载体清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种载体清洗装置，包括：载体罩清洗部，具载体罩腔体，其内部具有空间，上部开放，容置载体罩；第一转动单元，其设于所述载体罩腔体的上部，转动所述载体罩；第一推拉单元，其上下移动；第一喷嘴，其设于所述载体罩腔体的内部，向所述载体罩喷射清洗液；本体清洗部，具本体腔体，其设于所述载体罩清洗部的下侧，内部具有空间，上部开放，容置至少两个本体；第二转动单元，其设于所述本体腔体的上部，转动所述本体；第二推拉单元，其上下移动，以便于将所述本体容置于所述本体腔体或者从所述本体腔体排出；第二喷嘴，其设于所述本体腔体的内部，向所述本体喷射清洗液；以及壳体，其提供所述载体罩清洗部和所述本体清洗部的设置空间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种载体清洗装置，更具体地，涉及一种用于清洗载体的载体清洗装置，该载体用于容置晶圆或微电子元器件、半导体元器件、平板显示器、led等。

技术介绍

1、载体(carrier)采用：用于运输及储存基板或微电子元器件的前开式运输盒(front opening shipping box；以下称作“fosb”)；以及不仅用于运输和储存，还可以用于实施工程的前开式一体传送盒(front open unified pod；以下称作“foup”)等。例如，加工300mm直径基板的装置中，移送基板时，采用可容置基板的foup。通常，载体由载体本体以及载体罩组成，该载体罩为所述本体提供超洁净的内部环境，以便于密封所述本体，储存和搬运基板。基板通过可插入本体内的暗盒或设于载体内的搁置板实现承载。

2、载体暴露在杂质中，即，颗粒状物质以及空气中分子污染物等多种污染源中。基板置于载体内或长时间存储载体时，其污染源会渗透到载体内，因此，需要将其定期清洗。

3、传统的载体清洗装置将通过分离载体和载体罩的拆机工具(opener)分离的本体和载体罩，分本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种载体清洗装置，其特征在于，用于清洗载体的清洗装置中，包括：

2.根据权利要求1所述的载体清洗装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的载体清洗装置，其特征在于，

4.根据权利要求2所述载体清洗装置，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的载体清洗装置，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的载体清洗装置，其特征在于，所述载置台包括：

7.根据权利要求6所述的载体清洗装置，其特征在于，

8.根据权利要求7所述的载体清洗装置，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的载体清洗装置，其特征在于，<...

【技术特征摘要】

1.一种载体清洗装置，其特征在于，用于清洗载体的清洗装置中，包括：

2.根据权利要求1所述的载体清洗装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的载体清洗装置，其特征在于，

4.根据权利要求2所述载体清洗装置，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的载体清洗装置，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的载体清洗装置，其特征在于，所述载置台包括：

7.根据权利要求6所述的载体清洗装置，其特征在于，

8.根据权利要求7所述的载体清洗装置，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的载...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵昌铉，
申请(专利权)人：株爱斯缇亿，
类型：发明
国别省市：