【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空镀膜，尤其涉及一种真空镀膜机。
技术介绍
1、在真空镀膜
，镀膜设备的效率产能、搬送稳定性、生产良品率、基板适用范围，以及产品镀膜的规格品质都是衡量一种真空磁控溅射镀膜设备是否具备竞争力的标准。
2、现有技术中的真空镀膜机包括真空镀膜室和进出料室，待镀膜的基板和已镀膜的基板都通过进出料室转运，由于已镀膜的基板会有一些掉膜渣的现象，往往出料环节容易污染到进料的待镀膜的基板，影响产品良率。而且，现有技术中的搬送机构的动作流程复杂，动作节拍慢，导致生产效率低。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种真空镀膜机，能够提高产品良率和生产效率。
2、为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
3、一种真空镀膜机，包括：
4、真空镀膜室，包括进料口和出料口；
5、进料室和出料室，所述进料室通过第一分隔门封闭所述进料口；所述出料室通过第二分隔门封闭所述出料口；
6、搬送机构，包括第一搬送机构和第二搬送机构，所述第一搬送机构设置于所述进料室，对应所述第一分隔门设置，用于将所述进料室的待镀膜的基板搬送至所述真空镀膜室；所述第二搬送机构设置于所述出料室，对应所述第二分隔门设置，用于将所述真空镀膜室的已镀膜的所述基板搬送至所述出料室。
7、作为真空镀膜机的一个可选方案，所述真空镀膜室内设置有公转盘，所述公转盘的周向设置有多个用于悬挂所述基板的挂架机构，所述挂架机构包括挂板和承载结构，多个所述挂
8、作为真空镀膜机的一个可选方案，所述真空镀膜室还包括旋转组件，所述旋转组件设置于状态切换位，所述旋转组件能旋转位于所述状态切换位的所述挂板，以使该所述挂板上的所述基板在搬运状态和镀膜状态之间转换。
9、作为真空镀膜机的一个可选方案，所述旋转组件包括进料旋转组件和出料旋转组件，所述状态切换位包括进料状态切换位和出料状态切换位，所述进料状态切换位靠近所述进料口设置，所述出料状态切换位靠近所述出料口设置，所述进料旋转组件用于将所述第一搬送机构搬送至所述真空镀膜室的待镀膜的所述基板由所述搬运状态旋转至所述镀膜状态，所述出料旋转组件用于将所述真空镀膜室的已镀膜的所述基板由所述镀膜状态旋转至所述搬运状态。
10、作为真空镀膜机的一个可选方案，所述进料室设置有第一基板挂架，所述第一基板挂架包括多个自所述第一基板挂架的中心轴向外呈辐射状延伸的第一承载板，所述第一承载板用于承载所述基板；
11、所述出料室设置有第二基板挂架，所述第二基板挂架包括多个自所述第二基板挂架的中心轴向外呈辐射状延伸的第二承载板，所述第二承载板用于承载所述基板。
12、作为真空镀膜机的一个可选方案，所述第一搬送机构包括第一上移动机构和第一下移动机构，所述第一上移动机构和所述第一下移动机构共同作用能将位于所述第一承载板上的待镀膜的所述基板平移至所述挂板；
13、所述第二搬送机构包括第二上移动机构和第二下移动机构，所述第二上移动机构和所述第二下移动机构共同作用能将位于所述真空镀膜室内旋转至所述搬运状态的已镀膜的所述基板平移至所述第二承载板。
14、作为真空镀膜机的一个可选方案，所述进料室内还设置有基板加热装置，所述基板加热装置包括板式加热器，所述板式加热器设置于所述第一承载板上，用于加热所述进料室内的待镀膜的所述基板。
15、作为真空镀膜机的一个可选方案，所述第一分隔门包括第一门轴、第一门体和第一驱动件，所述第一门轴设于所述第一门体的一端，所述第一门轴转动设置于所述进料室，所述第一驱动件用于驱动所述第一门轴转动；
16、所述第二分隔门包括第二门轴、第二门体和第二驱动件，所述第二门轴设于所述第二门体的一端，所述第二门轴转动设置于所述出料室，所述第二驱动件用于驱动所述第二门轴转动。
17、作为真空镀膜机的一个可选方案，所述进料室和所述出料室设置为一体结构，通过分隔板分隔成左右对称的所述进料室和所述出料室。
18、作为真空镀膜机的一个可选方案，所述真空镀膜室内设置有多组离子源，所述离子源为电感耦合等离子体。
19、本专利技术的有益效果：
20、本专利技术提供的真空镀膜机，通过设置独立的进料室和出料室，通过进料室内的第一搬送机构从进料室为真空镀膜室搬运待镀膜的基板，通过出料室内的第二搬送机构从真空镀膜室内向出料室搬运已镀膜的基板，实现了待镀膜的基板和已镀膜的基板的有效隔离，解决了相互污染的问题，从而提高了生产良品率。第一搬送机构对应分离进料室和真空镀膜室的第一分隔门设置，第二搬送机构对应分离真空镀膜室和出料室的第二分隔门设置，待镀膜的基板的搬送轨迹为进料室和真空镀膜室之间的最短距离，已镀膜的基板的搬送轨迹为真空镀膜室和出料室之间的最短距离，搬送动作流程简易，以最少的动作实现基板的搬送流转，解决了现有技术中搬送动作节拍慢的技术问题，提高了搬送效率。
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1.一种真空镀膜机，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜室(1)内设置有公转盘(103)，所述公转盘(103)的周向设置有多个用于悬挂所述基板(100)的挂架机构，所述挂架机构包括挂板(104)和承载结构(105)，多个所述挂板(104)均布于所述公转盘(103)的周向，所述承载结构(105)设置于所述挂板(104)，用于承载所述基板(100)。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜室(1)还包括旋转组件，所述旋转组件设置于状态切换位，所述旋转组件能旋转位于所述状态切换位的所述挂板(104)，以使该所述挂板(104)上的所述基板(100)在搬运状态和镀膜状态之间转换。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜机，其特征在于，所述旋转组件包括进料旋转组件(106)和出料旋转组件(107)，所述状态切换位包括进料状态切换位和出料状态切换位，所述进料状态切换位靠近所述进料口(101)设置，所述出料状态切换位靠近所述出料口(102)设置，所述进料旋转组件(106)用于将所述第一搬送机构搬送至所
5.根据权利要求4所述的真空镀膜机，其特征在于，所述进料室(2)设置有第一基板挂架(202)，所述第一基板挂架(202)包括多个自所述第一基板挂架(202)的中心轴向外呈辐射状延伸的第一承载板(2021)，所述第一承载板(2021)用于承载所述基板(100)；
6.根据权利要求5所述的真空镀膜机，其特征在于，所述第一搬送机构包括第一上移动机构(203)和第一下移动机构(204)，所述第一上移动机构(203)和所述第一下移动机构(204)共同作用能将位于所述第一承载板(2021)上的待镀膜的所述基板(100)平移至所述挂板(104)；
7.根据权利要求5所述的真空镀膜机，其特征在于，所述进料室(2)内还设置有基板加热装置，所述基板加热装置包括板式加热器(6)，所述板式加热器(6)设置于所述第一承载板(2021)上，用于加热所述进料室(2)内的待镀膜的所述基板(100)。
8.根据权利要求1-7任一项所述的真空镀膜机，其特征在于，所述第一分隔门(201)包括第一门轴(2011)、第一门体(2012)和第一驱动件，所述第一门轴(2011)设于所述第一门体(2012)的一端，所述第一门轴(2011)转动设置于所述进料室(2)，所述第一驱动件用于驱动所述第一门轴(2011)转动；
9.根据权利要求1-7任一项所述的真空镀膜机，其特征在于，所述进料室(2)和所述出料室(3)设置为一体结构，通过分隔板(7)分隔成左右对称的所述进料室(2)和所述出料室(3)。
10.根据权利要求1-7任一项所述的真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜室(1)内设置有多组离子源(108)，所述离子源(108)为电感耦合等离子体。
...【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜室(1)内设置有公转盘(103)，所述公转盘(103)的周向设置有多个用于悬挂所述基板(100)的挂架机构，所述挂架机构包括挂板(104)和承载结构(105)，多个所述挂板(104)均布于所述公转盘(103)的周向，所述承载结构(105)设置于所述挂板(104)，用于承载所述基板(100)。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜室(1)还包括旋转组件，所述旋转组件设置于状态切换位，所述旋转组件能旋转位于所述状态切换位的所述挂板(104)，以使该所述挂板(104)上的所述基板(100)在搬运状态和镀膜状态之间转换。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜机，其特征在于，所述旋转组件包括进料旋转组件(106)和出料旋转组件(107)，所述状态切换位包括进料状态切换位和出料状态切换位，所述进料状态切换位靠近所述进料口(101)设置，所述出料状态切换位靠近所述出料口(102)设置，所述进料旋转组件(106)用于将所述第一搬送机构搬送至所述真空镀膜室(1)的待镀膜的所述基板(100)由所述搬运状态旋转至所述镀膜状态，所述出料旋转组件(107)用于将所述真空镀膜室(1)的已镀膜的所述基板(100)由所述镀膜状态旋转至所述搬运状态。
5.根据权利要求4所述的真空镀膜机，其特征在于，所述进料室(2)设置有第一基板挂架(202)，所述第一基板挂架(202)包括多个自所述第一...
【专利技术属性】
技术研发人员：戴晓东，余海春，杨启忠，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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