一种光学元件的表面防护处理方法及其应用技术

本发明专利技术涉及一种光学元件的表面防护处理方法，S1、清洗光学元件表面；S2、配制含催化剂的前驱体溶液；S3、将步骤S2中含催化剂的前驱体溶液涂覆到步骤S1中清洗后的光学元件表面，进行水解缩聚；S4、对步骤S3中的水解缩聚后的光学元件表面进行清洗、干燥；其中：当所述光学元件的表面接触角小于80度或滚动角大于45度时重复进行所述表面防护处理步骤，所述表面防护处理的次数≥2次，制备简单、且适用于后期多次保养，保持超滑效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及薄膜，具体涉及一种光学元件的表面防护处理方法。

技术介绍

1、光学元件(光学镜头、窗口、光伏面板等)在通信、光学传感器、光刻和全息照明、光束整形、航空航天、能源、生物医学诊断设备等领域都有重要应用。然而，这些领域内的应用设备，其用到的光学元件在实际环境中，容易遭受外界污染，降低窗口对透射光谱信号的灵敏度和分辨率。因此需要对光学元件表面进行防护处理，形成抗环境污染物且具有优良耐久性的防护层，保护光学元件表面。需要注意的是，特殊光学窗口对特定波段的透明性有要求，因此，表面防护层在达到防护效果的同时，需要保证光学元件本身的光学性能不受改变。

2、疏液光滑表面在能源、信息、生物等军民用各大领域均有广泛应用，包括：太阳能电池面板、窗户、显示屏、mems芯片、光电器件、医用器械的自清洁、抗污染(涂鸦、指纹等)、抗冰、作为半导体材料的介电层等。

3、镀膜法是一种保护光学元件的有效方法，利用光学薄膜及真空的新技术，在光学元件的表面镀一层物质。真空蒸发工艺能够保证将纯质的镀膜材料镀于光学元件的表面，同时在蒸发过程中，对镀膜材料的化学成分本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光学元件的表面防护处理方法，其特征在于：所述表面防护处理的步骤如下：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤S1中所述的清洗为等离子清洗、紫外臭氧清洗、清洗液清洗中的一种或几种。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：所述清洗液清洗为在体积比为7:3的浓H2SO4和30wt％H2O2溶液的混合物中清洗5-10分钟后，用去离子水洗涤，并干燥。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：所述紫外臭氧清洗时间为0.5～10分钟。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤S2中所述配制的含催化剂的前驱体溶液的有效期为2年，...

【技术特征摘要】

1.一种光学元件的表面防护处理方法，其特征在于：所述表面防护处理的步骤如下：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤s1中所述的清洗为等离子清洗、紫外臭氧清洗、清洗液清洗中的一种或几种。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：所述清洗液清洗为在体积比为7:3的浓h2so4和30wt％h2o2溶液的混合物中清洗5-10分钟后，用去离子水洗涤，并干燥。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：所述紫外臭氧清洗时间为0.5～10分钟。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤s2中所述配制的含催化剂的前驱体溶液的有效期为2年，储存温度为0～60℃。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤s2中所述前驱体在含催化剂的前驱体溶液中的浓度为0.01％～80％，优选1％～20％；所述催化剂在含催化剂的前驱体溶液中的浓度为0.0001％～10％，优选0.1％～5％。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于：所述配制成含催化剂的前驱体溶液的搅拌时间为1min～48h，优选10～60min；搅拌温度为0～100℃，优选20～50℃。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于：所述前驱体结构式为：

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于：所述催化剂选自硫酸，盐酸，乙酸，硼酸中的一种或几种。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤s3中所述涂覆选自，滚涂、喷涂、浸渍提拉中的至少一种方法，优选喷涂。

11.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤s3中所述水解缩聚时间为1min～24h，优选时间为10min～5h；水解缩聚温度为10～100℃，优选温度为20～50℃。

12.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤s4中所述清洗液选自去离子水、...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾云娇，吴卫平，刘丰华，周贺，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：