【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于光学检测，特别是关于一种光学检测系统和光学检测方法。
技术介绍
1、随着半导体芯片集成化、多功能化的发展，表面特征面积的越来越小，加工难度越来越大，在每一个加工步骤之后需要对芯片中是否存在凹槽、颗粒、划痕等缺陷进行检测，并标注出对应缺陷的坐标位置。
2、目前，对于半导体芯片缺陷检测最常用的方法就是视觉检测，但是一般的视觉检测反应速度慢，无法快速检测判断半导体芯片缺陷有无以及判断对应缺陷的坐标位置，难以适应目前半导体芯片集成化、多功能化的生产需求。
3、因此，针对上述技术问题，有必要提供一种光学检测系统和光学检测方法。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种光学检测系统和光学检测方法，其能够解决无法快速检测判断半导体芯片缺陷有无以及判断对应缺陷的坐标位置的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术的实施例提供了一种光学检测系统，包括：光发射模块、光调节模块、成像模块和处理模块。
3、光发射模块包括光源和光纤固定装置，所述光源用于发射光线，所述光纤固定装置上固定连接有光纤。光调节模块位于所述光线的传输路径上，用于调节所述光线至待测样品。成像模块用于获得所述光线反射形成的待测样品的图像以及所述待测样品的任一待测区域的图像。处理模块用于对所述待测样品的图像进行识别，提取所述待测样品的图像中各个区域的特征信息。
4、在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述光源为疝气灯。
5、在本专利技术的一个或多个实
6、在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述光调节模块包括光阑、光路和分束器，所述光阑安装在光纤固定装置的底端，所述光路安装在光阑的底端，所述分束器位于光路的一侧，所述分束器的底端安装有物镜。
7、在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述光阑的通孔为可调孔径。
8、在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述光路包括透镜四、透镜五、反光镜和透镜六，所述透镜四、透镜五和反光镜均位于所述光线的传输路径上，所述透镜六位于所述反光镜的出射光线传输路径上。
9、在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述分束器为半透半反镜。
10、在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述成像模块包括镜筒透镜和成像单元，所述成像单元为图像传感器。
11、在本专利技术的一个或多个实施方式中，一种光学检测系统还包括：电动移动平台、载台和升降平台，所述载台安装在电动移动平台上，所述电动移动平台能够带动载台在xy两个方向水平移动，所述工业相机安装在升降平台上，所述升降平台能够带动工业相机在z方向竖直升降。
12、为实现上述目的，本专利技术的实施例还提供了一种光学检测方法，包括以下步骤：
13、s1、将待测样品放置在载台上，并调节物镜沿垂直方向上下移动，使物镜将光线聚焦在待测样品表面；
14、s2、光源发射光线，光线依次经光调节模块和分束器后照射到所述待测样品上，被所述待测样品反射形成反射光；
15、s3、反射光依次经过分束器和镜筒透镜投射至成像单元，使所述成像单元获得待测样品的图像信息；
16、s4、处理模块对图像信息分析处理，判断图像区域是否为待测区域，若是，获取所述待测区域的位置信息和面积信息，对所述待测区域的图像进行识别，提取所述待测区域的图像中各个结构的特征信息，并根据所述结构的特征信息判断所述结构是否为待测结构，若是，获取所述待测结构的位置信息和面积信息，根据所有的待测区域的位置信息生成检测路径，并控制所述待测样品进行相应的移动，同时调节工业相机的放大倍率，调整检测区域的位置和面积。
17、与现有技术相比，根据本专利技术实施方式具有以下技术效果：本专利技术能够快速判断半导体芯片缺陷有无，具有快速、非接触和无损伤等优点。本专利技术采用的紧凑型，低功耗，高性能的工业相机，无需风扇额外制冷即可全分辨率满帧稳定采集图像，可利用自身对于像素的暗场校正，获得极佳的图像均匀性，具有较高的检测精度。处理模块可根据不同的检测要求，对图像特征进行识别后，进行图像灰度调整，边缘检测，目标分析等处理，且检测区域面积的可调。
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1.一种光学检测系统，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的一种光学检测系统，其特征在于，所述光源为疝气灯。
3.如权利要求2所述的一种光学检测系统，其特征在于，所述光线的波长范围为380nm～700nm，且在380nm～700nm波段的频谱分布平整，能够满足光学检测的系统需求。
4.如权利要求1所述的一种光学检测系统，其特征在于，所述光调节模块包括光阑、光路和分束器，所述光阑安装在光纤固定装置的底端，所述光路安装在光阑的底端，所述分束器位于光路的一侧，所述分束器的底端安装有物镜。
5.如权利要求4所述的一种光学检测系统，其特征在于，所述光阑的通孔为可调孔径。
6.如权利要求4所述的一种光学检测系统，其特征在于，所述光路包括透镜四、透镜五、反光镜和透镜六，所述透镜四、透镜五和反光镜均位于所述光线的传输路径上，所述透镜六位于所述反光镜的出射光线传输路径上。
7.如权利要求4所述的一种光学检测系统，其特征在于，所述分束器为半透半反镜。
8.如权利要求1所述的一种光学检测系统，其特征在于，所述成像模
9.如权利要求1所述的一种光学检测系统，其特征在于，一种光学检测系统还包括：电动移动平台、载台和升降平台，所述载台安装在电动移动平台上，所述电动移动平台能够带动载台在XY两个方向水平移动，所述工业相机安装在升降平台上，所述升降平台能够带动工业相机在Z方向竖直升降。
10.一种光学检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种光学检测系统，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的一种光学检测系统，其特征在于，所述光源为疝气灯。
3.如权利要求2所述的一种光学检测系统，其特征在于，所述光线的波长范围为380nm～700nm，且在380nm～700nm波段的频谱分布平整，能够满足光学检测的系统需求。
4.如权利要求1所述的一种光学检测系统，其特征在于，所述光调节模块包括光阑、光路和分束器，所述光阑安装在光纤固定装置的底端，所述光路安装在光阑的底端，所述分束器位于光路的一侧，所述分束器的底端安装有物镜。
5.如权利要求4所述的一种光学检测系统，其特征在于，所述光阑的通孔为可调孔径。
6.如权利要求4所述的一种光学检测系统，其特征在于，所述光路包...
【专利技术属性】
技术研发人员：顾振鹏，凌栋，
申请(专利权)人：苏州康钛检测科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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