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本发明提供一种新型镁合金表面处理微弧氧化工艺，通过优化工艺流程中的微弧氧化环节，在MI合金的基础上构建了新型镁合金膜层结构，其包括MI合金层，微弧氧化膜层和烤漆层，所述微弧氧化膜层设置于所述MI合金层和烤漆层之间，可应用于到笔电ACD壳，提...
该专利属于鹤壁耕德电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过鹤壁耕德电子有限公司授权不得商用。

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