多通道喷嘴均质阀制造技术

本技术公开了多通道喷嘴均质阀，包括阀套、阀座以及位于阀套上的若干个通道，所述阀套的一端设有供阀座安装的阀座腔，阀座安装于所述阀座腔内，所述阀套上设有将阀座固定在阀座腔的聚拢端帽，所述阀座与阀座腔的底壁围成缓存腔，所述缓存腔与所述通道连通，所述阀座与聚拢端帽的内壁围成空穴腔，所述阀座上设有若干个将缓存腔与空穴腔连通的导流孔，将介质通过通道撞击在阀座上，实现介质的第一步均质，此时均质后的介质存在缓存腔内，然后通过阀座上的导流孔流向空穴腔内，此时经过第一步均质的介质失压雾化形成微小颗粒，进一步实现了介质的均质，提高了介质的均质效果。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及均质阀，特别地，涉及多通道喷嘴均质阀。

技术介绍

1、均质阀主要安装在高压均质机上，用于制备脂质体、脂肪乳、纳米混悬剂、微乳、脂微球、乳剂、乳品、染料等。

2、现有的均质阀一般包括碰撞型和空穴型两种，两种均质阀相互独立，授权公告号为cn203710932u的技术专利公开了一种多通道喷嘴均质阀，其中，该均质阀包括阀套，阀座以及多个通道，介质通过通道与阀座碰撞实现介质的雾化，降低介质的粒径。其中，该方案中仅采用碰撞型的方式实现介质的均质，介质的均质效果较低；达不到目前的介质均质要求，需要对上述的均质阀做出进一步的改进。

3、因此，如何设计一种提高介质均质效果的均质阀，成为本领域人员亟待解决的技术问题。

技术实现思路

1、为了解决
技术介绍
中提到的至少一个技术问题，本技术的目的在于提供多通道喷嘴均质阀，解决现有均质阀均质效果较差的问题。

2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：

3、多通道喷嘴均质阀，包括阀套、阀座以及位于阀套上的若干个通道，所述阀套的一端设有供阀座安装的阀座腔，阀座安装于所述阀座腔内，所述阀套上设有将阀座固定在阀座腔的聚拢端帽，所述阀座与阀座腔的底壁围成缓存腔，所述缓存腔与所述通道连通，所述阀座与聚拢端帽的内壁围成空穴腔，所述阀座上设有若干个将缓存腔与空穴腔连通的导流孔。

4、进一步的，所述阀座上固定设有若干个尖锥，阀座安装时，尖锥插接至通道内，尖锥的外壁与通道的内壁留有供介质通过的流通间隙。>

5、进一步的，所述阀座腔的底壁设有向内凹陷的插接槽，所述阀座上设有与所述插接槽相适配的插接块，阀座安装时，插接块的顶壁与插接槽的底壁抵接。

6、进一步的，所述插接槽的横截面呈十字形。

7、进一步的，所述阀座腔的侧壁设有限位台阶，所述阀座的外壁设有径向向外延伸的限位边缘，阀座安装时，所述限位边缘与所述限位台阶抵接。

8、进一步的，所述限位台阶与所述限位边缘之间安装有密封垫。

9、进一步的，所述聚拢端帽与所述阀套螺纹连接，所述聚拢端帽的内壁设有径向向内延伸的定位台阶，阀座安装时，所述定位台阶与阀座的端壁抵接。

10、与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术将介质通过通道撞击在阀座上，实现介质的第一步均质，此时均质后的介质存在缓存腔内，然后通过阀座上的导流孔流向空穴腔内，此时经过第一步均质的介质失压雾化形成微小颗粒，进一步实现了介质的均质，提高了介质的均质效果。

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【技术保护点】

1.多通道喷嘴均质阀，包括阀套(1)、阀座(3)以及位于阀套(1)上的若干个通道(12)，其特征在于：所述阀套(1)的一端设有供阀座(3)安装的阀座腔(14)，阀座(3)安装于所述阀座腔(14)内，所述阀套(1)上设有将阀座(3)固定在阀座腔(14)的聚拢端帽(2)，所述阀座(3)与阀座腔(14)的底壁围成缓存腔(6)，所述缓存腔(6)与所述通道(12)连通，所述阀座(3)与聚拢端帽(2)的内壁围成空穴腔(7)，所述阀座(3)上设有若干个将缓存腔(6)与空穴腔(7)连通的导流孔(34)。

2.根据权利要求1所述的多通道喷嘴均质阀，其特征在于：所述阀座(3)上固定设有若干个尖锥(32)，阀座(3)安装时，尖锥(32)插接至通道(12)内，尖锥(32)的外壁与通道(12)的内壁留有供介质通过的流通间隙(5)。

3.根据权利要求1所述的多通道喷嘴均质阀，其特征在于：所述阀座腔(14)的底壁设有向内凹陷的插接槽(13)，所述阀座(3)上设有与所述插接槽(13)相适配的插接块(33)，阀座(3)安装时，插接块(33)的顶壁与插接槽(13)的底壁抵接。

4.根据权利要求3所述的多通道喷嘴均质阀，其特征在于：所述插接槽(13)的横截面呈十字形。

5.根据权利要求1所述的多通道喷嘴均质阀，其特征在于：所述阀座腔(14)的侧壁设有限位台阶(141)，所述阀座(3)的外壁设有径向向外延伸的限位边缘(31)，阀座(3)安装时，所述限位边缘(31)与所述限位台阶(141)抵接。

6.根据权利要求5所述的多通道喷嘴均质阀，其特征在于：所述限位台阶(141)与所述限位边缘(31)之间安装有密封垫(4)。

7.根据权利要求1所述的多通道喷嘴均质阀，其特征在于：所述聚拢端帽(2)与所述阀套(1)螺纹连接，所述聚拢端帽(2)的内壁设有径向向内延伸的定位台阶(21)，阀座(3)安装时，所述定位台阶(21)与阀座(3)的端壁抵接。

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【技术特征摘要】

1.多通道喷嘴均质阀，包括阀套(1)、阀座(3)以及位于阀套(1)上的若干个通道(12)，其特征在于：所述阀套(1)的一端设有供阀座(3)安装的阀座腔(14)，阀座(3)安装于所述阀座腔(14)内，所述阀套(1)上设有将阀座(3)固定在阀座腔(14)的聚拢端帽(2)，所述阀座(3)与阀座腔(14)的底壁围成缓存腔(6)，所述缓存腔(6)与所述通道(12)连通，所述阀座(3)与聚拢端帽(2)的内壁围成空穴腔(7)，所述阀座(3)上设有若干个将缓存腔(6)与空穴腔(7)连通的导流孔(34)。

2.根据权利要求1所述的多通道喷嘴均质阀，其特征在于：所述阀座(3)上固定设有若干个尖锥(32)，阀座(3)安装时，尖锥(32)插接至通道(12)内，尖锥(32)的外壁与通道(12)的内壁留有供介质通过的流通间隙(5)。

3.根据权利要求1所述的多通道喷嘴均质阀，其特征在于：所述阀座腔(14)的底壁设有向内凹陷的插接槽(13)...

【专利技术属性】
技术研发人员：周庆辉，王伟绪，任鹏飞，李俊杰，
申请(专利权)人：绍兴吉能纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：