一种真空镀膜机制造技术

本发明专利技术公开了一种真空镀膜机，涉及真空镀膜技术领域。该真空镀膜机包括真空镀膜室、进料室、出料室和搬送机构，真空镀膜室包括进料口和出料口；进料室通过第一分隔门封闭进料口；出料室通过第二分隔门封闭出料口；搬送机构包括第一搬送机构和第二搬送机构，第一搬送机构设置于进料室，对应第一分隔门设置，用于将进料室的待镀膜的基板搬送至真空镀膜室；第二搬送机构设置于出料室，对应第二分隔门设置，用于将真空镀膜室的已镀膜的基板搬送至出料室。该真空镀膜机提高了生产良品率和搬送效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空镀膜，尤其涉及一种真空镀膜机。

技术介绍

1、在真空镀膜
，镀膜设备的效率产能、搬送稳定性、生产良品率、基板适用范围，以及产品镀膜的规格品质都是衡量一种真空磁控溅射镀膜设备是否具备竞争力的标准。

2、现有技术中的真空镀膜机包括真空镀膜室和进出料室，待镀膜的基板和已镀膜的基板都通过进出料室转运，由于已镀膜的基板会有一些掉膜渣的现象，往往出料环节容易污染到进料的待镀膜的基板，影响产品良率。而且，现有技术中的搬送机构的动作流程复杂，动作节拍慢，导致生产效率低。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种真空镀膜机，能够提高产品良率和生产效率。

2、为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：

3、一种真空镀膜机，包括：

4、真空镀膜室，包括进料口和出料口；

5、进料室和出料室，所述进料室通过第一分隔门封闭所述进料口；所述出料室通过第二分隔门封闭所述出料口；

6、搬送机构，包括第一搬送机构和第二搬送机构，所述第一搬送机构设本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种真空镀膜机，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜室(1)内设置有公转盘(103)，所述公转盘(103)的周向设置有多个用于悬挂所述基板(100)的挂架机构，所述挂架机构包括挂板(104)和承载结构(105)，多个所述挂板(104)均布于所述公转盘(103)的周向，所述承载结构(105)设置于所述挂板(104)，用于承载所述基板(100)。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜室(1)还包括旋转组件，所述旋转组件设置于状态切换位，所述旋转组件能旋转位于所述状态切换位的所述挂板(104)，以使...

【技术特征摘要】

1.一种真空镀膜机，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜室(1)内设置有公转盘(103)，所述公转盘(103)的周向设置有多个用于悬挂所述基板(100)的挂架机构，所述挂架机构包括挂板(104)和承载结构(105)，多个所述挂板(104)均布于所述公转盘(103)的周向，所述承载结构(105)设置于所述挂板(104)，用于承载所述基板(100)。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜室(1)还包括旋转组件，所述旋转组件设置于状态切换位，所述旋转组件能旋转位于所述状态切换位的所述挂板(104)，以使该所述挂板(104)上的所述基板(100)在搬运状态和镀膜状态之间转换。

4.根据权利要求3所述的真空镀膜机，其特征在于，所述旋转组件包括进料旋转组件(106)和出料旋转组件(107)，所述状态切换位包括进料状态切换位和出料状态切换位，所述进料状态切换位靠近所述进料口(101)设置，所述出料状态切换位靠近所述出料口(102)设置，所述进料旋转组件(106)用于将所述第一搬送机构搬送至所述真空镀膜室(1)的待镀膜的所述基板(100)由所述搬运状态旋转至所述镀膜状态，所述出料旋转组件(107)用于将所述真空镀膜室(1)的已镀膜的所述基板(100)由所述镀膜状态旋转至所述搬运状态。

5.根据权利要求4所述的真空镀膜机，其特征在于，所述进料室(2)设置有第一基板挂架(202)，所述第一基板挂架(202)包括多个自所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴晓东，余海春，杨启忠，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：