【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及硅片清洗，具体涉及一种防硅片氧化的药液清洗装置。
技术介绍
1、光伏硅片经过切片、倒角、双面研磨、抛光等不同的工序加工后，其表面已受到严重沾污，为避免硅片表面继续氧化，需要对硅片外表面进行药液清洗，清除晶片表面的污染物。污染物通常以原子离子、分子、粒子或膜的形式，以物理吸附或化学吸附的方式存在于硅片表面，超声波清洗机是通过利用超声波在液体中的空化作用，加速度作用及直径流作用，对液体和污物直接间接的作用，使污物层被分散乳化剥离而达到清洗目的。
2、现有的超声清洗设备属于物理清洗，先将硅片放入清洗槽内，再将超声波清洗药液放入清洗槽内，超声波在传播过程中介质的压力做交替变化，在负压区域液体中产生撕裂的力，并形成极微小的真空气泡，而这些气泡快速的崩溃而产生极微小的擦洗动作，从而除去污物层。由于硅片的两面均需要进行清洗，所以硅片与清洗槽内的放置架存在接触面，此接触面无法受到超声波的清洗作用，需要手动将硅片翻转180度后进行二次清洗，整体清洗效率低下，不利于自动化生产。
技术实现思路p>
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【技术保护点】
1.一种防硅片氧化的药液清洗装置，其特征在于，包括操作主体，操作主体包括底座，底座通过设置在其顶部的支架转动连接有转轴，转轴圆周外表面固定连接有超声波清洗箱；
2.根据权利要求1所述的一种防硅片氧化的药液清洗装置，其特征在于：所述超声波清洗箱顶部通过阻尼器铰链转动连接有可视窗，所述底座顶部固定连接有与超声波清洗箱底部相连接的升降座。
3.根据权利要求1所述的一种防硅片氧化的药液清洗装置，其特征在于：所述载物件包括第一载物板和第二载物板，所述第一载物板和第二载物板从左到右依次交错分布，所述第一载物板的端面与框板侧面固定连接，所述框板下表面开设有与...
【技术特征摘要】
1.一种防硅片氧化的药液清洗装置，其特征在于，包括操作主体，操作主体包括底座，底座通过设置在其顶部的支架转动连接有转轴，转轴圆周外表面固定连接有超声波清洗箱；
2.根据权利要求1所述的一种防硅片氧化的药液清洗装置，其特征在于：所述超声波清洗箱顶部通过阻尼器铰链转动连接有可视窗，所述底座顶部固定连接有与超声波清洗箱底部相连接的升降座。
3.根据权利要求1所述的一种防硅片氧化的药液清洗装置，其特征在于：所述载物件包括第一载物板和第二载物板，所述第一载物板和第二载物板从左到右依次交错分布，所述第一载物板的端面与框板侧面固定连接，所述框板下表面开设有与第二载物板外表面相贴合的升降槽，所述第二载物板顶部固定连接有升降杆，且该升降杆顶端贯穿升降槽并与框板内部滑动连接。
4.根据权利要求3所述的一种防硅片氧化的药液清洗装置，其特征在于：所述第一载物板和第二载...
【专利技术属性】
技术研发人员：姚禄华，胡运俊，李成，郑油根，阮清山，赵江风，
申请(专利权)人：东莞市鼎力自动化科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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