防反射薄膜的制造方法技术

提供一种防反射薄膜的制造方法，其能够得到在抑制制造时的薄膜基材的变形的同时、高温耐久性优异的防反射薄膜。防反射薄膜的制造方法具备工序Sa和工序Sb。在工序Sa中，使用稀有气体和氧气对薄膜基材(13)的一个主面(12a)进行轰击处理。在工序Sb中，在经过轰击处理的主面(12a)侧上成膜防反射层(19)。在工序Sb中成膜的防反射层(19)由多层膜形成，该多层膜包含氧化铌薄膜、以及与氧化铌薄膜折射率不同的无机薄膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及防反射薄膜的制造方法。

技术介绍

1、在液晶显示器、有机el显示器等图像显示装置的可视侧，以防止由外部光的反射导致的画质降低、提高对比度等为目的，配置有防反射薄膜。防反射薄膜在薄膜基材上具备由折射率不同的多个薄膜的层叠体构成的防反射层。

2、例如，专利文献1公开了一种防反射薄膜，其在薄膜基材(硬涂薄膜)上具备sio底漆层，并且其上具备由作为高折射率层的氧化铌(nb2o5)层和作为低折射率层的氧化硅(sio2)层的交替层叠体构成的防反射层。

3、另外，专利文献1记载了具有由上述交替层叠体构成的防反射层和偏光件的层叠体的制造方法。具体而言，专利文献1中，通过在实施了辉光等离子体处理的薄膜基材上将sio底漆层和防反射层成膜而得到防反射薄膜后，使该防反射薄膜与偏光件等层叠而得到上述层叠体。以下，有时将至少具有防反射层和偏光件的层叠体记载为“带偏光件的防反射薄膜”。带偏光件的防反射薄膜可以作为具备防反射功能的偏光板使用。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：日本特开2009-478本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种防反射薄膜的制造方法，其为具有薄膜基材、和设置于所述薄膜基材的一个主面侧的防反射层的防反射薄膜的制造方法，所述方法具备：

2.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，所述稀有气体为氩气。

3.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序Sa中，所述氧气的导入量相对于所述稀有气体的导入量和所述氧气的导入量的总和之比为0.0009以上且0.0500以下。

4.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序Sb中，通过溅射法成膜所述防反射层。

5.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序...

【技术特征摘要】

1.一种防反射薄膜的制造方法，其为具有薄膜基材、和设置于所述薄膜基材的一个主面侧的防反射层的防反射薄膜的制造方法，所述方法具备：

2.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，所述稀有气体为氩气。

3.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序sa中，所述氧气的导入量相对于所述稀有气体的导入量和所述氧气的导入量的总和之比为0.0009以上且0.0500以下。

4.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序sb中，通过溅射法成膜所述防反射层。

5.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序sa中，在压力0.1pa以上且1.0pa以下的条件下...

【专利技术属性】
技术研发人员：松冈秀展，高山侃也，木畑充裕，国方智，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：