【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光刻机，更为具体地说，涉及一种光刻机的界面信息显示方法。
技术介绍
1、光刻机是半导体制造过程中的重要设备，用于将图形模式投射到硅片上进行芯片制造。在整个光刻机的主控系统中，包含了众多子系统，而每个子系统又包含大量的人机交互界面。在传统的光刻机的客户端软件中，通常将用户需要特定时间内持续关注的信息显示在界面上某个固定的公共位置，保证在切换不同的界面后仍然可以看到公共位置的信息。但这样虽然保证了公共信息在不同界面的显示，却大大牺牲了整个界面的空间，严重影响了实时刷新数据信息的显示，降低了界面的使用率。因此，当交互界面进一步缩小时，占用公共位置显示信息的传统界面设计显然已经不能够友好地显示需要的数据。
2、因此，期望提供一种改进的光刻机的界面信息显示方案。
技术实现思路
1、本申请实施例提供了一种光刻机的界面信息显示方法，其通过基于触摸滑动基类的侧边栏类来显示需要用户持续关注的信息，以实现界面信息的高效显示。
2、根据本申请的一方面，提供了一种光刻机的界面信息...
【技术保护点】
1.一种光刻机的界面信息显示方法，包括：
2.如权利要求1所述的光刻机的界面信息显示方法，其中，所述需要用户持续关注的信息包括主控系统与各子系统的连接状态信息，光罩版库/硅片库扫描结果信息。
3.如权利要求1所述的光刻机的界面信息显示方法，其中，所述侧边栏类具有可设置的显示宽高与位置参数，以实现基于不同的触摸位置而不同的多个侧边栏显示对象。
4.如权利要求1所述的光刻机的界面信息显示方法，其中，所述侧边栏类具有自动隐藏开关，用于控制所述侧边栏显示对象是否固定显示在当前交互界面上。
5.如权利要求1所述的光刻机的界面信息显...
【技术特征摘要】
1.一种光刻机的界面信息显示方法，包括：
2.如权利要求1所述的光刻机的界面信息显示方法，其中，所述需要用户持续关注的信息包括主控系统与各子系统的连接状态信息，光罩版库/硅片库扫描结果信息。
3.如权利要求1所述的光刻机的界面信息显示方法，其中，所述侧边栏类具有可设置的显示宽高与位置参数，以实现基于不同的触摸位置而不同的多个侧边栏显示对象。
4.如权利要求1所述的光刻机的界面信息显示方法，其中，...
【专利技术属性】
技术研发人员：张琪，符友银，沈全安，
申请(专利权)人：新毅东上海科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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