一种碳化硅晶圆清洗装置制造方法及图纸

技术编号:40926251 阅读:4 留言:0更新日期:2024-04-18 14:49
本技术公开了一种碳化硅晶圆清洗装置,涉及晶圆清洗技术领域,包括底板,所述底板的中部固定连接有一号清洗浴槽,所述一号清洗浴槽的一侧固定连通有水泵,所述水泵的输出端固定连通有喷头,所述喷头的一侧固定连接在一号清洗浴槽内壁的一侧,所述一号清洗浴槽的一侧设有二号清洗浴槽,所述二号清洗浴槽的底端固定连接在底板的顶端。本技术通过水泵和喷头的配合作用带动一号清洗浴槽内的清洗溶剂进行流动,且喷头的输出端正对定位板一端的中部,使得活动卡接在限位槽内部的碳化硅晶圆附近的清洗溶剂流动,清洗溶剂能够充分除去附着在碳化硅晶圆外表面的油和有机残留物,从而提高该碳化硅晶圆清洗装置的清洗效率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及晶圆清洗,尤其涉及一种碳化硅晶圆清洗装置


技术介绍

1、碳化硅晶圆, 也称碳化硅单晶片,是沿特定的结晶方向将碳化硅晶体切割、研磨、抛光得到片状单晶材料,在对碳化硅晶圆进行加工前需要对其表面进行清洗,将硅片表面附着的油和有机残留物给清洗掉,现有的碳化硅晶圆清洗装置在清洗碳化硅晶圆时,通常将碳化硅晶圆夹持在定位槽的内部,在将其浸泡在含有清洗溶液的清洗浴槽内。

2、现有技术中,如中国专利cn219286352u公开了一种碳化硅晶圆清洗装置,包括晶圆收纳托,晶圆收纳托的内底壁固定连接有托举组件,晶圆收纳托的一侧放置有承载台。

3、但现有技术中,在清洗浴槽内浸泡清洗碳化硅晶圆时,虽然能够去除附着在碳化硅晶圆表面的油和有机残留物,但是由于清洗浴槽内的清洗溶剂静置,没有让清洗溶剂对碳化硅晶圆的表面进行流动清理,导致清洗碳化硅晶圆的效率较低,需要长时间浸泡才能去除碳化硅晶圆表面上的油和有机残留物。


技术实现思路

1、本技术的目的是为了解决现有技术中存在的在清洗浴槽内浸泡清洗碳化硅晶圆时,虽然能够去除附着在碳化硅晶圆表面的油和有机残留物,但是由于清洗浴槽内的清洗液静置,没有让清洗溶液对碳化硅晶圆的表面进行流动清理,导致清洗碳化硅晶圆的效率较低,需要长时间浸泡才能去除碳化硅晶圆表面上的油和有机残留物的问题,而提出的一种碳化硅晶圆清洗装置。

2、为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:一种碳化硅晶圆清洗装置,包括底板,所述底板的中部固定连接有一号清洗浴槽,所述一号清洗浴槽的一侧固定连通有水泵,所述水泵的输出端固定连通有喷头,所述喷头的一侧固定连接在一号清洗浴槽内壁的一侧,所述一号清洗浴槽的一侧设有二号清洗浴槽,所述二号清洗浴槽的底端固定连接在底板的顶端。

3、优选的,所述底板的顶面固定连接有安装架,所述安装架的顶端固定连接有滑槽,所述滑槽的内部滑动卡接有一号安装板。

4、优选的,所述一号安装板的底端固定连接有一号电动伸缩杆,所述一号电动伸缩杆的底端固定连接有二号安装板。

5、优选的,所述二号安装板的底端固定连接有二号电动伸缩杆,所述二号电动伸缩杆的底端均匀固定连接有定位板,所述定位板的底端均匀固定连接有定位卡环,所述定位卡环的底端均匀固定连接有定位凸起。

6、优选的,所述二号安装板底端的四周均固定连接有连接杆,所述连接杆的底端固定连接有三号安装板,所述三号安装板的顶面均匀开设有限位槽,所述限位槽的内壁均匀固定连接有限位卡块。

7、优选的,所述三号安装板的底面均匀固定连接有一号转动电机,所述一号转动电机的输出端固定连接有滚轮,所述滚轮设置在限位槽内壁的下端。

8、优选的,所述一号安装板顶端的中部固定连接有二号转动电机,所述二号转动电机的输出端固定连接有齿轮,所述齿轮的外侧啮合有齿条,所述齿条固定连接在滑槽的两侧。

9、与现有技术相比,本技术的优点和积极效果在于:

10、1、本技术中,通过水泵和喷头的配合作用带动一号清洗浴槽内的清洗溶剂进行流动,且喷头的输出端正对定位板一端的中部,使得活动卡接在限位槽内部的碳化硅晶圆附近的清洗溶剂流动,清洗溶剂能够充分除去附着在碳化硅晶圆外表面的油和有机残留物,从而提高该碳化硅晶圆清洗装置的清洗效率。

11、2、本技术中,通过滚轮带动碳化硅晶圆在限位槽的内部转动,使得在清洗的过程中,清洗溶剂能够清洗到碳化硅晶圆与定位凸起和限位卡块接触的部分,避免碳化硅晶圆静置在限位槽的内部,导致出现清洗溶剂无法清洗到碳化硅晶圆与定位凸起和限位卡块接触的部分的情况。

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【技术保护点】

1.一种碳化硅晶圆清洗装置,包括底板(1),其特征在于:所述底板(1)的中部固定连接有一号清洗浴槽(2),所述一号清洗浴槽(2)的一侧固定连通有水泵(21),所述水泵(21)的输出端固定连通有喷头(22),所述喷头(22)的一侧固定连接在一号清洗浴槽(2)内壁的一侧,所述一号清洗浴槽(2)的一侧设有二号清洗浴槽(3),所述二号清洗浴槽(3)的底端固定连接在底板(1)的顶端。

2.根据权利要求1所述的一种碳化硅晶圆清洗装置,其特征在于:所述底板(1)的顶面固定连接有安装架(4),所述安装架(4)的顶端固定连接有滑槽(41),所述滑槽(41)的内部滑动卡接有一号安装板(42)。

3.根据权利要求2所述的一种碳化硅晶圆清洗装置,其特征在于:所述一号安装板(42)的底端固定连接有一号电动伸缩杆(43),所述一号电动伸缩杆(43)的底端固定连接有二号安装板(44)。

4.根据权利要求3所述的一种碳化硅晶圆清洗装置,其特征在于:所述二号安装板(44)的底端固定连接有二号电动伸缩杆(45),所述二号电动伸缩杆(45)的底端均匀固定连接有定位板(46),所述定位板(46)的底端均匀固定连接有定位卡环(461),所述定位卡环(461)的底端均匀固定连接有定位凸起(462)。

5.根据权利要求4所述的一种碳化硅晶圆清洗装置,其特征在于:所述二号安装板(44)底端的四周均固定连接有连接杆(47),所述连接杆(47)的底端固定连接有三号安装板(48),所述三号安装板(48)的顶面均匀开设有限位槽(481),所述限位槽(481)的内壁均匀固定连接有限位卡块(482)。

6.根据权利要求5所述的一种碳化硅晶圆清洗装置,其特征在于:所述三号安装板(48)的底面均匀固定连接有一号转动电机(483),所述一号转动电机(483)的输出端固定连接有滚轮(484),所述滚轮(484)设置在限位槽(481)内壁的下端。

7.根据权利要求2所述的一种碳化硅晶圆清洗装置,其特征在于:所述一号安装板(42)顶端的中部固定连接有二号转动电机(421),所述二号转动电机(421)的输出端固定连接有齿轮(422),所述齿轮(422)的外侧啮合有齿条(411),所述齿条(411)固定连接在滑槽(41)的两侧。

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【技术特征摘要】

1.一种碳化硅晶圆清洗装置,包括底板(1),其特征在于:所述底板(1)的中部固定连接有一号清洗浴槽(2),所述一号清洗浴槽(2)的一侧固定连通有水泵(21),所述水泵(21)的输出端固定连通有喷头(22),所述喷头(22)的一侧固定连接在一号清洗浴槽(2)内壁的一侧,所述一号清洗浴槽(2)的一侧设有二号清洗浴槽(3),所述二号清洗浴槽(3)的底端固定连接在底板(1)的顶端。

2.根据权利要求1所述的一种碳化硅晶圆清洗装置,其特征在于:所述底板(1)的顶面固定连接有安装架(4),所述安装架(4)的顶端固定连接有滑槽(41),所述滑槽(41)的内部滑动卡接有一号安装板(42)。

3.根据权利要求2所述的一种碳化硅晶圆清洗装置,其特征在于:所述一号安装板(42)的底端固定连接有一号电动伸缩杆(43),所述一号电动伸缩杆(43)的底端固定连接有二号安装板(44)。

4.根据权利要求3所述的一种碳化硅晶圆清洗装置,其特征在于:所述二号安装板(44)的底端固定连接有二号电动伸缩杆(45),所述二号电动伸缩杆(45)的底端均匀固定连接有定位板(...

【专利技术属性】
技术研发人员:卢钟川卢钦月卢诗杰
申请(专利权)人:临沭县金山碳化硅有限责任公司
类型:新型
国别省市:

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