【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于有机化合物的制备，涉及一种4-碘苯乙烯的合成方法。本专利技术制备的4-碘苯乙烯是重要的医药和化工中间体，是常见的光刻胶单体，该类单体及其衍生物树脂可用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工业领域。
技术介绍
1、光刻胶又称“光致抗蚀剂”或“光阻剂”，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。通过紫外光、电子束、离子束、x射线等照射或辐射，光刻胶溶解度发生变化，目前被广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工制作环节。
2、光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上，是用于微细加工技术的关键性电子化学品。根据应用领域的不同，光刻胶可分为pcb光刻胶、lcd光刻胶和半导体光刻胶。因其在半导体等电子器件制造过程中的关键作用，光刻胶成为我国重点发展的电子产业关键材料之一。
3、碘苯乙烯为一种具有广泛工业应用价值的芳香族化合物，是重要的医药和化工中间体，广泛应用于医药及高分...
【技术保护点】
1.一种4-碘苯乙烯的合成方法，其特征是步骤为：
2.按权利要求1所述4-碘苯乙烯的合成方法，其特征是：
3.按权利要求1或2所述4-碘苯乙烯的合成方法，其特征是：步骤a中所述后处理的步骤为：将反应液倒入冰的饱和硫代硫酸钠水溶液中，经搅拌，过滤，收集固相，再经水洗、晾干后，得到粗产物，再将粗产物重结晶。
4.按权利要求1或2所述4-碘苯乙烯的合成方法，其特征是：步骤b中所述后处理的步骤为：将反应液冷却后过滤，固体用丙酮淋洗。
5.按权利要求1或2所述4-碘苯乙烯的合成方法，其特征是：步骤c中所述的后处理的步骤为：反应液静...
【技术特征摘要】
1.一种4-碘苯乙烯的合成方法，其特征是步骤为：
2.按权利要求1所述4-碘苯乙烯的合成方法，其特征是：
3.按权利要求1或2所述4-碘苯乙烯的合成方法，其特征是：步骤a中所述后处理的步骤为：将反应液倒入冰的饱和硫代硫酸钠水溶液中，经搅拌，过滤，收集固相，再经水洗、晾干后，得到粗产物，再将粗产物重结晶。
4.按权利要求1或2所述4-碘苯乙烯的合成方法，其特征是：步骤b中所述后处理的步骤为：将反应液冷却后过滤，固体用丙酮淋洗。
5.按权利要求1或2所述4-碘苯乙烯的合成方法，其特征是：步骤c中所述的后处理的步骤为：反应液静置分层，收集有机相，用水洗，干燥，浓缩后得到粗产物，再经蒸馏。
6.按权...
【专利技术属性】
技术研发人员：肖雅心，柯鑫，郝圣，李宜芯，李卫，
申请(专利权)人：成都东凯芯半导体材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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