【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种拉曼散射基底的检测系统。
技术介绍
制备稳定、高增强因子的拉曼散射基底是研究表面增强拉曼散射效应的重要基础。传统制备拉曼散射基底的方法主要是通过在一平面基底表面形成多个金属颗粒形成一 拉曼散射基底。然而，所述金属颗粒在所述平面基底表面容易团聚，而且由此方法制备的拉 曼散射基底的表面积有限，不利于吸附待检测分子，因此，通过上述方法难以得到高灵敏性 的拉曼散射基底。
技术实现思路
有鉴于此，确有必要提供一种制备具高灵敏性的拉曼散射基底的方法。一种，其包括如下步骤提供一碳纳米管膜结构，该碳纳 米管膜结构包括多个通过范德华力相接的碳纳米管；及将至少部分碳纳米管膜结构浸润在 一第一溶液直到所述碳纳米管膜结构表面沉积多个金属颗粒，该第一溶液中包括多个金属 离子，所述金属离子的标准电极电势大于所述碳纳米管的费米能。与现有技术相比较，上述将碳纳米管膜结构浸润在含金 属离子的第一溶液中，通过所述金属离子与所述碳纳米管膜结构产生氧化还原反应，使该 碳纳米管膜结构表面形成多个金属颗粒。由于所述多个碳纳米管膜结构中由多个具有较小 尺寸及极大比表面积的碳纳米管组成，因此，...
【技术保护点】
一种拉曼散射基底的制备方法，其包括如下步骤：提供一碳纳米管膜结构，该碳纳米管膜结构包括多个通过范德华力相接的碳纳米管；及将至少部分碳纳米管膜结构浸润在一第一溶液直到所述碳纳米管膜结构表面沉积多个金属颗粒，该第一溶液中包括多个金属离子，所述金属离子的标准电极电势大于所述碳纳米管的费米能。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：孙颖慧，刘锴，姜开利，范守善，
申请(专利权)人：清华大学，鸿富锦精密工业深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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