System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 无尘室制造技术_技高网

无尘室制造技术

技术编号:40312317 阅读:8 留言:0更新日期:2024-02-07 20:54
本发明专利技术是一种无尘室,其特征在于,该无尘室具备设置有物品管理库的储藏区域,所述物品管理库具备上侧开放部、以及构成为能够调整开口率的下侧排气口,所述储藏区域的顶板部具备调节片以及空气吹出口,所述物品管理库的所述上侧开放部及所述空气吹出口以被所述调节片包围的方式连接,从所述空气吹出口供给的空气通过所述上侧开放部而直接供给至所述物品管理库内,并从所述下侧排气口排出。由此,提供一种无尘室,其能够在不产生追加成本,不减少物品管理库的收纳容积的情况下,保持物品管理库内的洁净。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种在半导体制造工厂中的无尘室、及无尘室内的物品管理库(储藏库)设备,该物品管理库设备保管(管理)例如晶圆收纳容器foup或fosb。


技术介绍

1、在半导体的制造工厂中,例如半导体晶圆的制造工序会因为来自无尘室的环境的污染而造成产品良率的降低,因此,在温度和湿度被控制并且去除了数微米等级的异物(微粒)的无尘室内进行制造。对于通过外部调节机(日语:外調機)吸入的已控制温度和湿度的空气,无尘室使该空气通过用于去除微粒的ulpa(ultra low penetration air,超低穿透空气)过滤器而供给至作业区域。当必须进一步严格地管理作业区域的洁净度时,能够追加化学过滤器,以使去除了化学污染物的洁净度进一步提高的空气供给至作业区域。

2、另一方面,在半导体制造工序中,晶圆在收纳于foup(front opening unifiedpod,前开式统一盒)的状态下进行搬送和保管。在无尘室中的制造工序中,进行多个产品的往来,载置于制造装置和检查装置的处理前后的产品收纳于保管这些foup的物品管理库(储藏库)内的架子。在物品管理库中,将对收纳在foup内的晶圆进行管理的号码与foup的管理号码建立关联,进一步也与物品管理库的架子的信息建立关联,在制造装置和检查装置进行处理的foup基于这些管理信息而从物品管理库中取出放入。

3、在专利文献1中记载有一种方法,其在无尘室内的保管晶圆盒的保管库中,为了防止晶圆的自然氧化膜的形成及化学物质的吸附,将晶圆以放入盒中的状态在密闭容器中进行保管。

4、在专利文献2中记载有一种无尘室,作为无尘室的空调方法,将与无尘室的空气循环流不同的空气循环流直接供给至接口箱开箱器(日语:インターフェースボックスオープナー)的附近,该接口箱开箱器用于载置晶圆收纳箱。

5、在专利文献3中记载有如下内容,即,通过设置于物品搬送车的整流板对在无尘室用的物品保管库中物品搬送车移动时产生的受污染的气流进行整流,使其不向物品收纳部侧逆流。

6、在专利文献4中记载有一种无尘室设备,其在无尘室中利用调节片(日语:アイリッド)(垂壁)分隔出高洁净度区域和低洁净度区域,进一步划分出地板下区域,按照清洁度从高到低的顺序升高压力。

7、专利文献5中记载一种无尘室,其特征在于,在无尘室与返回室之间附设有调节片(垂壁)。

8、现有技术文献

9、专利文献

10、专利文献1:日本特开平05-201506号公报

11、专利文献2:日本特开2001-093790号公报

12、专利文献3:日本特开2007-269489号公报

13、专利文献4:日本特开2002-005485号公报

14、专利文献5:日本特开2008-157474号公报


技术实现思路

1、(一)要解决的技术问题

2、当取出放入foup的时,要使搬送台车移动到必要的foup前,通过安装于搬送台车的支柱使移载机器人上下并静止在必要的foup的架子的高度之后,使foup从架子移载至移载机器人。接着使搬送台车和移载机器人移动到foup进出口,并使foup从foup进出口搬出。

3、物品管理库的搬送台车和移载机器人具有机械性驱动部,因此存在如下问题,即,这些机械部每当驱动时就会成为起尘源,并造成物品管理库和无尘室的洁净度降低。可以在物品管理库中进一步设置过滤器和送风扇,但是存在由于过滤器和送风扇造成设备成本提高及物品管理库的收纳容积减少的问题,另外还存在以下问题,即,根据物品管理库的送风扇的设定,从foup出入口流出从输送台车、移载机器人起尘的受污染的空气等,洁净室的送风、气压条件难以与物品管理库的送风、气压条件匹配。

4、本专利技术为了解决上述问题而完成,其目的在于提供一种无尘室,其能够在不产生追加成本,不减少物品管理库的收纳容积的情况下,保持物品管理库内的洁净。

5、(二)技术方案

6、为了解决上述问题,本专利技术提供一种无尘室,其特征在于,

7、该无尘室具备设置有物品管理库的储藏区域,

8、所述物品管理库具备上侧开放部、以及构成为能够调整开口率的下侧排气口,

9、所述储藏区域的顶板部具备调节片以及空气吹出口,

10、所述物品管理库的所述上侧开放部及所述空气吹出口以被所述调节片包围的方式连接,

11、从所述空气吹出口供给的空气通过所述上侧开放部而直接供给至所述物品管理库内,并从所述下侧排气口排出。

12、在本专利技术的无尘室中,通过调节片(垂壁)包围物品管理库的上侧开放部及储藏区域的顶板部的空气吹出口,使来自由调节片包围的无尘室顶板部的一部分的洁净空气直接流入物品管理库内,由此,洁净空气直接成为层流,能够使从物品管理库内的例如移载机器人和搬送台车起尘的受污染的空气从物品管理库的下侧排气口排出。

13、另外,本专利技术的无尘室能够利用无尘室顶板部的空气吹出口的一部分,因此不需要在储藏区域中进一步追加洁净化系统。另外,调节片以包围物品管理库的上侧开放部的方式设置,因此不需要减少物品管理库的收纳容积。

14、因此,根据本专利技术的无尘室,能够在不产生追加成本,不减少物品管理库的收纳容积的情况下,保持物品管理库内的洁净。

15、所述物品管理库管理的物品可以设为例如foup或fosb。

16、所述物品管理库管理的物品没有特别限定,可以设为例如foup或fosb。

17、(三)有益效果

18、如上所述,根据本专利技术的无尘室,能够在不产生追加成本,不减少物品管理库的收纳容积的情况下,保持物品管理库内的洁净。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种无尘室,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的无尘室,其特征在于,

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种无尘室,其特征在于,

2...

【专利技术属性】
技术研发人员:佐藤圣二
申请(专利权)人:信越半导体株式会社
类型:发明
国别省市:

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