System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind()
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光刻材料,具体涉及一类基于多硫鎓盐的单分子树脂及其光刻胶组合物、光刻胶涂层及其应用。
技术介绍
1、分子玻璃是一类由小的单分散有机分子组成的功能材料,在室温下可形成稳定的非晶玻璃。与传统聚合物光刻胶相比,分子玻璃具有更小尺寸的单分散结构块、明确分子量和立体化学的可重复结构,可以实现精确的合成,有利于获得高分辨率和低lwr/ler图形。传统上使用的化学放大型光刻胶(cars)依赖于混合或聚合物键合光产酸剂(pags)来实现溶解度差异。该化学放大体系存在一系列问题,如具有高的线边缘粗糙度(ler)和曝光后不稳定性等。为了解决这些问题,新型非化学放大型光刻胶(n-cars)的研究正受到越来越多的关注。n-cars是一种对辐射直接敏感的材料,在其配方中不需要pags的加入,仅包含主体材料一种组分,因此可以有效解决主体材料与添加剂相容性问题,以及曝光后酸扩散不均匀的问题,从而降低ler值。然而,与迄今报告的car数量相比,n-cars的数量非常有限,尤其是基于分子玻璃的n-cars。因此,开发具有强光刻潜力的分子玻璃n-cars具有重要意义,特别是对于具有低ler/lwr特性的亚20nm图案化应用。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题,本专利技术提供了一类基于多硫鎓盐的单分子树脂及包含所述单分子树脂的光刻胶组合物。
2、本专利技术的技术方案如下:
3、式(i)所示的化合物:
4、
5、其中,
6、r1、r2、r3、
7、r0选自-o-c1-15烷基-c6-20芳基-s+rs1rs2或如上所述基团z;
8、ra选自=o、no2、c1-15烷基、c1-15烷氧基、c3-20环烷基、c6-20芳基、5-20元杂芳基;
9、rs1、rs2相同或不同,各自独立地选自未取代,或任选被一个、两个或更多个rb取代的如下基团:c1-15烷基、c3-20环烷基、c6-20芳基、5-20元杂芳基、氘代c1-15烷基(如氘代甲基),或者rs1、rs2和与其相连的s一起形成未取代或任选被一个、两个或更多个rb取代的5-8元含硫杂环基;所述5-8元含硫杂环任选地再含有1-2个氧或硫;所述5-8元含硫杂环还任选地与一个或两个苯环稠和;
10、rb相同或不同,彼此独立地选自h、氧代(=o)、硝基、cn、c1-15烷基、c1-15烷氧基;
11、e1、e2相同或不同,各自独立地选自c1-15烷基、c3-20环烷基,未取代,或任选被一个、两个或更多个硫鎓盐基团-s+rs1rs2取代的如下基团:c6-20芳基、5-20元杂芳基;
12、x–为阴离子,例如卤素离子、羧酸根、硫酸根、烷基磺酸根、卤代烷基磺酸根(如三氟甲磺酸根、全氟丙基磺酸根、全氟丁基磺酸根)、对甲苯磺酸根、磺酰胺的阴离子、四氟硼酸根、六氟锑酸根、六氟磷酸根或双三氟甲烷磺酰亚氨离子;
13、n等于分子中硫鎓盐基团-s+rs1rs2中s+的个数,s+和x–使化合物整体呈电中性,n值为2-8的整数;即式(i)化合物中具有2-8个基团-s+rs1rs2。
14、在本专利技术的一些实施方案,式(i)化合物中具有2-6个基团-s+rs1rs2,例如具有2个、3个、4个、5个、6个基团-s+rs1rs2。
15、在本专利技术的一些实施方案中,r1-r20中具有4个基团-s+rs1rs2,且每个苯基上具有1个基团-s+rs1rs2。
16、在本专利技术的一些实施方案中,式(i)化合物中具有2-6个基团-s+rs1rs2,且e1、e2中分别具有一个基团-s+rs1rs2。
17、在本专利技术的一些实施方案,所述硫鎓盐基团位于邻位、间位或对位。
18、根据本专利技术的实施方案,所述硫鎓盐基团-s+rs1rs2选自无取代或任选被一个、两个或更多个r1’取代的以下基团:
19、
20、其中,表示连接键;r1a和r1b可以相同或不同,各自独立地选自无取代,或被一个、两个或更多个rc取代的如下基团:c1-15烷基、c3-20环烷基、-c1-15烷基-c6-20芳基、-c1-15烷基-5-20元杂芳基、-c6-20芳基-c1-15烷基、氘代c1-15烷基;rc、r1’相同或不同,彼此独立地选自=o、硝基、c1-15烷基、c1-15烷氧基;m选自0-5的整数;y选自ch2、o、s、c(o);
21、优选地,基团r1a和r1b选自如下结构中的一种:
22、
23、其中,表示连接键。
24、在本专利技术的一些实施方案中,r1、r2、r3、r4、r5、r6、r7、r8、r9、r10、r11、r12、r13、r14、r15、r16、r17、r18、r19、r20相同或不同,各自独立地选自h、-s+rs1rs2、c1-6烷基、c1-6烷氧基;rs1、rs2选自c1-6烷基、c6-12芳基;
25、在本专利技术的一些实施方案中,r0为h、-o-c1-6烷基-c6-12芳基-s+rs1rs2、c1-6烷基、c1-6烷氧基,rs1、rs2选自c1-6烷基、c6-12芳基;
26、在本专利技术的一些实施方案中,e1、e2为c1-8烷基、c6-12芳基或被-s+rs1rs2取代的c6-12芳基,其中rs1、rs2选自c1-6烷基、c6-12芳基;
27、在本专利技术的一些优选实施方案中,r1、r2、r3、r4、r5、r6、r7、r8、r9、r10、r11、r12、r13、r14、r15、r16、r17、r18、r19、r20相同或不同,各自独立地选自h、-s+(c1-6烷基)2、c1-6烷氧基、-s+(c6-12芳基)2、c1-6烷基;
28、r0为h;
29、e1、e2为-c6-12芳基-s+(c1-6烷基)2、c6-12芳基、c1-8烷基、-c6-12芳基-s+(c6-12芳基)2。
30、在本专利技术的一些实施方案中,式(i)所示化合物为对称结构,即上下左右4个苯环上的结构完全相同。
31、作为实例,式(i)所示化合物选自如下化合物:
32、
33、
34本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.式(I)所示的化合物:
2.根据权利要求1所述的化合物,其特征在于,式(I)化合物中具有2-6个基团-S+RS1RS2。
3.根据权利要求1或2所述的化合物,其特征在于,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20相同或不同,各自独立地选自H、-S+RS1RS2、C1-6烷基、C1-6烷氧基;RS1、RS2选自C1-6烷基、C6-12芳基;
4.根据权利要求1-3任一项所述的化合物,其特征在于,式(I)所示化合物选自如下化合物:
5.一种光刻胶组合物,其包括权利要求1-4任一项所述式(I)所示的化合物。
6.根据权利要求5所述的光刻胶组合物,其中,所述光刻胶组合物还包括溶剂,所述溶剂例如选自下列物质中的一种,两种或多种:丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)、二甲基甲酰胺(DMF)、环己酮、乙基正戊酮、乙基异戊酮、乙醇、乙腈、异丙醇、丙酮,甲基正戊酮、甲基异戊酮。
7.根据权利要求5或6所述的光刻胶组合物,其中,所述光
8.一种光刻胶涂层,其包括权利要求1-4任一项所述式(I)所示化合物。
9.权利要求8所述光刻胶涂层的制备方法,其特征在于,将权利要求5-7任一项所述光刻胶组合物施加在基底上制备得到。
10.权利要求1-4任一项所述式(I)所示的化合物、权利要求5-7任一项所述光刻胶组合物、权利要求8所述光刻胶涂层在光刻中的应用。
...【技术特征摘要】
1.式(i)所示的化合物:
2.根据权利要求1所述的化合物,其特征在于,式(i)化合物中具有2-6个基团-s+rs1rs2。
3.根据权利要求1或2所述的化合物,其特征在于,r1、r2、r3、r4、r5、r6、r7、r8、r9、r10、r11、r12、r13、r14、r15、r16、r17、r18、r19、r20相同或不同,各自独立地选自h、-s+rs1rs2、c1-6烷基、c1-6烷氧基;rs1、rs2选自c1-6烷基、c6-12芳基;
4.根据权利要求1-3任一项所述的化合物,其特征在于,式(i)所示化合物选自如下化合物:
5.一种光刻胶组合物,其包括权利要求1-4任一项所述式(i)所示的化合物。
6.根据权利要求5所述的光刻胶组...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈金平,王亚珂,李嫕,曾毅,于天君,
申请(专利权)人:中国科学院理化技术研究所,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。