一种用于等离子抛光的制造技术

本发明专利技术公开了一种用于等离子抛光的

【技术实现步骤摘要】
一种用于等离子抛光的PH检测和调节装置


[0001]本专利技术涉及等离子抛光
，具体是一种用于等离子抛光的
PH
检测和调节装置
。

技术介绍

[0002]等离子抛光是一种表面处理技术，利用等离子体对材料表面进行清理
、
抛光和改性处理
。
等离子体是一种由电离的气体分子和自由电子组成的高能量物质
。
在等离子抛光过程中，通过在真空室中加入适当的气体，产生高能量的等离子体，并将其引导到工件表面
。
等离子体中的高能量粒子与工件表面发生相互作用，能够清除表面的污染物
、
氧化层和细微缺陷，同时还能够改变材料的表面性质，如提高光洁度
、
硬度和耐磨性等
。
等离子抛光广泛应用于金属
、
陶瓷
、
塑料等材料的表面处理，可以提高材料的质量和性能
。
[0003]但他在实际运用中仍存在以下的不足：等离子抛光液主要成分为两种物质，前者为酸性，后者为碱性，抛光液浓度为3‑
5 wt%
，随着抛光的进行，抛光液浓度会逐渐减少
。
现在通常是在抛光完成后来检抛光液的浓度，通过人工补充或者更换新的抛光液，耗时耗力，降低了工作的效率，并且抛光液对
PH
探测传感器具有腐蚀，降低了
PH
探测传感器的使用寿命
。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于：解决了等离子抛光液主要成分为两种物质，前者为酸性，后者为碱性，抛光液浓度为3‑
5 wt%
，随着抛光的进行，抛光液浓度会逐渐减少
。
现在通常是在抛光完成后来检抛光液的浓度，通过人工补充或者更换新的抛光液，耗时耗力，降低了工作的效率，并且抛光液对
PH
探测传感器具有腐蚀，降低了
PH
探测传感器的使用寿命的问题
。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：本专利技术为一种用于等离子抛光的
PH
检测和调节装置，包括：后置架，所述后置架的后侧壁上端设置有放置板；所述放置板的上表面设置有第一储液罐，所述第一储液罐的下表面设置有第一注入管，所述第一注入管的上表面设置有第一电磁阀，所述第一储液罐的右侧设置有第二储液罐，所述第二储液罐的下表面设置有第二注入管，所述第二注入管的上表面设置有第二电磁阀；通过设置第一储液罐
、
第二储液罐
、
第一注入管
、
第二注入管
、
第一电磁阀与第二电磁阀，在第一储液罐内部装载酸性溶液，第二储液罐内部装载碱性溶液，通过第一电磁阀与第二电磁阀控制第一注入管与第二注入管进行溶液添加，电磁阀的型号为
4V210
‑
08。
[0006]安装板，所述安装板固定设置在后置架的前侧壁，包括设置在其下端前侧的抛光框；所述抛光框的上表面设置有第一防护板；直线电机，所述直线电机设置于安装板的前侧壁中部上端，包括设置在其前侧下
方的活动块；所述直线电机的下表面连接有轨道，所述轨道前侧壁设置有活动块，所述活动块的前侧壁设置有
L
型板，所述
L
型板的内部设置有
PH
探测传感器，所述挡板的下表面设置有转电机，所述旋转电机的侧壁设置有清洗框，所述清洗框的侧壁设置有下水口；通过设置直线电机
、
轨道
、
活动块
、PH
探测传感器，在直线电机开启时，活动块会带动
PH
探测传感器在轨道上进行上下竖直运动，使
PH
探测传感器对抛光框内部的溶液进行浓度检测，直线电机的型号为
CEC30
‑
030
‑
M1
；连接杆，所述连接杆设置于活动块的上表面；第一齿条，所述第一齿条设置于第一防护板的下表面；第一固定柱，所述第一固定柱连接于第一防护板的下表面
。
[0007]通过设置的
PH
探测传感器检测溶液中
PH
值的变化，实时监控抛光液中浓度的变化，并且通过安装的补液装置自动进行补充抛光液
。
[0008]作为本专利技术再进一步的方案：所述安装板的下端前侧设置有抛光框，所述抛光框的上表面设置有挡板，所述抛光框的内部设置有升降板，所述挡板的上表面设置有限位块，所述挡板的上表面左侧设置有第一防护板，所述第一防护板的右侧设置有第二防护板
。
[0009]通过设置挡板材质为
pp
塑料板，用于绝缘和固定直线电机与轨道
。
[0010]作为本专利技术再进一步的方案：所述第一注入管与第二注入管形状为倒
Z
形，后置架的外表面两侧开设有圆形槽，第一注入管与第二注入管穿过该圆形槽，且前端深入抛光框内部
。
[0011]通过设置的第一注入管与第二注入管，可实现在抛光液的浓度不够时进行酸碱溶液的直接添加
。
[0012]作为本专利技术再进一步的方案：所述活动块在轨道外表面侧壁进行上下运动，同时带动
PH
探测传感器进行上下竖直运动，旋转电机带动清洗框进行左右旋转
。
[0013]通过设置旋转电机
、
清洗框与下水口，可实现在
PH
探测传感器向下检测抛光液的浓度时，自动左转，在检测完成后再向右旋转，对
PH
探测传感器的检测部位进行清洗，
PH
探测传感器的型号为
PH
‑
100。
[0014]作为本专利技术再进一步的方案：所述连接杆的上端前侧壁固定连接有横杆，所述横杆的左端前侧壁活动连接有第一连杆，所述第一连杆的前侧壁下端活动连接有第二连杆，所述第二连杆的下表面设置有固定杆，所述第一连杆与第二连杆的连接处设置有连接柱，所述连接柱的前端设置有第三连杆，所述第三连杆的下表面设置有连接块，所述连接块的下表面设置有沥液框，所述第一防护板的外表面设置有沥液孔，所述沥液孔的外表面设置有防护框
。
[0015]通过设置的连接杆
、
横杆
、
第一连杆
、
第二连杆
、
连接柱，在活动块向下运动时，带动连接杆向下运动，第一连杆与第二连杆会向左侧移动，并在连接柱的连接处产生折叠，同时带动连接柱向左侧移动，同时带动第一防护板向左侧移动，同理右侧会带动第二防护板向右侧移动
。
[0016]作为本专利技术再进一步的方案：所述固定杆的下端固定设置在挡板的上表面，并且固定杆的上端与第二连杆活动连接，横杆的左右两端设置有两组第一连杆
、
第二连杆
、
固定杆
、
连接柱
、
第三连杆与连接块，并且本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种用于等离子抛光的
PH
检测和调节装置，其特征在于，包括：后置架（1），所述后置架（1）的后侧壁上端设置有放置板（
11
）；所述放置板（
11
）的上表面设置有第一储液罐（
12
），所述第一储液罐（
12
）的下表面设置有第一注入管（
121
），所述第一注入管（
121
）的上表面设置有第一电磁阀（
122
），所述第一储液罐（
12
）的右侧设置有第二储液罐（
13
），所述第二储液罐（
13
）的下表面设置有第二注入管（
131
），所述第二注入管（
131
）的上表面设置有第二电磁阀（
132
）；安装板（2），所述安装板（2）固定设置在后置架（1）的前侧壁，包括设置在其下端前侧的抛光框（
21
）；所述抛光框（
21
）的上表面设置有第一防护板（
25
）；直线电机（3），所述直线电机（3）设置于安装板（2）的前侧壁中部上端，包括设置在其前侧下方的活动块（
32
）；所述直线电机（3）的下表面连接有轨道（
31
），所述轨道（
31
）前侧壁设置有活动块（
32
），所述活动块（
32
）的前侧壁设置有
L
型板（
321
），所述
L
型板（
321
）的内部设置有
PH
探测传感器（
33
），所述挡板（
22
）的下表面设置有转电机（
34
），所述旋转电机（
34
）的侧壁设置有清洗框（
35
），所述清洗框（
35
）的侧壁设置有下水口（
36
）；连接杆（4），所述连接杆（4）设置于活动块（
32
）的上表面；第一齿条（5），所述第一齿条（5）设置于第一防护板（
25
）的下表面；第一固定柱（6），所述第一固定柱（6）连接于第一防护板（
25
）的下表面
。2.
根据权利要求1所述的一种用于等离子抛光的
PH
检测和调节装置，其特征在于，所述安装板（2）的下端前侧设置有抛光框（
21
），所述抛光框（
21
）的上表面设置有挡板（
22
），所述抛光框（
21
）的内部设置有升降板（
23
），所述挡板（
22
）的上表面设置有限位块（
24
），所述挡板（
22
）的上表面左侧设置有第一防护板（
25
），所述第一防护板（
25
）的右侧设置有第二防护板（
26
）
。3.
根据权利要求2所述的一种用于等离子抛光的
PH
检测和调节装置，其特征在于，所述第一注入管（
121
）与第二注入管（
131
）形状为倒
Z
形，后置架（1）的外表面两侧开设有圆形槽，第一注入管（
121
）与第二注入管（
131
）穿过该圆形槽，且前端深入抛光框（
21
）内部
。4.
根据权利要求3所述的一种用于等离子抛光的
PH
检测和调节装置，其特征在于，所述活动块（
32
）在轨道（
31
）外表面侧壁进行上下运动，同时带动
PH
探测传感器（
33
）进行上下竖直运动，旋转电机（
34
）带动清洗框（
35
）进行左右旋转
。5.
根据权利要求4所述的一种用于等离子抛光的
P...

【专利技术属性】
技术研发人员：李辉，谢鹏远，郑武松，王祥炜，石子健，葛晓宏，
申请(专利权)人：专心护康厦门科技有限公司，
类型：发明
国别省市：