【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及化学机械抛光设备
,特别是一种嵌入式化学机械抛光用的保持环。
技术介绍
在化学机械抛光时,抛光头夹持着晶圆,并将晶圆压紧在抛光垫上。晶圆在抛光时容纳在抛光头上的保持环之中,保持环起着容纳和定位晶圆的作用。在抛光过程中,抛光液和去离子水不断的与保持环接触,因此保持环需要具有一定的耐腐蚀性。现有的保持环是通过特定的粘接剂将用刚性材料制作的上环1和用弹性材料制作的下环3粘接在一起,其结构如图1和图2所示,图1为现有保持环的结构示意图,图2为现有保持环的截面示意图,图中2为粘接剂。保持环的上环1用于支撑定位,而保持环的下环3则直接与硅片和抛光垫接触。现有保持环存在最大问题是在抛光过程中,粘接面上的粘接剂与外界去离子水、抛光液等化学物质直接接触,因此大概几千个抛光周期后,由于化学溶液的腐蚀作用,粘接面的粘接剂损坏,上下两层材料脱开,降低了保持环寿命。
技术实现思路
本专利技术目的为解决化学机械抛光过程中,保持环上下两部分的粘接面与外界去离子水、抛光液等化学物质直接接触而导致的寿命短的问题,提供一种嵌入式化学机械抛光用的保持环,其特征在于,嵌入式化学机械抛光用的保持环由刚性环4和弹性环5用粘接剂2粘接而成,刚性环4为轴向截面是矩形或正方形的圆环,刚性环4的上表面有定位孔和螺纹孔,弹性环5的上表面上有一个环形凹槽,环形凹槽与刚性环4直径相同,轴向截面的形状和大小都相同,刚性环4镶嵌在弹性环5的环形凹槽内,刚性环4与环形凹槽的三组接触面,即刚性环4的内表面与环形凹槽的内侧面,刚性环4的外表面与环形凹槽的外侧面,刚性环4的下表面与环形凹槽的底面,均用粘接剂 ...
【技术保护点】
一种嵌入式化学机械抛光用的保持环,其特征在于,嵌入式化学机械抛光用的保持环由刚性环(4)和弹性环(5)用粘接剂(2)粘接而成,刚性环(4)为轴向截面是矩形或正方形的圆环,刚性环(4)的上表面有定位孔和螺纹孔,弹性环(5)的上表面上有一个环形凹槽,环形凹槽与刚性环(4)直径相同,轴向截面的形状和大小都相同,刚性环(4)镶嵌在弹性环(5)的环形凹槽内,刚性环(4)与环形凹槽的三组接触面,即刚性环(4)的内表面与环形凹槽的内侧面,刚性环(4)的外表面与环形凹槽的外侧面,刚性环(4)的下表面与环形凹槽的底面,均用粘接剂(2)粘接。
【技术特征摘要】
1.一种嵌入式化学机械抛光用的保持环,其特征在于,嵌入式化学机械抛光用的保持环由刚性环(4)和弹性环(5)用粘接剂(2)粘接而成,刚性环(4)为轴向截面是矩形或正方形的圆环,刚性环(4)的上表面有定位孔和螺纹孔,弹性环(5)的上表面上有一个环形凹槽,环形凹槽与刚性环(4)直径相同,轴向截面的形状和大小都相同,刚性环(4)镶嵌在弹性环(5)的环形凹槽内,刚性环(4)与环形凹槽的三组接触面,即刚性环(4)的内表面与环形凹槽的内侧面,刚性环(4)的外表面与环形凹槽的外侧...
【专利技术属性】
技术研发人员:路新春,梅赫赓,沈攀,何永勇,雒建斌,
申请(专利权)人:清华大学,
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]
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