【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及薄膜沉积，尤其涉及一种抽气组件、一种薄膜沉积设备、一种薄膜沉积方法，以及一种计算机可读存储介质。
技术介绍
1、在薄膜沉积工艺的过程中，采用喷淋板从上向下对放置在加热盘上的晶圆喷出反应气体进行薄膜沉积反应，通常需要在工艺腔室中配置抽气环，用于将工艺腔室中多余的反应气体抽出，以保证薄膜沉积的稳定均一性。
2、现有的薄膜沉积设备主要通过腔体侧抽或者底部抽气的方式，经由抽气环上的分气孔，使反应后的气体抽向尾气处理设备。然而，由于单一的偏心抽气孔抽气影响，反应后的气体流出时，反应腔体内的气体分布无法均匀分布，从而产生晶圆表面的薄膜不均匀的问题，影响晶圆薄膜沉积质量。
3、为了克服现有技术存在的上述缺陷，本领域亟需一种抽气组件及薄膜沉积技术，用于消除抽气环偏心抽气的影响，以提升反应后的气体在通过抽气孔排出时反应腔体内的气体分布均匀性，从而提升晶圆表面薄膜厚度的均匀性。
技术实现思路
1、以下给出一个或多个方面的简要概述以提供对这些方面的基本理解。此概述不是所有构...
【技术保护点】
1.一种抽气组件，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的抽气组件，其特征在于，所述抽气孔偏心设置于所述工艺腔室下部的一侧，所述的分布密度和/或孔径随远离所述抽气孔而递减，所述多个第二过气孔具有相同孔径，并沿所述上抽气环的周多个第一过气孔向均匀分布。
3.如权利要求1所述的抽气组件，其特征在于，还包括：
4.如权利要求3所述的抽气组件，其特征在于，所述升降机构被配置为：
5.如权利要求4所述的抽气组件，其特征在于，还包括薄膜厚度检测模块，其中，所述薄膜厚度检测模块被配置为：
6.如权利要求3所述的抽气组件，...
【技术特征摘要】
1.一种抽气组件，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的抽气组件，其特征在于，所述抽气孔偏心设置于所述工艺腔室下部的一侧，所述的分布密度和/或孔径随远离所述抽气孔而递减，所述多个第二过气孔具有相同孔径，并沿所述上抽气环的周多个第一过气孔向均匀分布。
3.如权利要求1所述的抽气组件，其特征在于，还包括：
4.如权利要求3所述的抽气组件，其特征在于，所述升降机构被配置为：
5.如权利要求4所述的抽气组件，其特征在于，还包括薄膜厚度检测模块，其中，所述薄膜厚度检测模块被配置为：
6.如权利要求3所述的抽气组件，其特征在于，所述工艺腔室的底面及所述下抽气环上分别设有多个顶针过孔，所述升降机构包括驱动装置、c形架及多根顶针，其中，
7.如权利要求6所述的抽气组件，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：李连杰，尹艳超，李洪昊，
申请(专利权)人：拓荆科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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