及玻璃制品领域,具体涉及一种低雾度玻璃及其制备方法和应用。
技术介绍
1、防眩光显示用保护玻璃制品采用化学蚀刻工艺、喷涂工艺等加工制成,而经过防眩光处理后的保护玻璃,不仅有出色的防眩光性能、应用在显示领域其画质更清晰、视觉效果更清晰。目前检测防眩光玻璃品质的主要参照技术指标就是其光学性能,主要有光泽度、雾度、透光率和清晰度等技术指标。
2、其中,雾度越大意味着保护玻璃的光泽度、透明度、尤其成像度下降,随着高档汽车对车载显示清晰度要求越来越高,低雾度产品越来越受客户的青睐。
3、防眩光显示用保护玻璃由于除光学性能以外,对玻璃理化性能要求同样较高,这就要求玻璃本体在成分组成上的碱金属含量和铝含量能够控制在一定范围内(其中,碱金属的含量不超过7重量%,氧化铝的含量至少7重量%),在这一类玻璃的生产工艺中,浮法生产工艺产能较大成本较低,在产品应用竞争中优势明显,但在实际生产过程中,浮法玻璃同溢流法相比,拉引量是普通溢流法的至少10倍,玻璃出料量大;且铝硅玻璃粘度比普通钠钙玻璃成型温度整体高至少100℃,熔制和成型粘度较高,玻璃表面在熔化成型过程中容易出现微观不均匀,造成防眩保护玻璃制品出现光学均匀性不良,随着雾度下降这种不良急剧上升。
4、然而,为了解决低雾度玻璃制品的光学均匀性不良的问题,现有的研究中仍然面临着诸多问题,例如:首先解决光学不良需要提升成型玻璃液的均匀性,玻璃液均匀性的提升主要取决于成型通道及搅拌装置,此项固定投入太大,造成产品制造成本提升50%以上,直接影响产品的竞争力;
技术实现思路
1、本专利技术的目的是为了解决现有技术的低雾度玻璃存在的光学均匀性不良的问题。
2、为了实现上述目的,本专利技术的第一方面提供一种制备低雾度玻璃的方法,该方法包括:
3、(1)在抛光溶液存在下,将铝硅玻璃进行抛光处理,得到中间产品i;所述抛光处理的条件包括:抛光厚度为10-20μm;所述抛光溶液选自a溶液、b溶液和c溶液中的至少一种;
4、(2)将所述中间产品i在蚀刻溶液i中进行第一蚀刻,得到中间产品ii;所述第一蚀刻的条件包括:蚀刻厚度为1-2μm;所述中间产品ii的表面的任意40μm×40μm范围内的凹凸高度差不大于0.25μm;
5、(3)将所述中间产品ii在蚀刻溶液ii中进行第二蚀刻,得到所述低雾度玻璃;所述第二蚀刻的条件包括:蚀刻厚度为30-80μm;
6、以所述a溶液的总质量为基准,所述a溶液中含有2-8wt%的氢氟酸、1-7wt%的硫酸、1-5wt%的盐酸、1-5wt%的硝酸和75-95wt%的水;
7、以所述b溶液的总质量为基准,所述b溶液中含有3-10wt%的氟化氢铵、10-30wt%的硫酸和60-87wt%的水;
8、以所述c溶液的总质量为基准,所述c溶液中含有2-13wt%的氢氟酸、1-7wt%的硫酸、1-5wt%的盐酸、3-8wt%的磷酸和71-93wt%的水。
9、优选地,所述抛光处理的条件还包括:抛光速率为2-4μm/min。
10、优选地,所述抛光溶液为c溶液。
11、优选地,所述铝硅玻璃的厚度为0.3-1.8mm。
12、更优选地,所述铝硅玻璃的厚度为1.0-1.5mm。
13、进一步优选地,所述铝硅玻璃的锡面的渗锡层的厚度不高于15μm。
14、优选地,在步骤(2)中,以所述蚀刻溶液i的总质量为基准,所述蚀刻溶液i中含有18-26wt%的氟化氢铵、7-11wt%的柠檬酸、2-5wt%的硫酸钡、2-6wt%的膨润土、8-15wt%的三氯化铁、8-15wt%的硝酸钾、5-9wt%的氟化钾、3-6wt%的氢氟酸和7-44wt%的水。
15、优选情况下,在步骤(2)中,以所述蚀刻溶液i的总质量为基准,所述蚀刻溶液i中含有25-30wt%的氟化氢铵、8-12wt%的氟化铵、5-10wt%的氟化镁、20-25wt%的草酸、2-3wt%的磷酸钙、4-6wt%的硫酸铵、5-10wt%的六偏磷酸钠和4-31wt%的水。
16、优选地,在步骤(3)中,蚀刻溶液ii选自c溶液和d溶液中的至少一种;以所述d溶液的总质量为基准,所述d溶液中含有5-20wt%的氢氟酸、2-15wt%的硫酸、5-20wt%的氟化氢铵、1-5wt%的葡萄糖和40-87wt%的水。
17、优选地,该方法还包括:在进行步骤(1)之前,在所述铝硅玻璃的锡面涂覆保护材料。
18、更优选地,所述保护材料选自抗酸油墨、uv固化油墨、uv胶膜中的至少一种。
19、进一步优选地,所述涂覆保护材料的厚度为15-70μm。
20、本专利技术的第二方面提供第一方面所述的方法制备得到的低雾度玻璃。
21、本专利技术的第三方面提供第二方面所述的低雾度玻璃在显示器件中的应用。
22、采用本专利技术提供的方法制备得到的低雾度玻璃光学均匀性更好,大幅提升了利用浮法硅铝玻璃制备低雾度玻璃制品中的良率。
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1.一种制备低雾度玻璃的方法,其特征在于,该方法包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤(1)中,所述抛光处理的条件还包括:抛光速率为2-4μm/min;
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述铝硅玻璃的厚度为0.3-1.8mm,优选为1.0-1.5mm;
4.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其特征在于,在步骤(2)中,以所述蚀刻溶液I的总质量为基准,所述蚀刻溶液I中含有18-26wt%的氟化氢铵、7-11wt%的柠檬酸、2-5wt%的硫酸钡、2-6wt%的膨润土、8-15wt%的三氯化铁、8-15wt%的硝酸钾、5-9wt%的氟化钾、3-6wt%的氢氟酸和7-44wt%的水。
5.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其特征在于,在步骤(2)中,以所述蚀刻溶液I的总质量为基准,所述蚀刻溶液I中含有25-30wt%的氟化氢铵、8-12wt%的氟化铵、5-10wt%的氟化镁、20-25wt%的草酸、2-3wt%的磷酸钙、4-6wt%的硫酸铵、5-10wt%的六偏磷酸钠和4-31wt%的水。
...【技术特征摘要】
1.一种制备低雾度玻璃的方法,其特征在于,该方法包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤(1)中,所述抛光处理的条件还包括:抛光速率为2-4μm/min;
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述铝硅玻璃的厚度为0.3-1.8mm,优选为1.0-1.5mm;
4.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其特征在于,在步骤(2)中,以所述蚀刻溶液i的总质量为基准,所述蚀刻溶液i中含有18-26wt%的氟化氢铵、7-11wt%的柠檬酸、2-5wt%的硫酸钡、2-6wt%的膨润土、8-15wt%的三氯化铁、8-15wt%的硝酸钾、5-9wt%的氟化钾、3-6wt%的氢氟酸和7-44wt%的水。
5.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其特征在于,在步骤(2)中,以所述蚀刻溶液i的总质量为基准,所述蚀刻溶液i中含有25-30wt%的氟化氢铵、8-...
【专利技术属性】
技术研发人员:李青,李赫然,李刚,赵志龙,王东江,王灵歌,夏焕朗,祁岩,
申请(专利权)人:河南旭阳光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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