System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种新型镁合金表面处理微弧氧化工艺制造技术_技高网

一种新型镁合金表面处理微弧氧化工艺制造技术

技术编号:40194562 阅读:6 留言:0更新日期:2024-01-26 23:57
本发明专利技术提供一种新型镁合金表面处理微弧氧化工艺,通过优化工艺流程中的微弧氧化环节,在MI合金的基础上构建了新型镁合金膜层结构,其包括MI合金层,微弧氧化膜层和烤漆层,所述微弧氧化膜层设置于所述MI合金层和烤漆层之间,可应用于到笔电ACD壳,提高效益、增加利润,可推广到其它所有应用Mi合金应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及合金处理,具体涉及一种新型镁合金表面处理微弧氧化工艺


技术介绍

1、1.业内pc壳体大量采用塑料、al合金、sus材料,sus材料价格高、加工成本高、且手感重;塑料、al合金材料的在追求极致的厚度、重量情况下,产品强度难以满足需求。

2、2.mi合金应用于笔电行业,是目前较先进的材料及技术应用。mi材料表面处理微弧氧化工艺,衔接合金材料与喷涂层,满足耐蚀性能、外形体现金属质感、炫目色彩丰富的效果。mi合金耐腐蚀性差,加工控制难度大;表面处理工艺少,不能满足外观颜色的多样化。

3、镁合金是以镁为基础加入其他元素组成的合金,其密度小(1.8g/cm3左右),比强度高,比弹性模量大,散热好,消震性好,承受冲击载荷能力比铝合金大,耐有机物和碱的腐蚀性能好。主要合金元素有铝、锌、锰、铈、钍以及少量锆或镉等,可以强化纯镁的目的,形成的镁合金具有较高的强度,可以作为结构材料而得到广泛的应用。

4、因此,本申请提出一种新型镁合金表面处理微弧氧化工艺。


技术实现思路

1、为了克服现有技术中存在的不足,本专利技术提供一种新型镁合金表面处理微弧氧化工艺。

2、为实现上述目的,本专利技术提供一种新型镁合金膜层结构,其包括mi合金层,微弧氧化膜层和烤漆层,所述微弧氧化膜层设置于所述mi合金层和烤漆层之间。

3、优选的,所述烤漆层为外层,所述mi合金层为内层。

4、优选的,所述微弧氧化膜层的厚度为6-8μm。

5、本专利技术还提供一种新型镁合金表面微弧氧化的方法,其包括以下步骤,

6、将待处理样品脱脂,然后超音波清洗和纯水清洗;

7、进行微弧氧化,其为脉宽:200us,电压:380-450v,温度:25-35℃,频率:50hz,时间:17~25min,控制膜厚:6-8μm;

8、纯水清洗,再进行烘烤即可。

9、优选的,所述超音波清洗,其为在ph值10~14条件下清洗120-180s;所述纯水清洗其为在ph值6~9,清洗时间:90-120s。

10、优选的,所述烘烤为依次进行大线烘烤和小线烘烤,两种烘烤工艺均为:温度:80-90℃,时间:12-15min。

11、本专利技术还提供一种新型镁合金膜层结构的加工方法,其包括以下步骤,

12、在mi合金材料上进行cnc1和cnc2工序,实现公模和母模开模;

13、大面打磨,进行一次化成后贴膜;

14、继续进行cnc3、cnc4工序,实现公模面结构加工和侧面结构加工;

15、进行研磨,进行二次化成;

16、进行微弧氧化;

17、进行喷涂即可。

18、优选的,cnc2工序中使用冷却防护溶剂。

19、本专利技术的有益效果如下:

20、1.开发适合mi合金的刀具、cnc的冷却防护溶剂,建立车间环境的安保措施;

21、2.mi合金表面微弧膜厚控制在6~8μm,极限盐雾性能(规格:48h,极限96h以上,实际达到140h);粘结效果:表面能(达因值44,实际≥44),

22、3.喷涂油漆体系的开发(pu+uv系列)、外观丰富颜色的开发;

23、4.应用于到笔电acd壳,提高效益、增加利润,可推广到其它所有应用mi合金项目。

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【技术保护点】

1.一种新型镁合金膜层结构,其特征在于:包括MI合金层,微弧氧化膜层和烤漆层,所述微弧氧化膜层设置于所述MI合金层和烤漆层之间。

2.根据权利要求1所述的新型镁合金膜层结构,其特征在于:所述烤漆层为外层,所述MI合金层为内层。

3.根据权利要求1所述的新型镁合金膜层结构,其特征在于:所述微弧氧化膜层的厚度为6-8μm。

4.一种新型镁合金表面微弧氧化的方法,其特征在于:包括以下步骤,

5.根据权利要求4所述的新型镁合金表面微弧氧化的方法,其特征在于:所述超音波清洗,其为在PH值10~14条件下清洗120-180s;所述纯水清洗其为在PH值6~9,清洗时间:90-120s。

6.根据权利要求4所述的新型镁合金表面微弧氧化的方法,其特征在于:所述烘烤为依次进行大线烘烤和小线烘烤,两种烘烤工艺均为:温度:80-90℃,时间:12-15min。

7.一种权利要求1-3任一项所述的新型镁合金膜层结构的加工方法,其特征在于:包括以下步骤,

8.根据权利要求7所述的新型镁合金膜层结构的加工方法,其特征在于:CNC2工序中使用冷却防护溶剂。

...

【技术特征摘要】

1.一种新型镁合金膜层结构,其特征在于:包括mi合金层,微弧氧化膜层和烤漆层,所述微弧氧化膜层设置于所述mi合金层和烤漆层之间。

2.根据权利要求1所述的新型镁合金膜层结构,其特征在于:所述烤漆层为外层,所述mi合金层为内层。

3.根据权利要求1所述的新型镁合金膜层结构,其特征在于:所述微弧氧化膜层的厚度为6-8μm。

4.一种新型镁合金表面微弧氧化的方法,其特征在于:包括以下步骤,

5.根据权利要求4所述的新型镁合金表面微弧氧化的方法,其特征在于:所述超音波...

【专利技术属性】
技术研发人员:向先建陈勇张建军
申请(专利权)人:鹤壁耕德电子有限公司
类型:发明
国别省市:

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