【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于将传感器定位在目标上方的传感器定位方法以及相应的定位系统。本专利技术还涉及包括这种定位系统的光刻设备和包括这种定位系统的量测设备。本专利技术还涉及一种使用光刻设备制造器件的方法。
技术介绍
1、光刻设备是被构造成将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如制造集成电路(ic)。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如，掩模)的图案(也经常被称为“设计布局”或“设计”)投影到设置在衬底(例如，晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
2、通常，所制造的集成电路包括含有不同图案的多个层，每个层均使用曝光过程生成。为了确保所制造的集成电路的适当操作，连续曝光的层需要彼此适当地对准。为了实现这一点，衬底通常被设置有多个所谓的对准标记(也被称为对准目标)，由此对准标记的位置用于确定或估计先前曝光的图案的位置，该位置也被称为目标部分，因为它是要与先前曝光的图案成一直线或对准地曝光的后续图案的目标位置。这样，在后续层的曝光之前，对准标记的位置被确定并且用于确定先前曝光的图案的位置。
3、通常，为了确定这种对准标记的位置，应用对准传感器，该对准传感器可以例如被配置为将辐射束投影到对准标记或目标上并且基于反射的辐射束来确定对准标记的位置。在实际的标记位置和所测量的标记位置之间可能存在偏差，导致随后的层被投影或曝光在与先前曝光的图案不成一直线(即，不对准)的位置上，从而导致所谓的重叠误差。在光刻处理环境中，可以例如在被配置为测量衬底上的重叠或重叠分布的量测设备或系统中检查已经曝光的衬底。当这样的重叠或
4、测量衬底上的对准标记的位置以及重叠标记的位置涉及将传感器(例如，对准传感器或重叠传感器)定位在目标(例如，对准标记或重叠标记)上方，该目标位于能够移动的物体(例如，衬底或衬底台)上。在每个待测量的能够移动的物体有多个目标的情况下，可以重复地进行传感器的定位。
5、在现有技术中，当通过移动目标而将传感器定位在目标上方时，在移动传感器之后且在传感器能够执行测量之前，可能存在一些稳定时间。另外或替代地，传感器可能需要时间来使目标处于可接受的聚焦范围内。稳定时间和聚焦时间二者都会对总测量时间以及因此对生产量产生不利影响。
技术实现思路
1、考虑到上述情况，本专利技术的一个目的是提供一种用于将传感器定位在目标上方的方法，该方法需要较少的时间，从而提高生产量。
2、根据本专利技术的实施例，提供了一种用于将传感器定位在位于能够移动的物体上的目标上方的方法，所述方法包括以下步骤：
3、a.移动所述物体以将所述目标移动到期望位置，
4、b.在朝向所述目标的被测得的瞬时位置的方向上移动所述传感器，
5、c.当所述传感器位于所述目标上方时，将所述传感器与所述目标一起移动到所述目标的所述期望位置。
6、根据本专利技术的另一个实施例，提供了一种用于将传感器定位在位于能够移动的物体上的目标上方的定位系统，所述定位系统包括：
7、-物体致动系统，所述物体致动系统用于移动和定位所述能够移动的物体，
8、-传感器致动系统，所述传感器致动系统用于移动和定位所述传感器，
9、-物体测量系统，所述物体测量系统用于测量所述能够移动的物体的瞬时位置，
10、-传感器测量系统，所述传感器测量系统用于测量传感器的瞬时位置，以及
11、-控制单元，所述控制单元用于基于所述物体测量系统的输出和位于所述物体上的所述目标的期望瞬时位置来驱动物体致动系统，并且所述控制单元用于基于所述传感器测量系统的输出和所述传感器的期望瞬时位置来驱动所述传感器致动系统，
12、其中，所述控制单元被配置为：
13、a.驱动所述物体测量系统以将所述目标移动到期望位置，
14、b.驱动所述传感器致动系统以使所述传感器在朝向所述目标的测量瞬时位置的方向上移动，
15、c.当所述传感器位于所述目标上方时，驱动所述传感器致动系统以将所述传感器与所述目标一起移动到所述目标的所述期望位置。
16、根据本专利技术的另一个实施例，提供了一种包括根据本专利技术的定位系统的光刻设备。
17、根据本专利技术的又一个实施例，提供了一种量测设备，所述量测设备包括：
18、-能够移动的传感器，
19、-用于保持带有目标的物体的能够移动的载物台，以及
20、-根据本专利技术的定位系统，
21、其中，所述物体致动系统被配置为通过移动和定位所述载物台来移动和定位所述物体。
22、根据本专利技术的又一个实施例，提供了一种器件制造方法，其中，使用根据本专利技术的光刻设备。
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1.一种用于将传感器定位在位于能够移动的物体上的目标上方的方法，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述传感器限定位于所述物体处的测量位置。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，通过将所述传感器移动到由所述目标的被测得的瞬时位置和所述传感器的可用移动范围确定的期望的等待位置来执行步骤b。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，所述传感器是光学传感器，并且其中，所述方法还包括：在所述目标到达所述期望位置之前，在步骤c期间启动的将所述传感器聚焦在所述目标上的步骤。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，在步骤c期间，基于所述目标的被测得的瞬时位置来控制所述传感器的移动，以使所述传感器的移动与所述目标的移动同步。
6.根据权利要求3所述的方法，其中，所述等待位置处于所述可用移动范围的边缘处。
7.根据权利要求3所述的方法，其中，所述等待位置位于距所述可用移动范围的边缘的预定距离处。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，在步骤c之前使所述传感器加速以匹配
9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其中，在步骤c期间至少部分地执行利用所述传感器对所述目标的参数的测量。
10.根据权利要求6或7所述的方法，其中，所述目标的所述期望位置处于所述可用移动范围的中间位置，例如中心位置。
11.根据权利要求6或7所述的方法，其中，所述目标的所述期望位置处于或接近所述可用移动范围的相对边缘。
12.一种用于将传感器定位在位于能够移动的物体上的目标上方的定位系统，包括：
13.根据权利要求12所述的定位系统，其中，所述控制单元被配置为基于所述传感器测量系统的输出、所述传感器的期望瞬时位置、和所述能够移动的物体的被测得的瞬时位置来驱动所述传感器致动系统。
14.根据权利要求12或13所述的定位系统，其中，所述传感器是光学传感器，并且其中，所述控制单元被配置为在驱动所述传感器致动系统以将所述传感器与所述目标一起移动到所述目标的所述期望位置期间，开始将所述传感器聚焦在所述目标上。
15.一种量测设备，包括：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于将传感器定位在位于能够移动的物体上的目标上方的方法，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述传感器限定位于所述物体处的测量位置。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，通过将所述传感器移动到由所述目标的被测得的瞬时位置和所述传感器的可用移动范围确定的期望的等待位置来执行步骤b。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，所述传感器是光学传感器，并且其中，所述方法还包括：在所述目标到达所述期望位置之前，在步骤c期间启动的将所述传感器聚焦在所述目标上的步骤。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，在步骤c期间，基于所述目标的被测得的瞬时位置来控制所述传感器的移动，以使所述传感器的移动与所述目标的移动同步。
6.根据权利要求3所述的方法，其中，所述等待位置处于所述可用移动范围的边缘处。
7.根据权利要求3所述的方法，其中，所述等待位置位于距所述可用移动范围的边缘的预定距离处。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，在步骤c之前...
【专利技术属性】
技术研发人员：J·J·M·范德维基德翁，迈克尔·约翰内斯·克里斯蒂安·龙德，B·A·G·洛马士，B·L·W·M·范德文，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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