【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及图像处理领域，尤其涉及一种uvw对位平台的视觉对位校准方法及相关装置。
技术介绍
1、在制造业中，uvw对位平台是一种用于精确定位和校准目标工件的重要设备。然而，由于制造过程中各种因素的影响，如设备的机械变形、装配误差等，uvw对位平台在长时间运行后存在位置漂移或失准的问题。因此，为了确保制造过程的准确性和稳定性，需要对uvw对位平台进行定期的视觉对位校准。
2、现有对位校准方案，通常是由人工干预的方式，但这在大规模生产和高精度要求下不够高效，而且对位校准的准确率不高。
技术实现思路
1、本专利技术提供了一种uvw对位平台的视觉对位校准方法及相关装置，用于提高uvw对位平台的视觉对位校准准确率。
2、本专利技术第一方面提供了一种uvw对位平台的视觉对位校准方法，所述uvw对位平台的视觉对位校准方法包括：
3、根据预置的初始设备对位校准参数组合对uvw对位平台进行初始化配置，并通过预置的双目视觉设备采集目标丝印工件的第一图像数据以及第二图像数据；
4、对所述第一图像数据进行特征点提取，得到第一标定特征点集合，并对所述第二图像数据进行特征点提取，得到第二标定特征点集合；
5、对所述第一标定特征点集合以及所述第二标定特征点集合进行偏移量分析，得到目标平移偏移量以及目标角度偏移量；
6、根据所述目标平移偏移量以及所述目标角度偏移量构建丝印工件对位模型，并根据所述丝印工件对位模型对所述目标丝印工件进行视觉对
7、根据所述对位精度分析结果对所述目标丝印工件进行设备对位校准参数优化，得到目标设备对位校准参数组合。
8、结合第一方面，在本专利技术第一方面的第一种实现方式中，所述根据预置的初始设备对位校准参数组合对uvw对位平台进行初始化配置，并通过预置的双目视觉设备采集目标丝印工件的第一图像数据以及第二图像数据，包括：
9、获取预置的初始设备对位校准参数组合，并根据所述初始设备对位校准参数组合对uvw对位平台进行初始化配置；
10、对预置的双目视觉设备进行系统相机参数标定，并通过参数标定后的双目视觉设备采集目标丝印工件的原始图像数据；
11、对所述原始图像数据进行灰度化处理，得到灰度图像数据，并对所述灰度图像数据进行图像分类，得到第一图像数据以及第二图像数据。
12、结合第一方面，在本专利技术第一方面的第二种实现方式中，所述对所述第一图像数据进行特征点提取，得到第一标定特征点集合，并对所述第二图像数据进行特征点提取，得到第二标定特征点集合，包括：
13、通过预置的边缘检测算法对所述第一图像数据进行靶标特征检测，得到第一靶标边缘特征集合，以及通过所述边缘检测算法对所述第二图像数据进行靶标特征检测，得到第二靶标边缘特征集合；
14、根据所述第一靶标边缘特征集合，对所述第一图像数据进行靶标识别，得到第一目标靶标和第二目标靶标，以及根据所述第二靶标边缘特征集合，对所述第二图像数据进行靶标识别，得到第三目标靶标和第四目标靶标；
15、分别对所述第一目标靶标、所述第二目标靶标、所述第三目标靶标和所述第四目标靶标进行靶标轮廓中心坐标提取，得到对应的第一靶标轮廓中心坐标a（xm1，ym1）、第二靶标轮廓中心坐标b（xf1，yf1）、第三靶标轮廓中心坐标c（xm2，ym2）以及第四靶标轮廓中心坐标d（xf2，yf2）；
16、根据所述第一靶标轮廓中心坐标a（xm1，ym1）和所述第三靶标轮廓中心坐标c（xm2，ym2）构建第一标定线段ac，并根据所述第二靶标轮廓中心坐标b（xf1，yf1）和所述第四靶标轮廓中心坐标d（xf2，yf2）构建第二标定线段bd；
17、获取所述第一标定线段ac的第一标定中点g1（（xm1+xm2）/2，（ym1+ym2）/2），以及获取所述第二标定线段bd的第二标定中点g2（（xf1+xf2）/2，（yf1+yf2）/2）；
18、根据所述第一靶标轮廓中心坐标、所述第二靶标轮廓中心坐标以及所述第一标定中点生成第一靶标边缘特征集合，以及根据所述第三靶标轮廓中心坐标、所述第四靶标轮廓中心坐标以及所述第二标定中点生成第二靶标边缘特征集合。
19、结合第一方面，在本专利技术第一方面的第三种实现方式中，所述对所述第一标定特征点集合以及所述第二标定特征点集合进行偏移量分析，得到目标平移偏移量以及目标角度偏移量，包括：
20、对所述第一标定特征点集合以及所述第二标定特征点集合进行透射变换，得到坐标透射变换关系；
21、根据所述坐标透射变换关系，对所述第一标定特征点集合以及所述第二标定特征点集合进行横向平移偏移量计算，得到横向平移偏移量，并对所述第一标定特征点集合以及所述第二标定特征点集合进行纵向平移偏移量计算，得到纵向平移偏移量；
22、根据所述横向平移偏移量以及所述纵向平移偏移量生成对应的目标平移偏移量；
23、对所述第一靶标轮廓中心坐标a（xm1，ym1）、所述第二靶标轮廓中心坐标b（xf1，yf1）、所述第三靶标轮廓中心坐标c（xm2，ym2）以及所述第四靶标轮廓中心坐标d（xf2，yf2）进行角度偏移量计算，得到目标角度偏移量。
24、结合第一方面，在本专利技术第一方面的第四种实现方式中，所述根据所述目标平移偏移量以及所述目标角度偏移量构建丝印工件对位模型，并根据所述丝印工件对位模型对所述目标丝印工件进行视觉对位校准，以及对所述目标丝印工件进行对位精度分析，得到对位精度分析结果，包括：
25、根据所述目标平移偏移量以及所述目标角度偏移量构建丝印工件对位模型；
26、根据所述丝印工件对位模型，对所述目标丝印工件的第一标定中点g1（（xm1+xm2）/2，（ym1+ym2）/2）以及所述第二标定中点g2（（xf1+xf2）/2，（yf1+yf2）/2）进行居中对位；
27、对所述第一标定中点g1（（xm1+xm2）/2，（ym1+ym2）/2）以及所述第二标定中点g2（（xf1+xf2）/2，（yf1+yf2）/2）进行居中精度计算，得到目标居中精度；
28、分别对所述第一目标靶标、所述第二目标靶标、所述第三目标靶标和所述第四目标靶标进行中心误差计算，得到第一靶标中心误差d1、第二靶标中心误差d2、第三靶标中心误差d3以及第四靶标中心误差d4；
29、根据所述第一靶标中心误差d1、所述第二靶标中心误差d2、所述第三靶标中心误差d3以及所述第四靶标中心误差d4，判断所述目标丝印工件是否符合预设精度标准，得到对位精度判断结果。
30、结合第一方面，在本专利技术第一方面的第五种实现方式中，所述根据所述对位精度分析结果对所述目标丝印工件进行设备对位校准参数优化，得到目标设备对位校准参数组合，包括：
31、根据所述对位本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种UVW对位平台的视觉对位校准方法，其特征在于，所述UVW对位平台的视觉对位校准方法包括：
2.根据权利要求1所述的UVW对位平台的视觉对位校准方法，其特征在于，所述根据预置的初始设备对位校准参数组合对UVW对位平台进行初始化配置，并通过预置的双目视觉设备采集目标丝印工件的第一图像数据以及第二图像数据，包括：
3.根据权利要求1所述的UVW对位平台的视觉对位校准方法，其特征在于，所述对所述第一图像数据进行特征点提取，得到第一标定特征点集合，并对所述第二图像数据进行特征点提取，得到第二标定特征点集合，包括：
4.根据权利要求3所述的UVW对位平台的视觉对位校准方法，其特征在于，所述对所述第一标定特征点集合以及所述第二标定特征点集合进行偏移量分析，得到目标平移偏移量以及目标角度偏移量，包括：
5.根据权利要求4所述的UVW对位平台的视觉对位校准方法，其特征在于，所述根据所述目标平移偏移量以及所述目标角度偏移量构建丝印工件对位模型，并根据所述丝印工件对位模型对所述目标丝印工件进行视觉对位校准，以及对所述目标丝印工件进行对位精度分析，
6.根据权利要求1所述的UVW对位平台的视觉对位校准方法，其特征在于，所述根据所述对位精度分析结果对所述目标丝印工件进行设备对位校准参数优化，得到目标设备对位校准参数组合，包括：
7.根据权利要求6所述的UVW对位平台的视觉对位校准方法，其特征在于，所述根据所述第一适应度数据对所述多个第一设备对位校准参数组合进行群体划分，得到第一设备对位校准参数组合群体、第二设备对位校准参数组合群体以及第三对位参数组合群体，包括：
8.一种UVW对位平台的视觉对位校准装置，其特征在于，所述UVW对位平台的视觉对位校准装置包括：
9.一种UVW对位平台的视觉对位校准设备，其特征在于，所述UVW对位平台的视觉对位校准设备包括：存储器和至少一个处理器，所述存储器中存储有指令；
10.一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有指令，其特征在于，所述指令被处理器执行时实现如权利要求1-7中任一项所述的UVW对位平台的视觉对位校准方法。
...【技术特征摘要】
1.一种uvw对位平台的视觉对位校准方法，其特征在于，所述uvw对位平台的视觉对位校准方法包括：
2.根据权利要求1所述的uvw对位平台的视觉对位校准方法，其特征在于，所述根据预置的初始设备对位校准参数组合对uvw对位平台进行初始化配置，并通过预置的双目视觉设备采集目标丝印工件的第一图像数据以及第二图像数据，包括：
3.根据权利要求1所述的uvw对位平台的视觉对位校准方法，其特征在于，所述对所述第一图像数据进行特征点提取，得到第一标定特征点集合，并对所述第二图像数据进行特征点提取，得到第二标定特征点集合，包括：
4.根据权利要求3所述的uvw对位平台的视觉对位校准方法，其特征在于，所述对所述第一标定特征点集合以及所述第二标定特征点集合进行偏移量分析，得到目标平移偏移量以及目标角度偏移量，包括：
5.根据权利要求4所述的uvw对位平台的视觉对位校准方法，其特征在于，所述根据所述目标平移偏移量以及所述目标角度偏移量构建丝印工件对位模型，并根据所述丝印工件对位模型对所述目标丝印工件进行视觉对位校准，以及...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗祥祝，黎伟权，王后方，
申请(专利权)人：深圳市双翌光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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