【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光学设备及其工作方法，特别是一种能够通过对光瞳面进行滤波的光学设备及其工作方法。
技术介绍
1、在芯片的生产过程中，需要在裸硅基底上一层层进行沉积和刻蚀以形成需要的图案膜层，最终在晶圆上形成多个芯片，再对晶圆进行切割形成单个芯片。在裸硅基底上形成有图案膜层的晶圆称之为图形晶圆。在制造半导体晶体管的过程中，如果晶圆上有缺陷(例如颗粒灰尘等)，会导致事后续形成的膜层出现空洞等缺陷，进而影响所形成芯片的性能。
2、因此，为了提高所形成芯片的良率，在芯片生产过程中需要对图形晶圆表面的缺陷进行检测，并对所形成的图案的位置或尺寸进行测量。光学设备具有无接触、损伤小、检测速度快等优点，被广泛应用于图形晶圆检测中。
3、然而，由于图形晶圆表面形成有复杂的图案，当利用光学设备对图形晶圆进行检测过程中，晶圆表面的图案会对滤波光产生衍射或散射，从而对缺陷形成的光产生干扰，导致检测精度降低；此外，随着图案的缩小对测量图案的测量也提出更高的要求，这也就要求根据被检测图案对滤波光的角度及光斑光强进行适应调节。
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【技术保护点】
1.一种光学设备，其特征在于，包括：透镜组件和滤波器；
2.根据权利要求1所述的光学设备，其特征在于，所述入射光来自于样品，所述物镜用于收集来自所述样品的入射光，并使所述入射光经所述中继镜组到达所述滤波器；
3.根据权利要求2所述的光学设备，其特征在于，所述光学设备还包括：照明组件，用于向样品发射照明光，所述照明光经样品后形成所述入射光；所述照明组件为点光源、线光源或面光源。
4.根据权利要求3所述的光学设备，其特征在于，所述照明光的入射角与所述入射光的出射角不同，所述物镜的光轴垂直于样品表面；所述照明光与所述样品表面法线具有锐角夹
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【技术特征摘要】
1.一种光学设备，其特征在于，包括：透镜组件和滤波器；
2.根据权利要求1所述的光学设备，其特征在于，所述入射光来自于样品，所述物镜用于收集来自所述样品的入射光，并使所述入射光经所述中继镜组到达所述滤波器；
3.根据权利要求2所述的光学设备，其特征在于，所述光学设备还包括：照明组件，用于向样品发射照明光，所述照明光经样品后形成所述入射光；所述照明组件为点光源、线光源或面光源。
4.根据权利要求3所述的光学设备，其特征在于，所述照明光的入射角与所述入射光的出射角不同，所述物镜的光轴垂直于样品表面；所述照明光与所述样品表面法线具有锐角夹角；
5.根据权利要求1所述的光学设备，其特征在于，所述光学设备还包括：光源，用于产生所述入射光，所述入射光经所述滤波器滤波之后形成所述滤波光，所述滤波光经所述物镜到达所述样品；
6.根据权利要求5所述的光学设备，其特征在于，所述物镜还用于收集所述信号光，所述光学设备还包括：第四分束器，用于使所述物镜收集的信号光与所述滤波光分离；所述第四分束器位于所述物镜和中继器之间的光路上，或位于所述中继器与滤波器之间的光路上。
7.根据权利要求1所述的光学设备，其特征在于，所述透镜组件还包括第一管镜和变倍率镜中的一者或两者组合；所述第一管镜位于所述滤波器远离物镜的一侧的光路上；所述变倍率镜用于使所述透镜组件的成像倍率可调。
8.根据权利要求1所述的光学设备，其特征在于，所述中继镜组包括依次设置的第一中继镜和第二中继镜，所述物镜位于所述样品与第一中继镜之间的光路上，所述第一中继镜位于物镜和第二中继镜之间的光路上，所述第一中继镜和第二中继镜相邻的焦点重合；所述第一中继镜和第二中继镜光轴重合，所述第一中继镜和第二中继镜的焦距不相同。
9.根据权利要求8所述的光学设备，其特征在于，第一中继镜的焦距小于所述第二中继镜的焦距。
10.根据权利要求1所述的光学设备，其特征在于，所述滤波器包括多个子受光面；所述子受光面为反射面，各子受光面的角度可调；所述滤波器还包括调节模块，所述调节模块用于调节各子受光面的角度，以使所述子受光面具有第...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈鲁，赵康俊，黄有为，张嵩，
申请(专利权)人：深圳中科飞测科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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