【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体集成电路工艺，尤其涉及一种改善薄膜均匀性的调节装置和方法及工艺设备。
技术介绍
1、化学气相沉积是利用气态或蒸汽态的物质，在气相或气固界面上发生反应，生成固态沉积物的过程。在半导体工业生产过程中，化学气相沉积设备可以用于生成各种介质膜。其中，生成薄膜的均匀性是衡量一种设备工艺性能优劣的重要指标。
2、通过调节改善薄膜均匀性的方法有很多，其中较为常见的是调整晶圆载物台的相对水平。即通过微调载物台下方基座中的螺栓改变受力状况，来改变载物台的相对水平。
3、目前，实现上述这类操作主要依靠人力对基座中的螺栓进行手动调节。对于大生产环境中，单独依靠人力调节载物台的相对水平，存在响应时间较长的问题，从而增加了设备的宕机时间，降低了生产率。另外，螺栓调节方式也因人而异，主要依靠经验手法，无法精准量化。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于克服现有技术存在的上述缺陷，提供一种改善薄膜均匀性的调节装置和方法及工艺设备。
2、为实现上述目的，本专利技术的技术方案如下：
3、本专利技术提供一种改善薄膜均匀性的调节装置，包括：
4、设于载物台下方的基座，所述基座设有上下相对设置的第一轴联部和第二轴联部，所述第二轴联部连接下方的主轴，所述第一轴联部通过上方同轴设置的连接轴与所述载物台相连；
5、位置调节机构，连接于所述第一轴联部和所述第二轴联部之间；
6、驱动控制机构，用于通过驱动所述位置调节机构作相对
7、进一步地，所述位置调节机构设有沿轴向分布并连接于所述第一轴联部和所述第二轴联部之间的至少三个转动模块，所述驱动控制机构通过驱动其中的至少一个所述转动模块作相对于所述第一轴联部和所述第二轴联部的转动，以改变所述第一轴联部上的对应位置相对于所述第二轴联部的上下方位。
8、进一步地，所述转动模块包括轴向穿设于所述第一轴联部和所述第二轴联部中的调节螺栓，和设于所述第一轴联部上并与所述调节螺栓转动配合的定位螺母，所述驱动控制机构通过控制所述调节螺栓作相对于所述定位螺母的转动，调节所述调节螺栓对所述第一轴联部的紧固力度，以改变所述第一轴联部相对于所述第二轴联部的上下方位。
9、进一步地，所述驱动控制机构设有驱动传动机构和控制机构，所述控制机构通过控制所述驱动传动机构运动，带动与所述驱动传动机构相配合的所述转动模块的转动。
10、进一步地，所述驱动传动机构设有与所述转动模块对应配合的多个传动模块，和与所述传动模块对应配合的多个驱动模块，所述控制机构设有与所述驱动模块对应配合的多个控制模块，每个所述控制模块用于控制对应的一个所述驱动模块运动，依次带动对应的一个所述传动模块的运动和一个所述转动模块的转动；或者，所述驱动传动机构设有与所述转动模块对应配合的多个传动模块，和与多个所述传动模块形成分别配合的一个驱动模块，所述控制机构设有与所述驱动模块配合的一个控制模块，所述控制模块用于控制所述驱动模块运动，选择性带动其中一个所述传动模块的运动和对应的一个所述转动模块的转动。
11、进一步地，所述传动模块包括齿轮传动模块、链式传动模块或带式传动模块，或者，所述传动模块包括齿轮传动模块、链式传动模块、带式传动模块中至少两种的组合；和/或，所述驱动模块包括电机；和/或，所述控制模块包括控制器。
12、本专利技术还提供一种工艺设备，包括载物台，和上述的改善薄膜均匀性的调节装置，所述工艺设备用于对放置于所述载物台上的处理对象进行薄膜沉积处理，并通过控制所述调节装置对所述载物台的相对水平状态进行自动调节，以在所述处理对象的表面上形成均匀性一致的薄膜。
13、进一步地，所述工艺设备还设有下位机，用于现场控制所述调节装置对所述载物台的相对水平状态进行自动调节；或者，所述工艺设备连接生产执行系统，所述生产执行系统通过所述工艺设备设有的下位机，远程控制所述调节装置对所述载物台的相对水平状态进行自动调节。
14、本专利技术还提供一种改善薄膜均匀性的调节方法，使用上述的改善薄膜均匀性的调节装置，或上述的工艺设备，包括：
15、将处理对象放置于工艺设备中的载物台上；
16、在处理对象的表面上形成薄膜，并对薄膜的均匀性进行检查；
17、当均匀性未达到要求时，判断所述载物台需要调整的水平方位及调整幅度，并控制调节装置对所述载物台的相对水平状态进行自动调节；
18、重复上述过程，直至均匀性达到要求。
19、进一步地，根据在所述处理对象表面上形成的薄膜的膜厚图和设于所述处理对象上的指示标记，判断所述载物台需要调整的水平方位及调整幅度；通过在下位机上直接更改针对水平方位及幅度的调整参数，来现场控制所述调节装置对所述载物台的相对水平状态进行自动调节，或者，将包含膜厚图和指示标记的相关数据链接至生产执行系统，并通过所述生产执行系统对下位机下达指令，实现远程控制所述调节装置对所述载物台的相对水平状态进行自动调节。
20、由上述技术方案可以看出，本专利技术通过在载物台下方设置具有第一轴联部和第二轴联部的基座，并在第一轴联部和第二轴联部之间设置位置调节机构，可通过驱动控制机构驱动位置调节机构转动，调整第一轴联部相对于第二轴联部的上下方位，实现对载物台的相对水平状态的自动调节，从而有效解决了现有需要依靠人力进行载物台水平状态的手动调节存在的响应时间较长，且无法精准量化的问题；并且，可在现场或远程控制调节装置进行自动调节，实现对薄膜均匀性状况的二级调控。本专利技术可有效节省人力，实现设备工艺性能自动化管理调节，减少设备宕机时间，提高生产效率，并通过自动化的精细量化调节，提高解决问题的效率和成功率，节约时间。
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1.一种改善薄膜均匀性的调节装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的改善薄膜均匀性的调节装置，其特征在于，所述位置调节机构设有沿轴向分布并连接于所述第一轴联部和所述第二轴联部之间的至少三个转动模块，所述驱动控制机构通过驱动其中的至少一个所述转动模块作相对于所述第一轴联部和所述第二轴联部的转动，以改变所述第一轴联部上的对应位置相对于所述第二轴联部的上下方位。
3.根据权利要求2所述的改善薄膜均匀性的调节装置，其特征在于，所述转动模块包括轴向穿设于所述第一轴联部和所述第二轴联部中的调节螺栓，和设于所述第一轴联部上并与所述调节螺栓转动配合的定位螺母，所述驱动控制机构通过控制所述调节螺栓作相对于所述定位螺母的转动，调节所述调节螺栓对所述第一轴联部的紧固力度，以改变所述第一轴联部相对于所述第二轴联部的上下方位。
4.根据权利要求2所述的改善薄膜均匀性的调节装置，其特征在于，所述驱动控制机构设有驱动传动机构和控制机构，所述控制机构通过控制所述驱动传动机构运动，带动与所述驱动传动机构相配合的所述转动模块的转动。
5.根据权利要求4所述的
6.根据权利要求5所述的改善薄膜均匀性的调节装置，其特征在于，所述传动模块包括齿轮传动模块、链式传动模块或带式传动模块，或者，所述传动模块包括齿轮传动模块、链式传动模块、带式传动模块中至少两种的组合；和/或，所述驱动模块包括电机；和/或，所述控制模块包括控制器。
7.一种工艺设备，其特征在于，包括载物台，和根据权利要求1-6任意一项所述的改善薄膜均匀性的调节装置，所述工艺设备用于对放置于所述载物台上的处理对象进行薄膜沉积处理，并通过控制所述调节装置对所述载物台的相对水平状态进行自动调节，以在所述处理对象的表面上形成均匀性一致的薄膜。
8.根据权利要求7所述的工艺设备，其特征在于，所述工艺设备还设有下位机，用于现场控制所述调节装置对所述载物台的相对水平状态进行自动调节；或者，所述工艺设备连接生产执行系统，所述生产执行系统通过所述工艺设备设有的下位机，远程控制所述调节装置对所述载物台的相对水平状态进行自动调节。
9.一种改善薄膜均匀性的调节方法，使用根据权利要求1-6任意一项所述的改善薄膜均匀性的调节装置，或根据权利要求7-8任意一项所述的工艺设备，其特征在于，包括：
10.根据权利要求9所述的改善薄膜均匀性的调节方法，其特征在于，根据在所述处理对象表面上形成的薄膜的膜厚图和设于所述处理对象上的指示标记，判断所述载物台需要调整的水平方位及调整幅度；通过在下位机上直接更改针对水平方位及幅度的调整参数，来现场控制所述调节装置对所述载物台的相对水平状态进行自动调节，或者，将包含膜厚图和指示标记的相关数据链接至生产执行系统，并通过所述生产执行系统对下位机下达指令，实现远程控制所述调节装置对所述载物台的相对水平状态进行自动调节。
...【技术特征摘要】
1.一种改善薄膜均匀性的调节装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的改善薄膜均匀性的调节装置，其特征在于，所述位置调节机构设有沿轴向分布并连接于所述第一轴联部和所述第二轴联部之间的至少三个转动模块，所述驱动控制机构通过驱动其中的至少一个所述转动模块作相对于所述第一轴联部和所述第二轴联部的转动，以改变所述第一轴联部上的对应位置相对于所述第二轴联部的上下方位。
3.根据权利要求2所述的改善薄膜均匀性的调节装置，其特征在于，所述转动模块包括轴向穿设于所述第一轴联部和所述第二轴联部中的调节螺栓，和设于所述第一轴联部上并与所述调节螺栓转动配合的定位螺母，所述驱动控制机构通过控制所述调节螺栓作相对于所述定位螺母的转动，调节所述调节螺栓对所述第一轴联部的紧固力度，以改变所述第一轴联部相对于所述第二轴联部的上下方位。
4.根据权利要求2所述的改善薄膜均匀性的调节装置，其特征在于，所述驱动控制机构设有驱动传动机构和控制机构，所述控制机构通过控制所述驱动传动机构运动，带动与所述驱动传动机构相配合的所述转动模块的转动。
5.根据权利要求4所述的改善薄膜均匀性的调节装置，其特征在于，所述驱动传动机构设有与所述转动模块对应配合的多个传动模块，和与所述传动模块对应配合的多个驱动模块，所述控制机构设有与所述驱动模块对应配合的多个控制模块，每个所述控制模块用于控制对应的一个所述驱动模块运动，依次带动对应的一个所述传动模块的运动和一个所述转动模块的转动；或者，所述驱动传动机构设有与所述转动模块对应配合的多个传动模块，和与多个所述传动模块形成分别配合的一个驱动模块，所述控制机构设有与所述驱动模块配合的一个控制模块，所述控制模块用于控制所述驱动模块运动，选择性带动其中一个所述传动模块的运动...
【专利技术属性】
技术研发人员：洪子康，
申请(专利权)人：上海集成电路研发中心有限公司，
类型：发明
国别省市：
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