【技术实现步骤摘要】
本技术涉及沉积设备，具体涉及一种原子层沉积设备用新型上料台。
技术介绍
1、原子层沉积是一种将物质以单原子膜形式一层一层地镀在基底表面的技术，其具有薄膜厚度纳米可控，均匀性好等特点，因此被广泛应用于微纳米电子器件，太阳能电池等领域。原子层沉积的原理是将前驱体通入真空腔体中与待包覆基体发生化学吸附，伴随惰性气体清洗腔体之后，另一前驱体通入腔体与上阶段生成物发生化学反应。
2、公开号为cn213295505u的中国技术专利公开了一种原子层沉积设备，包括具有内腔的反应室、设置在反应室内用于承载沉积用衬底的载台及用于加热衬底的加热机构，原子层沉积设备还包括盖合开口使得反应室的内腔形成封闭腔室的上盖，载台设置在上盖底面，当衬底安装在载台上时，原子层沉积设备还包括设置在反应室侧壁的进气口和排气口。但是其装置在使用的时候需要将上盖打开以便放入待沉积的工件，这样不仅容易导致外部空气流入反应室的内部，影响反向室内部的真空环境，从而影响沉积效果，而且加工工时过长。
3、为此提出一种原子层沉积设备用新型上料台。
技术实现思路
1、本技术的目的在于：为解决现有技术存在的问题，本技术提供了一种原子层沉积设备用新型上料台。
2、本技术为了实现上述目的具体采用以下技术方案：
3、一种原子层沉积设备用新型上料台，包括进气口、抽气口以及开口朝下的反应箱，所述反应箱的外壁面上设置有支撑组件，支撑组件远离反应箱的一端上设置有安装底座，安装底座的顶部通过三个圆周分布的伸缩机
4、进一步地，所述密封底板的半径大小为反应箱内半径大小的一点二倍。
5、进一步地，所述密封底板与伸缩机构之间的连接方式为螺纹连接，且密封底板上壁面的边缘处设置有与反应箱内半径大小一致的密封橡胶垫。
6、进一步地，所述取出组件包括安装槽，所述固定支板的顶部开设有与放置环圆心处于同一竖直轴线上的圆形安装槽，安装槽的内部设置有升降机构，升降机构的输出端上安装有可拆卸的“十”字形的托举支架。
7、进一步地，所述安装槽的外侧开设有与托举支架相对应的四个收纳槽。
8、进一步地，所述支撑组件包括套接环，所述反应箱的外壁面上通过焊接工艺连接有套接环，套接环的底部圆周分布有三个铸造一体的支撑腿，每个支撑腿的内壁面上均开设有可容纳安装底座的卡合槽。
9、本技术的有益效果如下：
10、1、本技术通过设置的四个放置环，可以单次实现多个工件的沉积，减少后续加工工序，缩短工时，降低成本；设置的伸缩机构可以有效控制固定支板进行上下平稳的移动，从而使得放置在放置环内部的工件可以进行原子层沉积作业；通过设置的密封橡胶垫能够在进行原子层沉积作业的时候对反应箱底部的开口处进行密封处理，设置的上密封板能够在未进行原子层沉积的时候对反应箱底部开口进行密封处理，有效避免外部空气通过流至反应箱的内部，破坏了反应箱的真空环境，出现原子层沉积设备频繁宕机的现象；另外设置的取出组件方便将完成原子层沉积的工件从放置环上顶出，从而便于工人将其取出。
11、2、本技术通过设置的升降机构方便带动托举支架向上移动，从而能够将放置在托举支架顶部完成反应的工件从放置环的内部托举出，便于后续工人将工件从放置环内部取下，结构简单易于操作。
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1.一种原子层沉积设备用新型上料台，其特征在于，包括进气口(2)、抽气口(3)以及开口朝下的反应箱(1)，所述反应箱(1)的外壁面上设置有支撑组件(4)，支撑组件(4)远离反应箱(1)的一端上设置有安装底座(5)，安装底座(5)的顶部通过三个圆周分布的伸缩机构(10)连接有密封底板(6)，密封底板(6)的顶部通过固定支杆连接有圆盘，圆盘的外壁面上通过榫卯工艺连接有四个固定支板(7)，每个固定支板(7)的顶部均设置开口朝上的放置环(8)，放置环(8)的内腔设置有用于将完成原子层沉积的工件取出的取出组件(9)，固定支板(7)顶部中心位置上螺纹连接有连接杆(11)，连接杆(11)的另一端上连接有设置于反应箱(1)内部的上密封板(12)。
2.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备用新型上料台，其特征在于，所述密封底板(6)的半径大小为反应箱(1)内半径大小的一点二倍。
3.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备用新型上料台，其特征在于，所述密封底板(6)与伸缩机构(10)之间的连接方式为螺纹连接，且密封底板(6)上壁面的边缘处设置有与反应箱(1)内半径大小一致的
4.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备用新型上料台，其特征在于，所述取出组件(9)包括安装槽(904)，所述固定支板(7)的顶部开设有与放置环(8)圆心处于同一竖直轴线上的圆形安装槽(904)，安装槽(904)的内部设置有升降机构(901)，升降机构(901)的输出端上安装有可拆卸的“十”字形的托举支架(902)。
5.根据权利要求4所述的一种原子层沉积设备用新型上料台，其特征在于，所述安装槽(904)的外侧开设有与托举支架(902)相对应的四个收纳槽(903)。
6.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备用新型上料台，其特征在于，所述支撑组件(4)包括套接环(401)，所述反应箱(1)的外壁面上通过焊接工艺连接有套接环(401)，套接环(401)的底部圆周分布有三个铸造一体的支撑腿(402)，每个支撑腿(402)的内壁面上均开设有可容纳安装底座(5)的卡合槽(403)。
...【技术特征摘要】
1.一种原子层沉积设备用新型上料台，其特征在于，包括进气口(2)、抽气口(3)以及开口朝下的反应箱(1)，所述反应箱(1)的外壁面上设置有支撑组件(4)，支撑组件(4)远离反应箱(1)的一端上设置有安装底座(5)，安装底座(5)的顶部通过三个圆周分布的伸缩机构(10)连接有密封底板(6)，密封底板(6)的顶部通过固定支杆连接有圆盘，圆盘的外壁面上通过榫卯工艺连接有四个固定支板(7)，每个固定支板(7)的顶部均设置开口朝上的放置环(8)，放置环(8)的内腔设置有用于将完成原子层沉积的工件取出的取出组件(9)，固定支板(7)顶部中心位置上螺纹连接有连接杆(11)，连接杆(11)的另一端上连接有设置于反应箱(1)内部的上密封板(12)。
2.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备用新型上料台，其特征在于，所述密封底板(6)的半径大小为反应箱(1)内半径大小的一点二倍。
3.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备用新型上料台，其特征在于，所述密封底板(6)与伸缩机构(10)之间的连接方式为螺...
【专利技术属性】
技术研发人员：张远昊，刘载安，金在宽，
申请(专利权)人：东领科技装备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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