一种用于等离子表面处理的加热装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于等离子表面处理的加热装置，涉及等离子处理加热技术领域。本发明专利技术提供一种能够降低溶液消耗，保证溶液与工件接触的用于等离子表面处理的加热装置，包括有机架，机架固定连接有放置箱，放置箱固定连接有等距分布的第一加热元件，放置箱内滑动式连接有盛放板，还包括有电动推杆，电动推杆固定连接于放置箱内。工件放在盛放板上，倒入溶液使其没过放置箱内底部的第一加热元件、第二加热元件和工件进行加热，在工件进行等离子表面处理时，盛放板可上下滑动调节高度，以适应放置箱内的溶液余量，确保第二加热元件和工件没入溶液，避免放置箱内的溶液蒸发减少，导致第二加热元件干烧或者影响工件表面加工。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及等离子处理加热，尤其涉及一种用于等离子表面处理的加热装置。

技术介绍

1、在利用等离子对工件表面进行处理时，可以对工件表面进行加热，以增强离子与工件表面的相互作用力，促进离子束的轰击效果，加速表面去除物的清除，从而提高处理效率。

2、现有等离子设备加热方式一般采用湿式的加热棒，通过加热溶液实现对工件进行加热的目的，在加热过程中不能干烧，溶液必须没过加热棒才能开始加热，但在表面处理过程中，会产生大量水蒸气导致溶液蒸发，溶液减少造成加热棒干烧的现象，极易造成安全事故，同时，溶液减少也不利于工件的整体加热，影响表面处理的效果。

技术实现思路

1、为了克服溶液蒸发减少容易导致加热棒干烧，同时也不利于工件的整体加热的缺点，本专利技术提供一种能够降低溶液消耗，保证溶液与工件接触的用于等离子表面处理的加热装置。

2、本专利技术的技术实施方案为：一种用于等离子表面处理的加热装置，包括有机架，机架固定连接有放置箱，放置箱固定连接有等距分布的第一加热元件，放置箱内滑动式连接有盛放板，还包括有本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于等离子表面处理的加热装置，包括有机架（1），机架（1）固定连接有放置箱（101），放置箱（101）固定连接有等距分布的第一加热元件（102），放置箱（101）内滑动式连接有盛放板（103），其特征是，还包括有电动推杆（104），电动推杆（104）固定连接于放置箱（101）内，放置箱（101）内固定连接有安装板架（105），盛放板（103）固定连接有对称设置的第二加热元件（106），安装板架（105）滑动式连接有推动架（107），推动架（107）与电动推杆（104）的伸缩端连接，推动架（107）、安装板架（105）和盛放板（103）之间转动式连接有转动架（108），放置箱（10...

【技术特征摘要】

1.一种用于等离子表面处理的加热装置，包括有机架（1），机架（1）固定连接有放置箱（101），放置箱（101）固定连接有等距分布的第一加热元件（102），放置箱（101）内滑动式连接有盛放板（103），其特征是，还包括有电动推杆（104），电动推杆（104）固定连接于放置箱（101）内，放置箱（101）内固定连接有安装板架（105），盛放板（103）固定连接有对称设置的第二加热元件（106），安装板架（105）滑动式连接有推动架（107），推动架（107）与电动推杆（104）的伸缩端连接，推动架（107）、安装板架（105）和盛放板（103）之间转动式连接有转动架（108），放置箱（101）设有用于添加溶液的添液机构；

2.按照权利要求1所述的一种用于等离子表面处理的加热装置，其特征是，储放箱（2）安装有盖子。

3.按照权利要求2所述的一种用于等离子表面处理的加热装置，其特征是，还包括有用于调节堵块（204）打开时间的调节机构，调节机构设置于第一浮块（203），调节机构包括有连接架（3），连接架（3）滑动式连接于第一浮块（203），连接架（3）固定连接有第二浮块（301），第一浮块（203）套有丝杆（302），丝杆（302）通过螺纹连接有轴套（303），连接架（3）与轴套（303）转动式连接。

4.按照权利要求3所述的一种用于等离子表面处理的加热装置，其特征是，还包括有用于固定工件的固定机构，固定机构设置于盛放板（103），固定机构包括有对称设置的移动架（4），对称设置的移动架（4）固定连接于盛放板（103），支撑架（402）固定连接有对称设置的导向杆（403），导向杆（403）滑动式连接有移动架（4），对称设置的移动架（4）之间连接有等距分布的绳索（401），移动架（4）与相邻的支撑架（402）之间连接有弹性件...

【专利技术属性】
技术研发人员：李辉，谢鹏远，郑武松，王祥炜，石子健，李权洪，
申请(专利权)人：专心护康厦门科技有限公司，
类型：发明
国别省市：