System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法技术_技高网

一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法技术

技术编号:40869576 阅读:4 留言:0更新日期:2024-04-08 16:36
本发明专利技术为三元正极材料前驱体技术领域,涉及一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法。所述方法是通过共沉淀反应合成镍钴锰氢氧化物后,以一定的流量通入硫酸钴溶液,并调整反应体系的氨值、转速等条件,最后经过泡碱、洗涤、烘干、除铁等后处理得到表面覆钴多孔氢氧化物。本发明专利技术制备的前驱体是以镍钴锰氢氧化物为核,壳层为疏松多孔氢氧化钴,具有较大的比表面积且振实密度不受影响,有望进一步提高表面的离子与电子导电性及容量保持率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术为三元正极材料前驱体,具体涉及一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法


技术介绍

1、与其他传统二次电池相比,锂离子电池具有能量密度高,循环寿命长,绿色环保等特点,广泛应用于3c电子产品及电动汽车领域。相比于低镍材料,高镍覆钴材料具有更高的能量密度及更低的成本优势而备受关注,但其结构稳定性较差,颗粒表面孔隙少,严重阻碍了锂离子的传输,导致电池循环寿命下降。

2、一般来说,三元前驱体表面包覆一层钴化合物,能保证前驱体结构稳定性,也可有效提高表面的离子与电子导电性,提高锂离子扩散能力,但常规包覆表面孔隙较少,比表面积偏低,基于此,提出本专利技术,通过本专利技术制备可以改善表面孔隙及比表面积偏低问题。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于解决上述技术问题,提供一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,本专利技术工艺简单,颗粒表面包覆氢氧化钴疏松多孔,比表面积略有提高,且振实密度不受影响,为实现上述目的,本专利技术提供以下技术方案。

2、一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,包括以下步骤;

3、(1)以可溶性的镍盐、钴盐、锰盐为金属源,配置一定浓度的金属盐溶液;

4、(2)向反应釜中加入底液并通入保护气氛,浓缩机一并循环;

5、(3)向反应釜通入金属盐溶液、络合剂、沉淀剂,保持一定温度、ph、转速、氨值,反应过程中保持工艺参数在设定范围之内,到达设定目标粒度,停止加料,计为釜1;

6、(4)配置一定浓度的钴盐溶液,在釜1基础上通入钴盐溶液进行包覆,包覆结束后进行后处理后得到表面覆钴多孔氢氧化物。

7、为了更好的实现本专利技术,进一步的,步骤(1)所述的金属盐溶液的金属总浓度为1.4~2.0mo1/l;更优选的,配置镍钴锰金属盐溶液摩尔比为1.5~1.8mol/l。

8、为了更好的实现本专利技术,进一步的,步骤(1)中金属盐溶液中镍钴锰摩尔比为x:y:z,其中x+y+z=1,x=0.90~0.95、y=0.03~0.08、z=0.02~0.05;更优选x=0.92、y=0.05、z=0.03。

9、为了更好的实现本专利技术,进一步的,步骤(1)和步骤(4)中的可溶性镍盐、钴盐、锰盐的金属盐选自相应的硫酸盐、硝酸盐、乙酸盐的至少一种,更优选选自硫酸镍、硫酸钴、硫酸锰。

10、为了更好的实现本专利技术,进一步的,步骤(2)中反应釜的搅拌浆为双层搅拌浆,每层浆叶数量4~6片,上层桨叶角度30~60°,下层桨叶角度60~90°,反应釜加满底液后浓缩机开始循环;底液温度为45~70℃,底液中氨量2~4g/l,底液中氧含量≤5%;更优选地,反应釜上层4片桨叶,下层6片桨叶,上层桨叶角度45°,下层桨叶角度60°,底液温度为50~65℃,底液中氨量2.5~3.5g/l,底液中氧含量≤3%。

11、为了更好的实现本专利技术,进一步的,步骤(2)中还加入晶种,晶种的化学式为(nixcoymnz)oh2,其中x+y+z=1,xyz比例与步骤(1)中镍钴锰比例相同。更优选的,晶种的加入量以固含量表示为30~40g/l,粒径5μm。

12、为了更好的实现本专利技术,进一步的,步骤(3)中金属盐溶液流量10~50l/h梯度升料流,络合剂为氨水,配置为浓度5~12mol/l的溶液;沉淀剂为氢氧化钠,配置为浓度6~12mol/l的溶液;反应工艺参数:氨值1~6g/l,温度设定45~70℃,ph控制范围在9.0~11.0,转速设定80~400r/min,保护气氛流量0.05~0.4m3/h;

13、更优选的,金属盐溶液流量以每4h升5l/h的梯度由10l/h升料流至50l/h,络合剂氨水浓度8~12mol/l,沉淀剂氢氧化钠浓度9~11mol/l;氨值2~4g/l,温度设定55~70℃,ph控制范围在9.5~10.5,转速设定100~350r/min,保护气氛流量0.1~0.3m3/h;

14、为了更好的实现本专利技术,进一步的,步骤(3)中目标粒度为d50粒度控制范围12~15μm,共沉淀反应时长约在40~60h;更优选的,要求d50粒度13~14μm,共沉淀反应时长约在45~55h。

15、为了更好的实现本专利技术,进一步的,步骤(4)中钴盐溶液浓度为0.5~1.5mol/l;温度设定45~70℃,通过络合剂、沉淀剂的加入调整氨值2.0~3.5g/l,ph控制9.5~11.0,转速设定50~150r/min,钴盐溶液流量以10-20l/h梯度升流,通入钴液量90~160l,对应包覆厚度0.2~0.3μm,要求粒度12~15μm,保护气氛流量1~3m3/h;钴盐溶液全部通入后包覆基本完成;保护气氛的流量增大是为了进一步防止包覆氧化;

16、更优选的,钴盐溶液浓度为0.8~1.3mol/l,氨值2.0~3.0g/l,温度设定50~65℃,ph控制10.2~10.5,转速设定80~130r/min,钴盐溶液流量以5l/15min的梯度由10l/h升料流至20l/h,通入钴液量100~150l,对应包覆厚度0.2~0.3μm,要求粒度13~14μm,保护气氛流量1.5~2.5m3/h。

17、为了更好的实现本专利技术,进一步的,步骤(4)中所述的后处理包括:经过反应釜泡碱、陈化釜沉淀、洗涤、干燥、除铁得到表面覆钴多孔氢氧化物;

18、进一步的,步骤(4)中反应釜泡碱是包覆钴后向反应釜通入碱液氢氧化钠修复形貌,如表面裂纹,使颗粒球形度更好,使用氢氧化钠浓度3~8mol/l,浸泡时长3~10h,陈化釜沉淀1~4h,洗涤用3~8mol/l的氢氧化钠溶液和去离子水洗涤,去离子水的温度为60~80℃,成品na≤500ppm,s≤4000ppm;

19、更优选的,反应釜泡碱使用氢氧化钠浓度4~7mol/l,浸泡时长4~8h,陈化釜沉淀1~3h,洗涤用4~7mol/l的氢氧化钠溶液和去离子水洗涤,去离子水的温度为65~75℃,成品na≤400ppm,s≤3000ppm。

20、进一步的,步骤(4)中干燥温度100~150℃,磁性异物≤50ppm;

21、更优选的,干燥温度115℃~140℃,磁性异物≤30ppm。

22、为了更好的实现本专利技术,进一步的,本专利技术所述的保护气氛选自氮气、氦气、氩气的至少一种。

23、与现有技术相比,本专利技术的有益效果如下:

24、本专利技术对目前钴包覆的原生产工艺进行改进,通过多维度工艺条件的优化,在协同作用下明显提升前驱体的比表面积。同时简化操作步骤,提高生产安全系数,对包覆钴阶段表面形貌进行优化,增大表面孔隙,提高比表面积,得到以镍钴锰氢氧化物为核、外层为疏松多孔的氢氧化钴的前驱体。本专利技术在包覆钴阶段改变反应釜中氨的含量、转速、降低钴液流量,从而获得颗粒表面孔隙多,结构稳定的高镍覆钴前驱体,有望进一步提升前驱体表面的离子与电子导电性及容量保持率。

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【技术保护点】

1.一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,包含以下步骤;

2.根据权利要求1所述的一种高镍覆钴表面多孔制备前驱体方法,其特征在于,步骤(1)所述的金属盐浓度为1.4~2.0mo1/L,金属盐溶液镍钴锰摩尔比为x:y:z,其中x+y+z=1,x=0.90~0.95、y=0.03~0.08、z=0.02~0.05。

3.根据权利要求1所述的一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,步骤(1)和步骤(4)中的可溶性镍盐、钴盐、锰盐的金属盐选自相应的硫酸盐、硝酸盐、乙酸盐的至少一种。

4.根据权利要求1所述的一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,步骤(2)中反应釜的搅拌浆为双层搅拌浆,每层浆叶数量4~6片,上层桨叶角度30~60°,下层桨叶角度60~90°;底液温度为45~70℃,底液中氨量2~4g/L,底液中氧含量≤5%。

5.根据权利要求1所述的一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,步骤(2)中还加入晶种,晶种的加入量以固含量表示为30~40g/L,粒径5μm。

6.根据权利要求1所述的一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,步骤(3)中金属盐溶液流量10~50L/h梯度升料流,反应工艺参数:氨值1~6g/L,温度设定45~70℃,PH控制范围在9.0~11.0,转速设定80~400r/min,保护气氛流量0.05~0.4m3/h。

7.根据权利要求1所述的一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,步骤(3)中目标粒度为D50粒度控制范围12~15μm。

8.根据权利要求1所述的一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,步骤(4)中钴盐溶液浓度为0.5~1.5mol/L;温度设定45~70℃,氨值2.0~3.5g/L,PH控制9.5~11.0,转速设定50~150r/min,钴盐溶液流量以10-20L/h梯度升流,包覆厚度0.2~0.3μm,保护气氛流量1~3m3/h。

9.根据权利要求1所述的一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,步骤(4)中所述的后处理包括:经过反应釜泡碱、陈化釜沉淀、洗涤、干燥、除铁得到表面覆钴多孔氢氧化物。

10.根据权利要求9所述的一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,反应釜泡碱是使用氢氧化钠浓度3~8mol/L,浸泡时长3~10h,陈化釜沉淀1~4h,洗涤用3~8mol/L的氢氧化钠溶液和去离子水洗涤,去离子水的温度为60~80℃,成品Na≤500ppm,S≤4000ppm;干燥温度100~150℃,磁性异物≤50ppm。

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【技术特征摘要】

1.一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,包含以下步骤;

2.根据权利要求1所述的一种高镍覆钴表面多孔制备前驱体方法,其特征在于,步骤(1)所述的金属盐浓度为1.4~2.0mo1/l,金属盐溶液镍钴锰摩尔比为x:y:z,其中x+y+z=1,x=0.90~0.95、y=0.03~0.08、z=0.02~0.05。

3.根据权利要求1所述的一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,步骤(1)和步骤(4)中的可溶性镍盐、钴盐、锰盐的金属盐选自相应的硫酸盐、硝酸盐、乙酸盐的至少一种。

4.根据权利要求1所述的一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,步骤(2)中反应釜的搅拌浆为双层搅拌浆,每层浆叶数量4~6片,上层桨叶角度30~60°,下层桨叶角度60~90°;底液温度为45~70℃,底液中氨量2~4g/l,底液中氧含量≤5%。

5.根据权利要求1所述的一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,步骤(2)中还加入晶种,晶种的加入量以固含量表示为30~40g/l,粒径5μm。

6.根据权利要求1所述的一种高镍覆钴表面多孔前驱体制备方法,其特征在于,步骤(3)中金属盐溶液流量10~50l/h梯度升料流,反应工艺参数:氨值1~6g/l,温度设定...

【专利技术属性】
技术研发人员:邢建国吉同棕郑斌荀瑞芝沈家成
申请(专利权)人:浙江海创锂电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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