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本发明公开了一种连续生产用原子层沉积设备，涉及原子层沉积技术领域。本发明包括沉积设备本体，所述沉积设备本体的顶部固定安装有沉积腔室和离子清洗腔室，所述沉积腔室和所述离子清洗腔室的内部相连通，所述沉积腔室和所述离子清洗腔室的底部内壁均固定安装...
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