【技术实现步骤摘要】
本技术涉及镀膜磁控溅射用的挡底板，具体为一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构。
技术介绍
1、磁控溅射过程中，没有溅射到玻璃上的溅射物，就会全部堆积在挡底板上面，由于以前挡底板和玻璃传送下表面的间隙小，导致能够堆积的溅射物就有限，当溅射物过多，就会影响到玻璃的传送，甚至造成划伤等品质问题。
2、现有的挡底板结构一般无法进行角度调节，导致在使用的过程中出现弊端，实用性不高，长时间使用后会产生刮伤等损耗，缺失耐用性和防护性，因此我们提出了一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本技术提供了一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构，具备可调节角度，等优点，解决了现有的挡底板结构一般无法进行角度调节，导致在使用的过程中出现弊端，实用性不高，长时间使用后会产生刮伤等损耗，缺失耐用性和防护性的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构，包括固定板，所述固定板的顶部和底部设置有调节控制机构；
3、所述调节控制机构包括固定板的顶部和底部均固定安装有安装架，所述安装架的左侧内壁固定安装有直轴，所述直轴的右侧转动安装有板体，所述板体的左右两侧固定安装有与直轴转动连接的固定架，所述直轴的外侧套装有与固定架相贴合的弹簧，所述板体的外侧设置有防护层，所述防护层的外侧设置有阻燃层，所述阻燃层的外表面设置有凹层，右侧所述固定架的内部固定连接有贯穿至安装架外侧的转轴，所述转轴的右侧固定安装有转杆；
<...【技术保护点】
1.一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构，包括固定板(1)，其特征在于：所述固定板(1)的顶部和底部设置有调节控制机构；
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构，其特征在于：所述固定架(5)的内部开设有固定槽，所述直轴(3)通过固定槽与左侧固定架(5)转动连接，所述转轴(10)通过固定槽与右侧固定架(5)固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构，其特征在于：所述安装架(2)的右侧开设有旋转孔，所述转轴(10)通过旋转孔与安装架(2)转动连接。
4.根据权利要求1所述的一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构，其特征在于：所述转杆(11)的内部和安装架(2)的右侧均开设有相对应的螺纹槽，所述螺纹杆(12)通过螺纹槽与转杆(11)和安装架(2)螺纹连接。
5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构，其特征在于：所述防护层(7)为防腐镀镍精钢支撑，所述防护层(7)的厚度为一厘米。
6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构，其特征在于：所述阻燃层(8)为
...【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构，包括固定板(1)，其特征在于：所述固定板(1)的顶部和底部设置有调节控制机构；
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构，其特征在于：所述固定架(5)的内部开设有固定槽，所述直轴(3)通过固定槽与左侧固定架(5)转动连接，所述转轴(10)通过固定槽与右侧固定架(5)固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构，其特征在于：所述安装架(2)的右侧开设有旋转孔，所述转轴(10)通过旋转孔与安装架(2)转动连接。
4.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：王磊，
申请(专利权)人：天津智匠科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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