【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体加工，具体涉及了一种用于uv光固装置的补光组件、一种uv光固装置、一种uv光固装置的控制方法，以及一种计算机可读存储介质。
技术介绍
1、在半导体的工艺流程中，不可避免地会需要进行紫外光的照射，即uv照射。例如，在光刻或胶体固化等工艺步骤中uv照射过程必不可少，且uv光照的质量直接影响到工艺生产的产品良率。紫外光固化(uv curing)是半导体的工艺中辐射固化的一种，即利用紫外线中的uvc短波紫外线(200nm～280nm)波段照射工艺过程中通入的前驱体，使其断裂化学键si-h、n-h等，进而形成更稳定的si-o-si键的网格结构。
2、请参看图1和图2，传统的uv光固装置100中的每条固化灯管110发出的uv光线的照射范围有限。在相邻两条固化灯管110的交界区域，存在一个弱光区域120。这个弱光区域120只经由两条固化灯管110的边缘光线照射，因而该弱光区域120的光强分布不仅均匀性差，而且无法达到目标光强，从而导致前驱体中的化学键无法快速断裂，影响前驱体化学键断裂的效率。
3、为了解决现...
【技术保护点】
1.一种用于UV光固装置的补光组件，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的补光组件，其特征在于，所述补光光源包括：
3.如权利要求2所述的补光组件，其特征在于，所述第一反射件与所述补光灯管平行设置，并沿其径向具有抛物线形的反射罩结构，其中，所述补光灯管位于所述反射罩结构的焦点位置，以将向多个所述第二方向传输的第二光线都平行反射到所述弱光区域。
4.如权利要求3所述的补光组件，其特征在于，所述第一反射件由多片反射镜拼接而成，并包括第一调节机构，其中，所述第一调节机构分别连接各所述反射镜，通过调节各所述反射镜的位姿来调整所述反射罩结...
【技术特征摘要】
1.一种用于uv光固装置的补光组件，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的补光组件，其特征在于，所述补光光源包括：
3.如权利要求2所述的补光组件，其特征在于，所述第一反射件与所述补光灯管平行设置，并沿其径向具有抛物线形的反射罩结构，其中，所述补光灯管位于所述反射罩结构的焦点位置，以将向多个所述第二方向传输的第二光线都平行反射到所述弱光区域。
4.如权利要求3所述的补光组件，其特征在于，所述第一反射件由多片反射镜拼接而成，并包括第一调节机构，其中，所述第一调节机构分别连接各所述反射镜，通过调节各所述反射镜的位姿来调整所述反射罩结构的抛物线形和/或反射区域大小。
5.如权利要求2所述的补光组件，其特征在于，所述补光灯管设于所述uv光固装置的所述两条固化灯管的微波腔内，在所述微波腔提供的电磁波能量的激发下，与所述固化灯管同步发光，以配合所述两条固化灯管在所述固化对象的固化区域中...
【专利技术属性】
技术研发人员：贾闯，李蓬勃，
申请(专利权)人：拓荆创益沈阳半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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