一种输送装置的磁性导正机构，其输送装置具有一承载工具，此承载工具以直立方式被多个滚轮输送前进。磁性导正机构具有一滑座及一轨道，并使滑座与承载工具相互连接，且滑座内部设置有至少一第一磁性组件。而轨道则具有二彼此相对的槽状框件，以供滑座置入二槽状框件之间且相隔一距离。此二槽状框件内部分别设置有一第二磁性组件及一第三磁性组件，借由第二磁性组件与第三磁性组件分别相斥于第一磁性组件，令滑座非接触式的于轨道内移动，以提供更佳的输送稳定性与更长的使用寿命。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本新型涉及一种输送装置，特别涉及一种输送装置的磁性导正机构。
技术介绍
连续输送装置被广泛的运用在许多领域中，特别被应用至需要连续加工的工艺。 以运用在半导体制造业、光电业、电子业等的溅镀技术工艺为例，为了提高镀膜产品的竞争 力、降低设备与操作成本、缩短周期时间(cycle time)、提高产能效率以及提升镀膜质量与 产品良率，连续式(in-line)多腔体(multi-chambers)真空溅镀设备便从其它溅镀设备中 脱颖而出。此连续式多腔体真空溅镀设备其特点便是使用一连续输送装置。连续式真空溅 镀设备通常包含一入料腔体、一镀膜腔体、一出料腔体以及一连续输送装置，其中入料腔体 以及出料腔体的真空度低于镀膜腔体的真空度。待加工的一基板是借由连续输送装置一片 接一片地连续输入或输出上述腔体，并在腔体内进行溅镀加工的动作。连续式多腔体真空溅镀设备中，最常使用的便是一直立式连续输送装置。一般的 直立式连续输送装置是由一滑轨、一滑块、一承载工具以及多个滚轮所组成。其搭配方式如 下承载工具的一上缘与滑块接合，而滑块则置于滑轨内。滚轮置于承载工具的一下缘，目 的是提供动力使承载工具能往前进。当承载工具往前进时，便会因承载工具与滑块间的结 合，而连带使承载工具顺着滑轨的一轨道移动。但是，以往的现有技术会有滑块与滑轨间磨擦干涉以及偏移的问题存在。原因在 于滑块与滑轨之间的搭配是接触式的，所以滑块与滑轨间必须要有适当的一间隙才能使滑 块顺利在滑轨上移动。然而连续式多腔体真空溅镀设备的每个腔体的温度均不同，并且每 个腔体内的温度分部亦不平均。而滑块与滑轨间的运动皆在上述腔体内进行，因此滑块与 滑轨在冷缩热胀下，滑块与滑轨间的间隙便会有大有小。滑块与与滑轨间的间隙太大时，此 间隙会造成滑块在运行中偏移，而滑块的偏移会连带使承载工具在输送上也产生偏移；滑 块与滑轨间的间隙太小，便会造成滑块与滑轨间的磨擦与干涉，损耗输送装置的寿命。
技术实现思路
鉴于以上的问题，本技术的目的在于提供一种输送装置的磁性导正机构，借 以解决现有技术所存在滑轨与滑块间偏移与磨擦干涉的问题。本技术所揭露的输送装置的磁性导正机构，其输送装置具有一承载工具，此 承载工具被多个滚轮输送前进。而磁性导正机构包含一滑座及一轨道。其中，滑座连接于 承载工具的一侧边，并于滑座内部设置有至少一第一磁性组件。轨道具有二彼此相对的槽 状框件，并使滑座位于二槽状框件之间且相隔一距离，此二槽状框件内部分别设置有至少 一第二磁性组件及至少一第三磁性组件。当滑座相对于轨道移动时，使其第二磁性组件与 第三磁性组件分别相斥于第一磁性组件，令滑座非接触于二槽状框件。在本技术所揭露的一实施例，其中二槽状框件分别具有一沟槽，各沟槽分别 用以承载第二磁性组件与第三磁性组件。在本技术所揭露的一实施例，其中滑座具有一凹陷，凹陷位于滑座内部中央。 凹陷用来承载容纳第一磁性组件。在本技术所揭露的一实施例，其中该磁性导正机构具有一垂直轴向，该承载 工具沿着该垂直轴向设置在该多个滚轮上，该承载工具与该多个滚轮之间保持一垂直角度。在本技术所揭露的一实施例，其中该磁性导正机构具有一垂直轴向，该承载 工具沿一倾斜轴向设置在该多个滚轮上，该承载工具沿着该倾斜轴向与该垂直轴向之间保 持一倾斜角度，该倾斜角度小于15°。本技术所还揭露另一实施例的输送装置的磁性导正机构，其输送装置具有一 承载工具，此承载工具被多个滚轮输送前进。而磁性导正机构包含一滑座、一轨道及一磁性 控制设备。其中，滑座连接于承载工具的一侧边，并于滑座内部设置有至少一第一磁性组 件。轨道具有二彼此相对的槽状框件，并使滑座位于二槽状框件之间且相隔一距离，此二槽 状框件内部分别设置有至少一第二磁性组件及至少一第三磁性组件。磁性控制设备分别电 性连接于第二磁性组件和第三磁性组件。当滑座相对于轨道移动时，第二磁性组件与第三磁性组件分别相斥于第一磁性组 件，并借由磁性控制设备调整第二磁性组件和第三磁性组件的相斥力，令滑座恒保持在二 槽状框件的中间位置。在本技术所揭露的一实施例，其中该二槽状框件分别具有一沟槽，各该沟槽 分别用以承载该第二磁性组件与该第三磁性组件。在本技术所揭露的一实施例，其中该滑座具有一凹陷，该凹陷位于该滑座内 部中央，该凹陷用以承载该第一磁性组件。在本技术所揭露的一实施例，磁性导正机构还包括一光发射器及一感应芯 片。光发射器用以发出一光束，使其光束与承载工具的一轨道路径相互平行。感应芯片设置 在承载工具，并且感应芯片与磁性控制设备相互电性连接。当感应芯片接收光发射器所发 出的光束时，感应芯片可检测光束与轨道路径之间的偏移量，使得感应芯片依据偏移量发 出一信号至磁性控制设备，令磁性控制设备调整第二磁性组件和第三磁性组件的相斥力。根据上述本技术所揭露的实施例，由于滑座与轨道间借由磁力相斥，故不会 互相接触。且滑座与轨道因互不接触，滑座与轨道不被外在的热胀冷缩环境所影响，并能使 滑座位于轨道两侧边的中央而不易有偏移。因此综合上述，本技术所揭露的实施例可 以避免滑座与轨道间的磨擦，增加输送装置使用的寿命；并且克服滑座偏移以及现有技术 因摩擦所产生的微尘所造成的产品瑕疵的问题，并提升输送上的稳定性。另外，本技术 所揭露的实施例中若轨道两侧的磁性组件为电磁铁，且再搭配磁控导正设备，本技术 所揭露的实施例便可以控制磁力大小，使滑座恒保持于轨道的中央。如此一来可使输送上 的稳定性更加提升。以下结合附图和具体实施例对本技术进行详细描述，但不作为对本技术 的限定。附图说明图1为根据本技术一实施例的输送装置的磁性导正机构的概要结构图；图2为说明图1的轨道与滑座的局部详细结构图；图3为说明于图2中的滑座的概要分解图；图4为说明于图1中一实施例的轨道与滑座的剖面图；图5为说明于图1中另一实施例的轨道与滑座的剖面图；以及图6为搭配图1的直立式连续输送装置的磁性导正机构的额外配备的磁控导正设 备的连结示意图。其中，附图标记100磁性导正机构110轨道112第一槽状框件114第二槽状框件116沟槽120滑座122凹陷124上盖126滑座下壳129距离130第一磁性组件140第二磁性组件150第三磁性组件160滚轮170承载工具180磁控导正设备182感应晶184光发射器186磁性控制设备188光束500倾斜角度具体实施方式以下结合附图对本技术的结构原理和工作原理作具体的描述请参照图1、图2与图3，其为根据本技术一实施例的输送装置的磁性导正机 构100。其磁性导正机构100包含一轨道110、一滑座120、多个第一磁性组件130、多个第 二磁性组件140及多个第三磁性组件150。接着参照图2，其中上述轨道110具有彼此相对 的一第一槽状框件112与一第二槽状框件114，第一槽状框件112与第二槽状框件114分别 具有一沟槽116。这些沟槽116分别用来承载第二磁性组件140与第三磁性组件150。请参照图2，滑座120置于轨道110的第一槽状框件112与第二槽状框件114之 间。且滑座120分别与该第一槽状框件112与该第二槽状框件114相隔一距离129，也就是 滑座120与轨道11本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种输送装置的磁性导正机构，该输送装置具有一承载工具，该承载工具被多个滚轮输送前进，其特征在于，该磁性导正机构包含： 一滑座，连接于该承载工具的一侧边，该滑座内部设置有至少一第一磁性组件；以及 一轨道，具有二彼此相对的槽状框件，该滑座位于该二槽状框件之间且相隔一距离，该二槽状框件内部分别设置有至少一第二磁性组件及至少一第三磁性组件； 其中，该第二磁性组件、该第三磁性组件的磁性为分别与该第一磁性组件的磁性相斥。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈朝钟，
申请(专利权)人：勤友企业股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]
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