【技术实现步骤摘要】
本公开涉及用于处理衬底的设备，尤其涉及在衬底处理期间从化学反应的高温冷却下来时更有效的设备。
技术介绍
1、传统上，在衬底处理期间，处理气体通过喷淋头供应到室。必须将喷淋头控制在特定温度，以将处理气体的特性保持在恒定状态。因为喷淋头必须保持在一定温度，所以需要用于向喷淋头供热的装置和用于冷却喷淋头的装置。
2、在供热和冷却的两个功能中，本专利技术提出改进喷淋头冷却。
3、应该注意的是，喷淋头还用作产生等离子体的电极。为此，在衬底处理期间，某些电气部件被应用于喷淋头。
4、当在特定过程中施加超过一定水平的rf(射频)等离子体功率时，这可能会增加喷淋头的温度。这种增加有时会很快发生。这种快速的温度上升可能导致温度控制的丧失。因此，本专利技术提出增强冷却性能，从而实现高效冷却。
5、本部分中阐述的任何讨论，包括对问题和解决方案的讨论，已经包括在本公开中，仅仅是为了提供本公开的背景，并且不应被认为是承认任何或所有的讨论在本专利技术被做出时是已知的，或者构成现有技术。
技术实现思路
1、提供本
技术实现思路
是为了以简化的形式介绍一些概念。这些概念在以下公开的示例实施例的详细描述中被进一步详细描述。本
技术实现思路
不旨在标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不旨在用于限制所要求保护的主题的范围。
2、根据一实施例，可以提供一种衬底处理设备，包括：衬底反应室，其配置为保持和处理衬底；远程等离子体单元，用于产生自由基气体以清洁衬底反应室
3、在至少一个方面，衬底处理设备还包括：入口罩，其配置在衬底反应室上方，以将由风扇产生的空气流供应到衬底反应室；以及罩出口，其配置在衬底反应室上方，横跨入口罩以放出空气流。
4、在至少一个方面，衬底处理设备还包括安装在罩出口中的排气风扇，以加速从衬底反应室排出的空气流。
5、在至少一个方面，衬底处理设备的罩出口的数量大于2。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种衬底处理设备，包括：
2.根据权利要求1所述的衬底处理设备，还包括：
3.根据权利要求2所述的衬底处理设备，还包括：
4.根据权利要求2所述的衬底处理设备，
【技术特征摘要】
1.一种衬底处理设备，包括：
2.根据权利要求1所述的衬底处理设备，还包括：
【专利技术属性】
技术研发人员：郑元基，金大渊，
申请(专利权)人：ASMIP私人控股有限公司，
类型：发明
国别省市：
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