【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体制造，特别涉及一种涂胶补液装置。
技术介绍
1、光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、x射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。光刻胶在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。按曝光光源和辐射源的不同，光刻胶可分为g/i线光刻胶、krf光刻胶、arf光刻胶、euv光刻胶等。
2、光刻胶的粘度是其一重要的特性参数，该参数衡量光刻胶的流动特性，黏滞性随着光刻胶中的溶剂的减少而增加；粘度越高，则光刻胶的流动性越差。
3、在光刻工艺中，需要在晶圆上覆上一层光刻胶，涂胶过程中需要抽吸装置通过管道抽吸储胶装置内的光刻胶，以向涂胶机补充光刻胶。对于粘度大、流动性差的光刻胶，例如聚酰亚胺光刻胶，在管道内流动速度较慢，其补充光刻胶的过程耗时较长，造成整个涂胶过程耗时较长，在此过程中，其他设备机台都处于空等待状态，给机台产能造成巨大的浪费，所以造成聚酰亚胺工艺产出很低。
4、因此需要一种涂胶补液装置，以加快光刻胶的补充速度，提高机台产能。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种涂胶补液装置，该装置在储胶单元和抽吸单元之间增加了缓冲单元，该缓冲单元可灵活布置在靠近抽吸单元的位置，则利于缩短补液过程中的光刻胶的流动距离，进而减少补液时间，提高机台产能。
2、为了解决上述技术问题，本技术提供了一种涂胶补液装置，包括：储胶单元、缓冲单元
3、所述储胶单元用于存储胶体；
4、所述缓冲单元的内腔与所述储胶单元的内腔连通，所述缓冲单元用于接收由所述储胶单元输送的胶体；
5、所述抽吸单元用于抽吸所述缓冲单元内的胶体并将所述胶体输送至指定位置。
6、可选地，所述缓冲单元包括缓冲罐，所述缓冲罐的内腔通过输入管道与所述储胶单元的内腔连通，所述缓冲罐的内腔通过输出管道与所述抽吸单元的进液口连通。
7、可选地，所述缓冲罐上设置有通气口。
8、可选地，所述缓冲单元还包括液位检测组件，所述液位检测组件设置于所述缓冲罐用于检测所述缓冲罐内的胶体的液位。
9、可选地，所述液位检测组件包括第一液位传感器和第二液位传感器，所述第一液位传感器用于检测补液位，所述第二液位传感器用于检测停止补液位，所述停止补液位高于所述补液位。
10、可选地，所述液位检测组件还包括第三液位传感器，所述第三液位传感器用于检测停机液位，所述停机液位高于所述停止补液位。
11、可选地，所述涂胶补液装置还包括第一检测单元，所述第一检测单元设置于所述输入管道用于检测所述输入管道是否空管；
12、和/或；所述涂胶补液装置还包括第二检测单元，所述第二检测单元设置于所述输出管道用于检测所述输出管道是否空管。
13、可选地，所述储胶单元包括储胶罐，所述储胶罐上设置有注气口。
14、可选地，所述储胶罐上设置有排气口。
15、可选地，所述排气口包括设置于所述储胶罐上的过压排气口和主动排气口。
16、如此配置，本是技术中，在储胶单元和抽吸单元之间增加了缓冲单元。因此，可以在涂胶前，提前由储胶单元向缓冲单元内输送胶体，在涂胶时由抽吸单元向缓冲单元内抽吸胶体以输送至涂胶机。由于缓冲单元内存储的胶量不需要太大，故缓冲单元不需要太大的存储腔室，缓冲单元可设置较小的体积，因此缓冲单元可以灵活的布置，缓冲单元可与抽吸单元背靠背布置，则可以有效减小缓冲单元与抽吸单元之间的距离，则利于缩短涂胶过程中的光刻胶的流动距离，进而减少涂胶过程的补液时间，有助于以提高机台产能，同时也有助于降低生产成本。
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1.一种涂胶补液装置，其特征在于，包括：储胶单元、缓冲单元以及抽吸单元；
2.如权利要求1所述的涂胶补液装置，其特征在于，所述缓冲单元包括缓冲罐，所述缓冲罐的内腔通过输入管道与所述储胶单元的内腔连通，所述缓冲罐的内腔通过输出管道与所述抽吸单元的进液口连通。
3.如权利要求2所述的涂胶补液装置，其特征在于，所述缓冲罐上设置有通气口。
4.如权利要求2所述的涂胶补液装置，其特征在于，所述缓冲单元还包括液位检测组件，所述液位检测组件设置于所述缓冲罐用于检测所述缓冲罐内的胶体的液位。
5.如权利要求4所述的涂胶补液装置，其特征在于，所述液位检测组件包括第一液位传感器和第二液位传感器，所述第一液位传感器用于检测补液位，所述第二液位传感器用于检测停止补液位，所述停止补液位高于所述补液位。
6.如权利要求5所述的涂胶补液装置，其特征在于，所述液位检测组件还包括第三液位传感器，所述第三液位传感器用于检测停机液位，所述停机液位高于所述停止补液位。
7.如权利要求2-6中任一项所述的涂胶补液装置，其特征在于，所述涂胶补液装置还包
8.如权利要求1所述的涂胶补液装置，其特征在于，所述储胶单元包括储胶罐，所述储胶罐上设置有注气口。
9.如权利要求8所述的涂胶补液装置，其特征在于，所述储胶罐上设置有排气口。
10.如权利要求9所述的涂胶补液装置，其特征在于，所述排气口包括设置于所述储胶罐上的过压排气口和主动排气口。
...【技术特征摘要】
1.一种涂胶补液装置，其特征在于，包括：储胶单元、缓冲单元以及抽吸单元；
2.如权利要求1所述的涂胶补液装置，其特征在于，所述缓冲单元包括缓冲罐，所述缓冲罐的内腔通过输入管道与所述储胶单元的内腔连通，所述缓冲罐的内腔通过输出管道与所述抽吸单元的进液口连通。
3.如权利要求2所述的涂胶补液装置，其特征在于，所述缓冲罐上设置有通气口。
4.如权利要求2所述的涂胶补液装置，其特征在于，所述缓冲单元还包括液位检测组件，所述液位检测组件设置于所述缓冲罐用于检测所述缓冲罐内的胶体的液位。
5.如权利要求4所述的涂胶补液装置，其特征在于，所述液位检测组件包括第一液位传感器和第二液位传感器，所述第一液位传感器用于检测补液位，所述第二液位传感器用于检测停止补液...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐鹏飞，梅雪，
申请(专利权)人：中芯先锋集成电路制造绍兴有限公司，
类型：新型
国别省市：
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