【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体加工，具体涉及了一种用于uv光固装置的补光组件、一种uv光固装置、一种uv光固装置的控制方法，以及一种计算机可读存储介质。
技术介绍
1、在半导体的工艺流程中，不可避免地会需要进行紫外光的照射，即uv照射。例如，在光刻或胶体固化等工艺步骤中uv照射过程必不可少，且uv光照的质量直接影响到工艺生产的产品良率。紫外光固化(uv curing)是半导体的工艺中辐射固化的一种，即利用紫外线中的uvc短波紫外线(200nm～280nm)波段照射工艺过程中通入的前驱体，使其断裂化学键si-h、n-h等，进而形成更稳定的si-o-si键的网格结构。
2、请参看图1和图2，传统的uv光固装置100中的每条固化灯管110发出的uv光线的照射范围有限。在相邻两条固化灯管110的交界区域，存在一个弱光区域120。这个弱光区域120只经由两条固化灯管110的边缘光线照射，因而该弱光区域120的光强分布不仅均匀性差，而且无法达到目标光强，从而导致前驱体中的化学键无法快速断裂，影响前驱体化学键断裂的效率。
3、为了解决现有技术中存在的上述问题，本领域亟需一种于uv光固装置的补光技术，能够改善uv光固装置中光源光强分布不均的弊端，提高工艺中晶圆表面弱光区域的光强，提升光强分布均匀性，进而提高工艺过程中前驱体断裂化学键的效率。
技术实现思路
1、以下给出一个或多个方面的简要概述以提供对这些方面的基本理解。此概述不是所有构想到的方面的详尽综览，并且既非旨在指认出所有方面的
2、为了克服现有技术存在的上述缺陷，本专利技术提供了一种用于uv光固装置的补光组件、一种uv光固装置、一种uv光固装置的控制方法，以及一种计算机可读存储介质，能够改善uv光固装置中光源光强分布不均的弊端，提高工艺中晶圆表面弱光区域的光强，提升光强分布均匀性，进而提高工艺过程中前驱体断裂化学键的效率。
3、具体来说，根据本专利技术的第一方面提供的上述用于uv光固装置的补光组件，包括：补光光源，设置于所述uv光固装置的两条固化灯管之间，用于向所述两条固化灯管之间的弱光区域提供补充的uv光线，以在固化对象的固化区域中形成均匀的目标光强分布，其中，所述两条固化灯管发出的符合所述目标光强分布的第一光线分别覆盖所述固化区域对应方向的外边沿。
4、进一步地，在本专利技术的一些实施例中，所述补光光源包括：补光灯管，用于向对准所述固化区域的第一方向及偏离所述固化区域的第二方向发出第二光线；以及第一反射件，包围所述补光灯管的第二方向，用于将向所述第二方向传输的第二光线反射到所述弱光区域，以配合向所述第一方向传输的第二光线，在固化对象的固化区域中形成所述均匀的目标光强分布。
5、进一步地，在本专利技术的一些实施例中，所述第一反射件与所述补光灯管平行设置，并沿其径向具有抛物线形的反射罩结构，其中，所述补光灯管位于所述反射罩结构的焦点位置，以将向多个所述第二方向传输的第二光线都平行反射到所述弱光区域。
6、进一步地，在本专利技术的一些实施例中，所述第一反射件由多片反射镜拼接而成，并包括第一调节机构，其中，所述第一调节机构分别连接各所述反射镜，通过调节各所述反射镜的位姿来调整所述反射罩结构的抛物线形和/或反射区域大小。
7、进一步地，在本专利技术的一些实施例中，所述补光灯管设于所述uv光固装置的所述两条固化灯管的微波腔内，在所述微波腔提供的电磁波能量的激发下，与所述固化灯管同步发光，以配合所述两条固化灯管在所述固化对象的固化区域中形成所述均匀的目标光强分布。
8、此外，根据本专利技术的第二方面提供的上述uv光固装置，包括：两条固化灯管，用于向固化对象的固化区域提供uv光线，以进行uv光固，其中，所述两条固化灯管发出的符合目标光强分布的第一光线分别覆盖所述固化区域对应方向的外边沿；以及本专利技术第一方面提供的上述的用于uv光固装置的补光组件，用于向所述两条固化灯管之间的弱光区域提供补充的uv光线，以配合所述两条固化灯管在所述固化对象的固化区域中形成均匀的目标光强分布。
9、进一步地，在本专利技术的一些实施例中，还包括：第二调节机构，其中，所述第二调节机构分别连接各所述固化灯管，用于调节所述固化灯管的位置，以使所述两条固化灯管发出的符合目标光强分布的第一光线分别覆盖所述固化区域对应方向的外边沿。
10、进一步地，在本专利技术的一些实施例中，配置于所述补光组件的第一调节机构还根据位置调节后的两条固化灯管产生的弱光区域大小，调整所述补光组件的反射罩结构的抛物线形和/或反射区域大小，以配合所述两条固化灯管在所述固化对象的固化区域中形成均匀的目标光强分布。
11、进一步地，在本专利技术的一些实施例中，所述补光组件还被配置为：获取所述两条固化灯管在所述固化区域的原始光强分布；以及根据所述目标光强分布及所述原始光强分布，确定所述补充的uv光线的空间光强分布，以配合所述两条固化灯管在所述固化对象的固化区域中形成均匀的目标光强分布。
12、进一步地，在本专利技术的一些实施例中，所述uv光固装置还被配置为：基于所述目标光强分布，对所述两条固化灯管及所述补光光源进行光通维持率的均一化调节，以提升其中较低者的光通维持率，并降低其中较高者的光通维持率。
13、此外，根据本专利技术的第三方面提供的上述uv光固装置的控制方法，包括以下步骤：确定固化对象的固化区域；根据所述固化区域，调节uv光固装置的两条固化灯管的位置，以使所述两条固化灯管发出的符合目标光强分布的第一光线分别覆盖所述固化区域对应方向的外边沿；确定所述两条固化灯管之间小于所述目标光强分布的弱光区域的位置和大小；根据所述弱光区域的位置和大小，调整补光组件的反射罩结构的抛物线形和/或反射区域大小；以及经由所述补光组件向所述弱光区域提供补充的uv光线，以配合所述两条固化灯管在所述固化对象的固化区域中形成均匀的目标光强分布。
14、此外，根据本专利技术的第四方面还提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机指令。所述计算机指令被处理器执行时，实施本专利技术的第三方面提供的上述的uv光固装置的控制方法。
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1.一种用于UV光固装置的补光组件，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的补光组件，其特征在于，所述补光光源包括：
3.如权利要求2所述的补光组件，其特征在于，所述第一反射件与所述补光灯管平行设置，并沿其径向具有抛物线形的反射罩结构，其中，所述补光灯管位于所述反射罩结构的焦点位置，以将向多个所述第二方向传输的第二光线都平行反射到所述弱光区域。
4.如权利要求3所述的补光组件，其特征在于，所述第一反射件由多片反射镜拼接而成，并包括第一调节机构，其中，所述第一调节机构分别连接各所述反射镜，通过调节各所述反射镜的位姿来调整所述反射罩结构的抛物线形和/或反射区域大小。
5.如权利要求2所述的补光组件，其特征在于，所述补光灯管设于所述UV光固装置的所述两条固化灯管的微波腔内，在所述微波腔提供的电磁波能量的激发下，与所述固化灯管同步发光，以配合所述两条固化灯管在所述固化对象的固化区域中形成所述均匀的目标光强分布。
6.一种UV光固装置，其特征在于，包括：
7.如权利要求6所述的UV光固装置，其特征在于，还包括：>
8.如权利要求7所述的UV光固装置，其特征在于，配置于所述补光组件的第一调节机构还根据位置调节后的两条固化灯管产生的弱光区域大小，调整所述补光组件的反射罩结构的抛物线形和/或反射区域大小，以配合所述两条固化灯管在所述固化对象的固化区域中形成均匀的目标光强分布。
9.如权利要求7所述的UV光固装置，其特征在于，所述补光组件还被配置为：
10.如权利要求9所述的UV光固装置，其特征在于，所述UV光固装置还被配置为：
11.一种UV光固装置的控制方法，其特征在于，包括以下步骤：
12.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机指令，其特征在于，所述计算机指令被处理器执行时，实施如权利要求11所述的UV光固装置的控制方法。
...【技术特征摘要】
1.一种用于uv光固装置的补光组件，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的补光组件，其特征在于，所述补光光源包括：
3.如权利要求2所述的补光组件，其特征在于，所述第一反射件与所述补光灯管平行设置，并沿其径向具有抛物线形的反射罩结构，其中，所述补光灯管位于所述反射罩结构的焦点位置，以将向多个所述第二方向传输的第二光线都平行反射到所述弱光区域。
4.如权利要求3所述的补光组件，其特征在于，所述第一反射件由多片反射镜拼接而成，并包括第一调节机构，其中，所述第一调节机构分别连接各所述反射镜，通过调节各所述反射镜的位姿来调整所述反射罩结构的抛物线形和/或反射区域大小。
5.如权利要求2所述的补光组件，其特征在于，所述补光灯管设于所述uv光固装置的所述两条固化灯管的微波腔内，在所述微波腔提供的电磁波能量的激发下，与所述固化灯管同步发光，以配合所述两条固化灯管在所述固化对象的固化区域中...
【专利技术属性】
技术研发人员：贾闯，李蓬勃，
申请(专利权)人：拓荆创益沈阳半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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