【技术实现步骤摘要】
本技术涉及原子层沉积,具体涉及一种用于原子层沉积设备进气管路。
技术介绍
1、原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法。第一种前驱体输入到基体材料表面并通过化学吸附(饱和吸附)保持在表面,当第二种前驱体通入反应器,就会与已吸附于基体材料表面的第一前驱体发生反应,两个前驱体之间会发生置换反应并产生相应的副产物,直到表面的第一前驱体完全消耗,反应会自动停止并形成需要的原子层,不断重复这种反应即可再基体表面形成所需的薄膜,
2、目前在进行原子层沉积时,第一前驱体与第二前驱体均由同一管道进入,在实际使用时,第一前驱体停止流通后管道内部还残留第一前驱体,接着第二前驱体进入管道,从而第二前驱体与残留的第一前驱体发生原子层沉积,沉积的原子层附着在管道内壁,长时间使用后附着的原子层增加,导致管壁直径减小,减少第一前驱体与第二前驱体的通过流量,为此提出一种用于原子层沉积设备进气管路。
技术实现思路
1、本技术的目的在于:为解决第一前驱体停止流通后管道内部还残留第一前驱体的问题,本技术提供了一种用于原子层沉积设备进气管路。
2、本技术为了实现上述目的具体采用以下技术方案:
3、一种用于原子层沉积设备进气管路,包括固定箱,所述固定箱上设置有用于气体混合的连接组件,所述连接组件上设置有用于控制气体混合的转动组件,所述连接组件上设置有用于输送载气的固定管,所述固定管上设置有用于输送前驱体的分离组件。
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5、进一步地,所述连接组件包括固定块,所述固定块与固定箱相连接,所述固定块一侧分别开设有多个第一通孔、第二通孔和第三通孔,且第一通孔、第二通孔和第三通孔贯穿固定块,所述固定块内部开设有转动槽,所述固定块一侧固定连接有多个固定罩,所述固定罩外侧开设有多个连接孔。
6、进一步地,所述转动组件包括转动板,所述转动板在转动槽内部转动,所述转动板外侧分别开设有多个第二连通孔和第一连通孔,且第二连通孔、第一连通孔和第三通孔、第一通孔相对应,所述转动板内部固定连接有固定轴,且固定轴在固定块内部转动,所述固定轴外侧安装有电动机,所述电动机与固定块。
7、进一步地,所述固定管与固定块相连接,所述固定管内部设置有控制阀。
8、进一步地,所述分离组件包括第一连接管,所述第一连接管与固定管相连接,所述第一连接管内部固定连接有第二连接管,且第一连接管、第二连接管与固定块相连接。
9、本技术的有益效果如下:
10、本技术通过连接组件和转动组件的设置,实现了通过固定块、第一通孔、第二通孔、第三通孔、转动板、第一连通孔和第二连通通孔的配合,从而对第一前驱体和第二前驱体进行分离,避免第一前驱体停止流通后管道内部还残留第一前驱体,确保第一前驱体与第二前驱体的通过流量。
11、通过固定管和分离组件的设置,实现了通过固定管、第一连接管和第二连接管的配合,从而对载气、第一前驱体和第二前驱体进行单独输送,避免第一前驱体和第二前驱体接触发生反应。
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1.一种用于原子层沉积设备进气管路,其特征在于,包括固定箱(1),所述固定箱(1)上设置有用于气体混合的连接组件(3),所述连接组件(3)上设置有用于控制气体混合的转动组件(5),所述连接组件(3)上设置有用于输送载气的固定管(2),所述固定管(2)上设置有用于输送前驱体的分离组件(4)。
2.根据权利要求1所述的一种用于原子层沉积设备进气管路,其特征在于,所述固定箱(1)外侧转动连接有转动门。
3.根据权利要求2所述的一种用于原子层沉积设备进气管路,其特征在于,所述连接组件(3)包括固定块(301),所述固定块(301)与固定箱(1)相连接,所述固定块(301)一侧分别开设有多个第一通孔(302)、第二通孔(303)和第三通孔(307),且第一通孔(302)、第二通孔(303)和第三通孔(307)贯穿固定块(301),所述固定块(301)内部开设有转动槽(304),所述固定块(301)一侧固定连接有多个固定罩(306),所述固定罩(306)外侧开设有多个连接孔(305)。
4.根据权利要求3所述的一种用于原子层沉积设备进气管路,其特征在于,所
5.根据权利要求4所述的一种用于原子层沉积设备进气管路,其特征在于,所述固定管(2)与固定块(301)相连接,所述固定管(2)内部设置有控制阀(201)。
6.根据权利要求3所述的一种用于原子层沉积设备进气管路,其特征在于,所述分离组件(4)包括第一连接管(401),所述第一连接管(401)与固定管(2)相连接,所述第一连接管(401)内部固定连接有第二连接管(402),且第一连接管(401)、第二连接管(402)与固定块(301)相连接。
...【技术特征摘要】
1.一种用于原子层沉积设备进气管路,其特征在于,包括固定箱(1),所述固定箱(1)上设置有用于气体混合的连接组件(3),所述连接组件(3)上设置有用于控制气体混合的转动组件(5),所述连接组件(3)上设置有用于输送载气的固定管(2),所述固定管(2)上设置有用于输送前驱体的分离组件(4)。
2.根据权利要求1所述的一种用于原子层沉积设备进气管路,其特征在于,所述固定箱(1)外侧转动连接有转动门。
3.根据权利要求2所述的一种用于原子层沉积设备进气管路,其特征在于,所述连接组件(3)包括固定块(301),所述固定块(301)与固定箱(1)相连接,所述固定块(301)一侧分别开设有多个第一通孔(302)、第二通孔(303)和第三通孔(307),且第一通孔(302)、第二通孔(303)和第三通孔(307)贯穿固定块(301),所述固定块(301)内部开设有转动槽(304),所述固定块(301)一侧固定连接有多个固定罩(306),所述固定罩(306)外侧开设有多个连接孔(305)。
4.根据权利要求3所述的一种用于...
【专利技术属性】
技术研发人员:金在宽,刘载安,宋广伟,
申请(专利权)人:东领科技装备有限公司,
类型:新型
国别省市:
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