一种新型镁合金表面处理微弧氧化工艺制造技术

本发明专利技术提供一种新型镁合金表面处理微弧氧化工艺，通过优化工艺流程中的微弧氧化环节，在MI合金的基础上构建了新型镁合金膜层结构，其包括MI合金层，微弧氧化膜层和烤漆层，所述微弧氧化膜层设置于所述MI合金层和烤漆层之间，可应用于到笔电ACD壳，提高效益、增加利润，可推广到其它所有应用Mi合金应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及合金处理，具体涉及一种新型镁合金表面处理微弧氧化工艺。

技术介绍

1、1.业内pc壳体大量采用塑料、al合金、sus材料，sus材料价格高、加工成本高、且手感重；塑料、al合金材料的在追求极致的厚度、重量情况下，产品强度难以满足需求。

2、2.mi合金应用于笔电行业，是目前较先进的材料及技术应用。mi材料表面处理微弧氧化工艺，衔接合金材料与喷涂层，满足耐蚀性能、外形体现金属质感、炫目色彩丰富的效果。mi合金耐腐蚀性差，加工控制难度大；表面处理工艺少，不能满足外观颜色的多样化。

3、镁合金是以镁为基础加入其他元素组成的合金，其密度小(1.8g/cm3左右)，比强度高，比弹性模量大，散热好，消震性好，承受冲击载荷能力比铝合金大，耐有机物和碱的腐蚀性能好。主要合金元素有铝、锌、锰、铈、钍以及少量锆或镉等，可以强化纯镁的目的，形成的镁合金具有较高的强度，可以作为结构材料而得到广泛的应用。

4、因此，本申请提出一种新型镁合金表面处理微弧氧化工艺。

技术实现思路</p>

1、为了本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种新型镁合金膜层结构，其特征在于：包括MI合金层，微弧氧化膜层和烤漆层，所述微弧氧化膜层设置于所述MI合金层和烤漆层之间。

2.根据权利要求1所述的新型镁合金膜层结构，其特征在于：所述烤漆层为外层，所述MI合金层为内层。

3.根据权利要求1所述的新型镁合金膜层结构，其特征在于：所述微弧氧化膜层的厚度为6-8μm。

4.一种新型镁合金表面微弧氧化的方法，其特征在于：包括以下步骤，

5.根据权利要求4所述的新型镁合金表面微弧氧化的方法，其特征在于：所述超音波清洗，其为在PH值10～14条件下清洗120-180s；所述纯水清洗其为在PH值6...

【技术特征摘要】

1.一种新型镁合金膜层结构，其特征在于：包括mi合金层，微弧氧化膜层和烤漆层，所述微弧氧化膜层设置于所述mi合金层和烤漆层之间。

2.根据权利要求1所述的新型镁合金膜层结构，其特征在于：所述烤漆层为外层，所述mi合金层为内层。

3.根据权利要求1所述的新型镁合金膜层结构，其特征在于：所述微弧氧化膜层的厚度为6-8μm。

4.一种新型镁合金表面微弧氧化的方法，其特征在于：包括以下步骤，

5.根据权利要求4所述的新型镁合金表面微弧氧化的方法，其特征在于：所述超音波...

【专利技术属性】
技术研发人员：向先建，陈勇，张建军，
申请(专利权)人：鹤壁耕德电子有限公司，
类型：发明
国别省市：