【技术实现步骤摘要】
本技术涉及喷淋装置，具体涉及一种喷淋均匀的原子层沉积喷淋设备。
技术介绍
1、原子层沉积设备是一种用于薄膜生长的高精度化学气相沉积技术。它具有逐层反应的特点，通过交替注入不同的前体材料和气体，使得薄膜在原子尺度上逐步生长。在ald工艺过程中，化学反应前驱体通常通过安装在反应腔顶部的喷淋装置进入反应腔发生薄膜沉积反应。
2、公开号为cn115404463a的中国专利文件公开了一种原子层沉积喷淋装置，包括若干个第一导气柱阵列，每个第一导气柱阵列包括若干个第一导气柱；若干个第二导气柱阵列，每个第二导气柱阵列包括若干个第二导气柱；第一导气柱阵列和第二导气柱阵列间隔交替排布；冷却组件，包括若干个第一冷却带和若干个第二冷却带；第一冷却带与第一导气柱阵列一一热接触对应。针对上述技术方案，在使用中存在如下缺陷：若发生化学反应前驱体在原子层沉积喷淋装置内发生冷凝，不仅严重影响薄膜厚度和组分的均匀性，长期还会堵塞喷淋装置，但现有的喷淋设备在发生堵塞后，往往需要人工进行疏通，疏通清理过程十分麻烦，费时费力，影响喷淋设备正常使用。
3、...
【技术保护点】
1.一种喷淋均匀的原子层沉积喷淋设备，其特征在于，包括进水管(1)，所述进水管(1)的下方设置有连接管(2)，所述进水管(1)和连接管(2)之间设置有用于对喷淋液进行过滤的过滤机构(4)，所述连接管(2)的底部固定连接有喷淋盘(3)，所述喷淋盘(3)的顶部固定连接有连接柱(5)，所述连接柱(5)表面设置有用于调节连接柱(5)高度的高度调节组件(6)，所述喷淋盘(3)的底部贯通开设有出水孔(7)，所述喷淋盘(3)表面设置有用于对出水孔(7)进行疏通的自动清理组件(8)。
2.根据权利要求1所述的一种喷淋均匀的原子层沉积喷淋设备，其特征在于，所述过滤机构(4)...
【技术特征摘要】
1.一种喷淋均匀的原子层沉积喷淋设备，其特征在于，包括进水管(1)，所述进水管(1)的下方设置有连接管(2)，所述进水管(1)和连接管(2)之间设置有用于对喷淋液进行过滤的过滤机构(4)，所述连接管(2)的底部固定连接有喷淋盘(3)，所述喷淋盘(3)的顶部固定连接有连接柱(5)，所述连接柱(5)表面设置有用于调节连接柱(5)高度的高度调节组件(6)，所述喷淋盘(3)的底部贯通开设有出水孔(7)，所述喷淋盘(3)表面设置有用于对出水孔(7)进行疏通的自动清理组件(8)。
2.根据权利要求1所述的一种喷淋均匀的原子层沉积喷淋设备，其特征在于，所述过滤机构(4)包括过滤管(401)，且过滤管(401)与进水管(1)螺纹连接，且过滤管(401)与连接管(2)活动插接，所述过滤管(401)的内壁活动卡接有过滤芯(402)。
3.根据权利要求2所述的一种喷淋均匀的原子层沉积喷淋设备，其特征在于，所述过滤管(401)的内壁固定连接有密封圈(403)，且密封圈(403)为橡胶材质。
4.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：金在宽，宋广伟，刘载安，
申请(专利权)人：东领科技装备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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