【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体检测，尤其是涉及一种重复周期确定方法、装置、检测设备和计算机可读存储介质。
技术介绍
1、随着光学检测技术的日益成熟，检测设备可以快速且准确地对工件进行检测。在上述检测过程中，由于检测设备的光学成像器件的成像能力限制，检测设备通常获取像素级的检测图像并进行检测。
2、由于工件由多个相同单元构成，且每个单元依序排列。因此，在上述检测过程中，检测设备可以对单元的重复周期进行定位，从而确定出各个单元所在位置，进而对每个单元进行检测。然而，对于像素级的检测图像，单元的重复周期的定位精度只能达到像素级，如此，导致工件检测精度也只能达到像素级，无法满足高精度检测的要求。因此，如何提高单元的重复周期的定位精度已成为当务之急。
技术实现思路
1、为解决上述问题，本申请提供一种重复周期确定方法、装置、检测设备和计算机可读存储介质，可以将周期性单元的重复周期的定位精度提高到亚像素级，以便后续提高检测精度。
2、为达到上述目的，本申请实施例的技术方案是这样实现的：
...【技术保护点】
1.一种重复周期确定方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的重复周期确定方法，其特征在于，所述获取目标图像中周期性单元的像素重复周期，包括：
3.根据权利要求2所述的重复周期确定方法，其特征在于，所述获取包含多个排列成行或者列的周期性单元的目标图像，包括：
4.根据权利要求3所述的重复周期确定方法，其特征在于，所述将所述目标图像沿与所述周期性单元的排列方向垂直的投影方向进行投影，得到投影图像，包括：
5.根据权利要求2所述的重复周期确定方法，其特征在于，所述根据所述对比图像和所述投影图像的自相关性确定所述周期性...
【技术特征摘要】
1.一种重复周期确定方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的重复周期确定方法，其特征在于，所述获取目标图像中周期性单元的像素重复周期，包括：
3.根据权利要求2所述的重复周期确定方法，其特征在于，所述获取包含多个排列成行或者列的周期性单元的目标图像，包括：
4.根据权利要求3所述的重复周期确定方法，其特征在于，所述将所述目标图像沿与所述周期性单元的排列方向垂直的投影方向进行投影，得到投影图像，包括：
5.根据权利要求2所述的重复周期确定方法，其特征在于，所述根据所述对比图像和所述投影图像的自相关性确定所述周期性单元的像素重复周期，包括：
6.根据权利要求5所述的重复周期确定方法，其特征在于，所述基于所述对比图像和所述投影图像的自相关性中相邻两个最大峰值点之间的平均距离确定所述周期性单元的像素重复周期，包括：
7.根据权利要求6所述的重复周期确定方法，其特征在于，在确定所述最终的多个最大峰值点中相邻两个最大峰值点的平均距离，并根据所述平均距离确定周期性单元的像素重复周期之后，还包括：
8.根据权利要求1至6任一所述的重复周期确定方法，其特征在于，所述基于所述像素重复周期以预设步长进行亚像素插值，分别得到每个所述周期性单元的多个插值位置分别对应的亚像素插值图像，包括...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈鲁，肖遥，张鹏斌，张嵩，
申请(专利权)人：深圳中科飞测科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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