【技术实现步骤摘要】
本新型涉及一种输送装置，特别涉及一种输送装置的磁性导正机构。
技术介绍
连续输送装置被广泛的运用在许多领域中，特别被应用至需要连续加工的工艺。 以运用在半导体制造业、光电业、电子业等的溅镀技术工艺为例，为了提高镀膜产品的竞争 力、降低设备与操作成本、缩短周期时间(cycle time)、提高产能效率以及提升镀膜质量与 产品良率，连续式(in-line)多腔体(multi-chambers)真空溅镀设备便从其它溅镀设备中 脱颖而出。此连续式多腔体真空溅镀设备其特点便是使用一连续输送装置。连续式真空溅 镀设备通常包含一入料腔体、一镀膜腔体、一出料腔体以及一连续输送装置，其中入料腔体 以及出料腔体的真空度低于镀膜腔体的真空度。待加工的一基板是借由连续输送装置一片 接一片地连续输入或输出上述腔体，并在腔体内进行溅镀加工的动作。连续式多腔体真空溅镀设备中，最常使用的便是一直立式连续输送装置。一般的 直立式连续输送装置是由一滑轨、一滑块、一承载工具以及多个滚轮所组成。其搭配方式如 下承载工具的一上缘与滑块接合，而滑块则置于滑轨内。滚轮置于承载工具的一下缘，目 的是提供动力...
【技术保护点】
一种输送装置的磁性导正机构，该输送装置具有一承载工具，该承载工具被多个滚轮输送前进，其特征在于，该磁性导正机构包含： 一滑座，连接于该承载工具的一侧边，该滑座内部设置有至少一第一磁性组件；以及 一轨道，具有二彼此相对的槽状框件，该滑座位于该二槽状框件之间且相隔一距离，该二槽状框件内部分别设置有至少一第二磁性组件及至少一第三磁性组件； 其中，该第二磁性组件、该第三磁性组件的磁性为分别与该第一磁性组件的磁性相斥。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈朝钟，
申请(专利权)人：勤友企业股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]
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