【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及原子层沉积，具体涉及一种连续生产用原子层沉积设备。
技术介绍
1、原子层沉积（ald）是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积方法,在ald工艺过程中，化学反应前驱气体通常通过安装在反应腔顶部的喷淋装置进入反应腔发生薄膜沉积反应，在传统的原子层沉积工艺过程中，通常需要在特定的温度场内将至少两种化学反应前驱气体切换通入反应腔，以实现在晶圆表面发生自饱和薄膜沉积反应，为实现大批量的晶圆镀膜，目前原子层沉积生产设备常在反应腔中设置储放架，用于存储大量的晶圆，从而对复数的晶圆同时进行沉积镀膜。
2、现有的原子层沉积大批量生产设备在使用时，沉积过程中的反应腔内部处于高温状态，由于加热元件的布置位置固定，且在向反应腔内交替输入化学反应前驱气体时，会短暂破坏反应腔内的真空环境，使反应腔内各处真空度不均匀，导致反应腔内部各处具有一定的温度梯度，而由于大批量生产设备内部的晶圆为节省空间，一般由上至下堆放，故而反应腔内部的温差会导致晶圆表面沉积的单原子膜生长不均，导致镀膜质量存在个体性差异，为此提出一种连续生产用原子层沉积
【技术保护点】
1.一种连续生产用原子层沉积设备，其特征在于，包括沉积设备本体（1），所述沉积设备本体（1）的顶部固定安装有沉积腔室（2）和离子清洗腔室（3），所述沉积腔室（2）和所述离子清洗腔室（3）的内部相连通，所述沉积腔室（2）和所述离子清洗腔室（3）的底部内壁均固定安装有电动滑轨（4），所述沉积腔室（2）和所述离子清洗腔室（3）之间设置有电动滑门（5），所述电动滑门（5）与所述电动滑轨（4）相适配，所述电动滑轨（4）上驱动安装有电动滑座（6），所述电动滑座（6）的顶部固定安装有运货架（7），所述运货架（7）的内部固定安装有多个由上至下均匀分布的承载板（8），所述沉积腔室（2）...
【技术特征摘要】
1.一种连续生产用原子层沉积设备，其特征在于，包括沉积设备本体（1），所述沉积设备本体（1）的顶部固定安装有沉积腔室（2）和离子清洗腔室（3），所述沉积腔室（2）和所述离子清洗腔室（3）的内部相连通，所述沉积腔室（2）和所述离子清洗腔室（3）的底部内壁均固定安装有电动滑轨（4），所述沉积腔室（2）和所述离子清洗腔室（3）之间设置有电动滑门（5），所述电动滑门（5）与所述电动滑轨（4）相适配，所述电动滑轨（4）上驱动安装有电动滑座（6），所述电动滑座（6）的顶部固定安装有运货架（7），所述运货架（7）的内部固定安装有多个由上至下均匀分布的承载板（8），所述沉积腔室（2）的两侧均固定安装有气体发生腔室（9），所述气体发生腔室（9）的一侧均固定安装有输气管（10），所述输气管（10）的一端均延伸至所述沉积腔室（2）的内部并固定安装有进气管（11），沿竖直方向上任意相邻的两个所述进气管（11）之间均固定安装有同一个连通管（15），所述沉积腔室（2）的底部内壁上固定安装有悬挂立架（12），所述悬挂立架（12）上固定安装有多个从上至下依次均匀分布的悬挂杆（13），所述悬挂杆（13）朝向所述离子清洗腔室（3）的一端均固定安装有喷淋盘（14），多个所述喷淋盘（14）的位置分别与多个所述承载板（8）的位置相对应，位于同一高度的两个所述进气管（11）均与所述喷淋盘（14）内部相连通，所述沉积腔室（2）的内部设置有预热组件；
2.根据权利要求1所述的一种连续生产用原子层沉积设备，其特征在于，所述喷淋盘（14）的内部固定安装有水平设置的隔板（19），两个所述进气管（11）的一端均延伸至所述喷淋盘（14）的内部并分别位于所述隔板（19）的顶部和底部，所述喷淋盘（14）的底部固定安装有多个均匀分布的喷淋管（20），其中多个所述喷淋管（20）的顶端贯穿所述隔板（19）。
3.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：张小强，张远昊，
申请(专利权)人：东领科技装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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