本发明专利技术涉及一种信息记录介质用玻璃基板及其制造方法以及磁记录介质，所述制造方法包含以下工序：对包含含碱铝硅酸盐玻璃的玻璃圆板进行研磨的研磨工序；和之后使用含有氧化铈磨粒的浆料进行抛光的氧化铈抛光工序，其特征在于，含碱铝硅酸盐玻璃中的ＳｉＯ２含量减Ａｌ２Ｏ３含量得到的差（ＳｉＯ２－Ａｌ２Ｏ３）为６２摩尔％以下；还包含以下工序：紧接着氧化铈抛光工序，使用硫酸浓度为２０质量％以上且８０质量％以下、过氧化氢浓度为１质量％以上且１０质量％以下的清洗液在５０℃以上且１００℃以下的液温下对玻璃圆板进行清洗的清洗工序，和在所述清洗工序后使用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行抛光的精抛光工序。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及信息记录介质用玻璃基板及其制造方法、以及磁记录介质，更详细地 涉及玻璃基板抛光后的清洗工序的改良。
技术介绍
近年来，对于面向硬盘的高容量化的玻璃基板存在两个重大技术课题。一个是高 速旋转时的振动特性和强度等机械特性，另一个是除去玻璃基板上残留的异物。为了改善高速旋转时的振动特性或强度，需要使用考虑杨氏模量、比模量、比重、 热膨胀系数、耐划痕性或断裂韧性等各种特性的具有合适玻璃组成的玻璃基板。为了实现 这样的特性，已知SiO2-Al2O3-R2O系(R2O为碱金属氧化物)的含碱铝硅酸盐玻璃是适合的， 特别是Al2O3是对于改善机械特性有效的成分。另一方面，作为玻璃基板上残留的异物，已知由于抛光速率高等理由而适合用于 玻璃抛光的氧化铈磨粒作为异物残留。在玻璃基板的制造工序中，使用含有氧化铈磨粒 的浆料对由玻璃板切出的玻璃圆板的主表面和端面进行抛光后，为了将主表面进一步平坦 化，有时使用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对主表面进行最终抛光。此时，即使主表面上残 留有氧化铈磨粒也可以通过最终抛光将其除去，但是，附着在端面上的氧化铈磨粒未被除 去而残留，在最终抛光后的清洗工序中，可能再附着到主表面上。基于这样的背景，希望将氧化铈磨粒完全除去，提出了含有无机酸和抗坏血酸的 清洗液(例如，参考专利文献1和2)。该清洗液通过无机酸与抗坏血酸的作用而将氧化铈 磨粒溶解除去。另外，提出了在最终工序的清洗中使用以加热后的硫酸为主成分的清洗液(例 如，参考专利文献3)。专利文献1 日本特开2006-99847号公报(权利要求书的范围)专利文献2 日本特开2004-59419号公报(权利要求书的范围)专利文献3 日本特开2008-90898号公报(权利要求书的范围)
技术实现思路
但是，本专利技术人等对上述清洗技术进行验证时确认，在利用含有抗坏血酸和无机 酸的清洗液的清洗中，虽然可以减少在玻璃圆板的端部残留的氧化铈磨粒，但是有时不能 完全除去。另外还确认，该清洗液的PH低至1 2，因此，在应用于包含含碱铝硅酸盐玻璃 的玻璃圆板时有时引起大的表面粗糙。另一方面，在将以加热后的硫酸为主成分的清洗液用于最终抛光工序后的清洗 时，在玻璃基板的端部残留的氧化铈磨粒基本上可以完全除去，但有时引起大的表面粗糙。本专利技术鉴于上述问题而作出，目的在于对于包含含碱铝硅酸盐玻璃的玻璃圆板， 在经过使用含有氧化铈磨粒的浆料的抛光工序制造信息记录介质用玻璃基板的方法中，提 供抑制氧化铈磨粒的残留、并且主表面的表面粗糙度小的信息记录介质用玻璃基板。本专利技术提供如下所示的信息记录介质用玻璃基板及其制造方法、磁记录介质。(1) 一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，包含以下工序对包含含碱铝硅 酸盐玻璃的玻璃圆板进行研磨的研磨工序；和之后使用含有氧化铈磨粒的浆料进行抛光 的氧化铈抛光工序，其特征在于，含碱铝硅酸盐玻璃中的Si02含量减A1203含量得到的差 (Si02-Al203)为 62 摩尔 ％ 以下，还包含以下工序紧接着氧化铈抛光工序，使用硫酸浓度为20质量％以上且80质量％以下、过氧化 氢浓度为1质量％以上且10质量％以下的清洗液在50°C以上且100°C以下的液温下对玻 璃圆板进行清洗的清洗工序，和在所述清洗工序后使用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行 抛光的精抛光工序。(2)如⑴所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，含碱铝硅酸盐玻璃 的组成为Si02 55 75 摩尔 ％，A1203 5 17 摩尔 ％，Li20+Na20+K20(下文记为 R20) 4 27 摩尔 %，MgO+CaO+SrO+BaO (下文记为 R，0) :0 20 摩尔 %，并且 Si02+Al203+R20+R，0 90 摩尔％以上。(3)如(2)所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，含碱铝硅酸盐玻璃 的组成中，Si02*63摩尔％以上，R20为16摩尔％以上，R’ 0为0 10摩尔％。另夕卜，例如‘％0为16摩尔％以上”是指“含有Li20、Na20和K20中的任意一种以上 成分，且Li20、妝20和1(20的总含量为16摩尔％以上”。此外，“R’ 0为0 10摩尔％ ”是 指“含有MgO、CaO、SrO和BaO中的任意一种以上成分，且MgO、CaO、SrO和BaO的总含量为 0 10摩尔％，，。(4)如⑴至(3)中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，所述胶态二氧化硅磨粒的平均粒径为lOnm以上且50nm以下。(5)如(4)所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，含有所述胶态二氧 化硅磨粒的浆料的PH为1以上且6以下。(6)如⑴至(5)中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，紧接着所述清洗工序进行精抛光工序。(7)如(6)所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，含碱铝硅酸盐玻璃 中的Si02含量减A1203含量得到的差(Si02-Al203)为50摩尔％以上且62摩尔％以下。(8)如(7)所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，含碱铝硅酸盐玻璃 的组成为Si02 63 71 摩尔 ％，A1203 7 12. 5 摩尔 ％，R20 16 24 摩尔 ％，R，0 :0 10 摩尔 ％，并且 Si02+Al203+R20+R，0 90 摩尔 ％ 以上。(9)如⑴至(5)中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，在所述清洗工序与精抛光工序之间，包含以下工序使用含有氧化铈磨粒的浆料和具有肖氏(Shore) A硬度为60°以下的发泡树脂层 的抛光垫对玻璃圆板的主表面进行抛光的再抛光工序。(10)如⑷或(5)所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，在所述清洗工序与精抛光工序之间，包含以下工序使用含有平均粒径大于50nm且小于等于lOOnm的胶态二氧化硅磨粒并且pH为8 以上且12以下的浆料对玻璃圆板的主表面进行抛光的工序。(11)如(9)或(10)所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，含碱铝硅酸盐玻璃中的Si02含量减A1203含量得到的差(Si02-Al203)为45摩尔％ 以上且小于50摩尔％。(12)如(11)所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，含碱铝硅酸盐玻 璃的组成为Si02 60摩尔%以上且低于63摩尔%，A1203 12. 5 15摩尔％，R20 18 22摩 尔％，『0:0 6摩尔％，并且Si02+Al203+R20+R，0:90摩尔％以上。(13)如(1)至(12)中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征 在于，在所述清洗工序中，将玻璃圆板在50°C以上且低于60°C的清洗液中浸渍25分钟 以上且30分钟以下，或者在60°C以上且低于70°C的清洗液中浸渍15分钟以上且30分钟 以下，或者在70°C以上且100°C以下的清洗液中浸渍5分钟以上且30分钟以下。(14)如(1)至(13)中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征 在于，在精抛光工序中，使玻璃圆板的主表面的均方根粗糙度(Rms)为0. 15nm以下。(15)如(1)至(14)中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征 在于，在精本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，包含以下工序：对包含含碱铝硅酸盐玻璃的玻璃圆板进行研磨的研磨工序；和之后使用含有氧化铈磨粒的浆料进行抛光的氧化铈抛光工序，其特征在于，含碱铝硅酸盐玻璃中的ＳｉＯ↓［２］含量减Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］含量得到的差（ＳｉＯ↓［２］－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］）为６２摩尔％以下，还包含以下工序：紧接着氧化铈抛光工序，使用硫酸浓度为２０质量％以上且８０质量％以下、过氧化氢浓度为１质量％以上且１０质量％以下的清洗液在５０℃以上且１００℃以下的液温下对玻璃圆板进行清洗的清洗工序，和在所述清洗工序后使用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行抛光的精抛光工序。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：田村昌彦，百濑彻，宫谷克明，中岛哲也，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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