一种等离子处理设备制造技术

技术编号:4022397 阅读:222 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术提供了一种等离子处理设备,包括具有腔体的壳体和位于所述腔体内部的电极板,所述电极板上开有若干个可供气体等离子穿透的通孔,所述通孔贯穿所述电极板的上下表面。优选地,所述通孔的形状为圆角矩形,并在所述电极板上呈矩阵状分布。所述电极板可以采用铝合金材料制成。本实用新型专利技术的有益效果在于:由于电极板上开有若干个通孔,可供气体等离子完全穿透,并能很均匀地分布在腔体中;此外,由于电极板采用铝合金材质,不但具有良好的导电性能,并具有很强的耐腐蚀性。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种等离子处理设备
技术介绍
等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰 化和表面活化、改性等场合。通过其处理,能够改善材料的润湿能力,使多种材料能够进行 涂覆、镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。在现有的等离子 处理设备当中,其电极板没有可供气体等离子穿透的通孔,导致产品处理均勻性差,处理效 果不理想。
技术实现思路
本技术的目的在于针对现有技术的缺陷,提供一种能够改善产品处理均勻性 的等离子处理设备。为解决上述技术问题,本技术采用了以下的技术方案设计一种等离子处理 设备,包括具有腔体的壳体和位于所述腔体内部的电极板,所述电极板上开有若干个可供 气体等离子穿透的通孔,所述通孔贯穿所述电极板的上下表面。优选地,所述通孔的形状为圆角矩形,各通孔在所述电极板上呈矩阵状分布,可供 气体等离子均勻分布在每层电极板之间。优选地,所述电极板由铝合金材料制成。优选地,该等离子处理设备还包括用于将气体输入所述腔体的进气管,所述进气 管上分布有若干个气孔,并且该进气管沿所述腔体的正面开口的周边设置,以利于气体更 顺利进入腔体并充满整个腔体。本技术的有益效果在于1.由于电极板上开有若干个通孔,可供气体等离子 完全穿透,并能很均勻地分布在腔体中。2.由于电极板采用铝合金材质,不但具有良好的导电性能,并具有很强的耐腐蚀 性。附图说明图1是本技术等离子处理设备的一种实施例的立体图。图2是图1的A局部放大图。图3是图1所示等离子处理设备的电极板部分的俯视图。具体实施方式如图1-图3所示,本技术的等离子处理设备1包括具有腔体2的壳体3、位于 该腔体2内部的多块相互平行的电极板4以及用于将气体输入腔体2的进气管5,电极板4 包括了相间分布的正极板6和负极板7,各电极板4均采用铝合金材质,不但具有良好的导电性能,并具有很强的耐腐蚀性。每块电极板4上均开有若干个可供气体等离子穿透的通孔41,各通孔41贯穿电极 板4的上下表面;每个通孔41分别呈圆角矩形,并且在电极板4上呈矩阵状分布。当然,通 孔41的形状并不限于圆角矩形,分布形式也不限于矩阵状。进气管5设置在腔体2正面开 口的周边,该进气管5上分布有若干个气孔51。气体从进气管5进入腔体2内部后,在正极 板6和负极板7之间形成气体等离子,气体等离子能很均勻地穿透各电极板4,从而使产品 处理效果更均勻。以上所述的仅是本技术的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术 人员来说,在不脱离本技术专利技术构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属 于本技术的保护范围。权利要求一种等离子处理设备,包括具有腔体的壳体和位于所述腔体内部的电极板,其特征在于,所述电极板上开有若干个可供气体等离子穿透的通孔,所述通孔贯穿所述电极板的上下表面。2.根据权利要求1所述的等离子处理设备,其特征在于所述通孔的形状为圆角矩形。3.根据权利要求2所述的等离子处理设备,其特征在于所述通孔在所述电极板上呈 矩阵状分布。4.根据权利要求3所述的等离子处理设备,其特征在于所述电极板由铝合金材料制成。5.根据权利要求1至4任一项所述的等离子处理设备,其特征在于该等离子处理设 备还包括用于将气体输入所述腔体的进气管,所述进气管上分布有若干个气孔,并且该进 气管沿所述腔体的正面开口的周边设置。专利摘要本技术提供了一种等离子处理设备,包括具有腔体的壳体和位于所述腔体内部的电极板,所述电极板上开有若干个可供气体等离子穿透的通孔,所述通孔贯穿所述电极板的上下表面。优选地,所述通孔的形状为圆角矩形,并在所述电极板上呈矩阵状分布。所述电极板可以采用铝合金材料制成。本技术的有益效果在于由于电极板上开有若干个通孔,可供气体等离子完全穿透,并能很均匀地分布在腔体中;此外,由于电极板采用铝合金材质,不但具有良好的导电性能,并具有很强的耐腐蚀性。文档编号H05H1/24GK201718111SQ20102020146公开日2011年1月19日 申请日期2010年5月25日 优先权日2010年5月25日专利技术者丁雪苗 申请人:珠海彼得氏等离子科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子处理设备,包括具有腔体的壳体和位于所述腔体内部的电极板,其特征在于,所述电极板上开有若干个可供气体等离子穿透的通孔,所述通孔贯穿所述电极板的上下表面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:丁雪苗
申请(专利权)人:珠海彼得氏等离子科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:44[中国|广东]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1