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本发明涉及一种光学元件的表面防护处理方法，S1、清洗光学元件表面；S2、配制含催化剂的前驱体溶液；S3、将步骤S2中含催化剂的前驱体溶液涂覆到步骤S1中清洗后的光学元件表面，进行水解缩聚；S4、对步骤S3中的水解缩聚后的光学元件表面进行清洗...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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