【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光刻机，更为具体地说，涉及一种光刻机的物镜系统的倍率调整方法和光刻机的物镜系统。
技术介绍
1、在光刻机中，均匀光通过照明系统打到掩模版上，将刻好的图形在通过物镜系统刻到晶圆上。因此，物镜系统是光刻机中的核心部分，其性能的好坏直接决定了光刻的图形传递能力。
2、通常，用于投影的物镜系统应用于光刻机时，需要用来做大面积、高分辨率的线路，设计要求比较高。因此，在制造光刻机设备的过程中，对于操作人员来说，需要调试物镜系统的倍率，但是，如果通过移动镜片来调整物镜系统，则倍率比较难校准。
3、因此，期望提供改进的光刻机的物镜系统的倍率调整方案。
技术实现思路
1、本申请实施例提供了一种光刻机的物镜系统的倍率调整方法和物镜系统，其通过改变物镜系统中的镜片间气体折射率的大小，来实现物镜系统的倍率调整，降低了物镜系统的倍率调整的复杂度，并提升了物镜系统的倍率调整的可实现性。
2、根据本申请的一方面，提供了一种光刻机的物镜系统的倍率调整方法，包括：在光刻机中放置掩模版和硅片以进行曝光；确定曝光图形与参考图形的实际比率是否达到预设比率；以及，基于所述曝光图形与参考图形的实际比率与所述预设比率计算气体压强值，并基于所述气体压强值调整所述物镜系统的用于容纳镜片的密闭腔体的气体压强。
3、在上述光刻机的物镜系统的倍率调整方法中，确定曝光图形与参考图形的实际比率是否达到预设比率包括：响应于所述曝光图形与所述参考图形的实际比率未达到预设比率，调整所述物镜
4、在上述光刻机的物镜系统的倍率调整方法中，所述物镜系统的用于容纳镜片的密闭腔体包括从物侧到像素顺序排列的两个或更多个密闭腔室，且每个所述密闭腔室包括气体出入口和气压测量仪。
5、在上述光刻机的物镜系统的倍率调整方法中，基于所述气体压强值调整所述物镜系统的用于容纳镜片的密闭腔体的气体压强包括：调整所述两个或更多个密闭腔室中靠近物侧的密闭腔室的气体压强；以及，响应于所述两个或更多个密闭腔室中靠近物侧的密闭腔室的气体压强调整未满足倍率调整需要，调整所述两个或更多个密闭腔室中远离物侧的密闭腔室的气体压强。
6、在上述光刻机的物镜系统的倍率调整方法中，所述物镜系统的用于容纳镜片的密闭腔体中的气体为空气，且通过将空气充入或者抽出所述密闭腔体来调整所述密闭腔体的空气压强。
7、在上述光刻机的物镜系统的倍率调整方法中，所述空气为在15摄氏度的温度和1013.25毫巴的总压力下的干燥空气，且具有以下摩尔百分比组成：78.09n2、20.95o2、0.93ar和0.03co，所述空气的折射率为：
8、
9、其中ri为混合物中第i个组分的折射率，ρi为混合物中第i个组分的密度。
10、根据本申请的另一方面，提供了一种光刻机的物镜系统，所述物镜系统的预设倍率是1:1，且输入光的波长为365nm，所述物镜系统通过如上所述的光刻机的物镜系统的倍率调整方法调整为所述预设倍率。
11、在上述光刻机的物镜系统中，所述物镜系统从物侧到像素依次包括第一镜片到第十镜片，光阑，和第十一镜片到第二十一镜片。
12、本申请实施例提供了一种光刻机的物镜系统的倍率调整方法和物镜系统，其通过改变物镜系统中的镜片间气体折射率的大小，来实现物镜系统的倍率调整，降低了物镜系统的倍率调整的复杂度，并提升了物镜系统的倍率调整的可实现性。
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1.一种光刻机的物镜系统的倍率调整方法，包括：
2.如权利要求1所述的光刻机的物镜系统的倍率调整方法，其中，确定曝光图形与参考图形的实际比率是否达到预设比率包括：
3.如权利要求1所述的光刻机的物镜系统的倍率调整方法，其中，所述物镜系统的用于容纳镜片的密闭腔体包括从物侧到像素顺序排列的两个或更多个密闭腔室，且每个所述密闭腔室包括气体出入口和气压测量仪。
4.如权利要求3所述的光刻机的物镜系统的倍率调整方法，其中，基于所述气体压强值调整所述物镜系统的用于容纳镜片的密闭腔体的气体压强包括：
5.如权利要求1所述的光刻机的物镜系统的倍率调整方法，其中，所述物镜系统的用于容纳镜片的密闭腔体中的气体为空气，且通过将空气充入或者抽出所述密闭腔体来调整所述密闭腔体的空气压强。
6.如权利要求5所述的光刻机的物镜系统的倍率调整方法，其中，所述空气为在15摄氏度的温度和1013.25毫巴的总压力下的干燥空气，且具有以下摩尔百分比组成：78.09N2、20.95O2、0.93Ar和0.03CO，所述空气的折射率为：
7.一种光刻
8.如权利要求7所述的光刻机的物镜系统，其中，所述物镜系统从物侧到像素依次包括第一镜片到第十镜片，光阑，和第十一镜片到第二十一镜片。
...【技术特征摘要】
1.一种光刻机的物镜系统的倍率调整方法，包括：
2.如权利要求1所述的光刻机的物镜系统的倍率调整方法，其中，确定曝光图形与参考图形的实际比率是否达到预设比率包括：
3.如权利要求1所述的光刻机的物镜系统的倍率调整方法，其中，所述物镜系统的用于容纳镜片的密闭腔体包括从物侧到像素顺序排列的两个或更多个密闭腔室，且每个所述密闭腔室包括气体出入口和气压测量仪。
4.如权利要求3所述的光刻机的物镜系统的倍率调整方法，其中，基于所述气体压强值调整所述物镜系统的用于容纳镜片的密闭腔体的气体压强包括：
5.如权利要求1所述的光刻机的物镜系统的倍率调整方法，其中，所述物镜系统的用于容纳镜片的密闭腔体中的气体为空气，且通...
【专利技术属性】
技术研发人员：张琪，符友银，张曼妮，
申请(专利权)人：新毅东上海科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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