【技术实现步骤摘要】
本技术涉及ald镀膜，尤其涉及喷淋装置及镀膜设备。
技术介绍
1、ald(原子层沉积)技术是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应室并在沉积基体上发生表面化学反应形成薄膜的一种技术，该技术是将物质以单原子膜的形式一层一层地沉积在基体表面。ald的喷淋装置是ald设备的核心组件之一，会影响沉积效果。
2、传统的ald喷淋装置会使化学气相前驱体先混合，再进入到反应室中，前驱体在混合过程中发生预反应会产生粉尘，一方面，粉尘掉落在基体表面会影响沉积效果，降低基体的品质；另一方面，粉尘会逐渐堵住喷淋管，无法正常出气降低沉积效果。
3、因此，亟需一种喷淋装置及镀膜设备以解决上述问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种喷淋装置，该喷淋装置将不同反应源单独进入反应腔，能够避免不同反应源混合产生的粉尘堵塞出气孔，提高沉积效果。
2、为达此目的，本技术采用以下技术方案：
3、喷淋装置，所述喷淋装置包括至少两个进气结构和喷淋结构，两个所述进气结构用于通入不同的反应源，所述喷淋结构设置有储气空间、多个缓冲空间和多个匀流空间，所述喷淋结构还包括出气结构，所述进气结构与所述储气空间连通，用于向所述储气空间输入所述反应源，所述储气空间中的所述反应源能够进入不同的所述缓冲空间，所述缓冲空间中的所述反应源能够进入不同的所述匀流空间，所述出气结构与所述匀流空间连通，且用于分别输出不同的所述反应源。
4、作为一种可选的技术方案，所述喷淋结构包括进气板和安
5、作为一种可选的技术方案，所述喷淋结构还包括过渡板，所述过渡板与所述安装底板连接，所述安装底板靠近所述过渡板的一侧开设有多个缓冲凹槽，多个所述缓冲凹槽与所述过渡板形成多个所述缓冲空间，多个所述缓冲空间平行且间隔设置，所述第一出气孔用于连通所述缓冲空间与所述储气空间，所述过渡板上开设有连通所述缓冲空间与所述匀流空间的第二出气孔。
6、作为一种可选的技术方案，每个所述缓冲空间均沿第一方向延伸，多个所述缓冲空间沿第二方向间隔设置。
7、作为一种可选的技术方案，所述喷淋结构还包括匀流板，所述匀流板与所述过渡板连接，所述匀流板靠近所述过渡板的一侧开设有匀流槽，所述匀流槽与所述过渡板的一个侧面形成匀流空间，所述匀流空间与所述缓冲空间呈角度设置，所述匀流槽内开设有与所述出气结构连通的第三出气孔。
8、作为一种可选的技术方案，所述匀流槽设置有多个，多个所述匀流槽与所述过渡板的另一侧面形成多个所述匀流空间，每个所述匀流空间均沿第二方向延伸，且多个所述匀流空间沿第一方向间隔设置。
9、作为一种可选的技术方案，所述进气结构包括进气管，所述进气管连接于所述进气板，且所述进气管的出气端与所述储气空间连通。
10、作为一种可选的技术方案，所述安装底板具有输入孔，所述进气管的进气端连接于所述安装底板，所述反应源经过所述输入孔后进入所述进气管。
11、作为一种可选的技术方案，所述出气结构为出气板，所述出气板的出气槽两侧均设置有至少一个沉积槽。
12、本技术采用以下技术方案：
13、镀膜设备，所述镀膜设备包括上述的喷淋装置。
14、本技术的有益效果：
15、本技术公开一种喷淋装置，该喷淋装置包括至少两个进气结构和喷淋结构，至少两个进气结构用于通入不同的反应源，喷淋结构设置有储气空间、多个缓冲空间和多个匀流空间，喷淋结构还包括进气结构和出气结构，进气结构与储气空间连通，用于向储气空间输入反应源，储气空间中的反应源能够进入不同的缓冲空间，缓冲空间中的反应源能够进入不同的匀流空间，出气结构与匀流空间连通，用于输出反应源。这种设置能够使得不同的气体通过各自的喷淋结构进入反应腔内，反应源经过进气结构进入储气空间后充满储气空间，然后进入多个缓冲空间，多个缓冲空间将反应源进一步的进行缓冲，使得反应源均布于喷淋装置的内部，然后缓冲空间中反应源分别进入多个匀流空间，进一步对反应源进行缓冲，使得喷淋装置中的反应源均匀分布，最后经过出气结构输出的反应源能够均匀布置，不仅确保出气效果，使得在整个过程不同反应源在喷淋结构中相互不接触，避免产生粉尘堵塞通道，又能够提升沉积效果。
16、本技术还公开一种镀膜设备，该镀膜设备包括上述的喷淋装置，该镀膜设备具有较好的喷淋效果和沉积效果。
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1.喷淋装置，其特征在于，所述喷淋装置(1)包括：
2.根据权利要求1所述的喷淋装置，其特征在于，所述喷淋结构包括进气板和安装底板(30)，所述进气板与所述进气结构连接，所述进气板与所述安装底板(30)连接，所述进气板靠近所述安装底板(30)的一侧开设有进气凹槽，所述进气凹槽与所述安装底板(30)形成所述储气空间，所述安装底板(30)开设有连通所述储气空间与所述缓冲空间的第一出气孔。
3.根据权利要求2所述的喷淋装置，其特征在于，所述喷淋结构还包括过渡板(40)，所述过渡板(40)与所述安装底板(30)连接，所述安装底板(30)靠近所述过渡板(40)的一侧开设有多个缓冲凹槽，多个所述缓冲凹槽与所述过渡板(40)形成多个所述缓冲空间，所述过渡板(40)上开设有连通所述缓冲空间与所述匀流空间的第二出气孔。
4.根据权利要求3所述的喷淋装置，其特征在于，每个所述缓冲空间均沿第一方向延伸，多个所述缓冲空间沿第二方向间隔设置。
5.根据权利要求3所述的喷淋装置，其特征在于，所述喷淋结构还包括匀流板(50)，所述匀流板(50)与所述过渡板(40
6.根据权利要求5所述的喷淋装置，其特征在于，所述匀流槽设置有多个，多个所述匀流槽与所述过渡板(40)的另一侧面形成多个所述匀流空间，每个所述匀流空间均沿第二方向延伸，且多个所述匀流空间沿第一方向间隔设置。
7.根据权利要求2所述的喷淋装置，其特征在于，所述进气结构包括进气管，所述进气管连接于所述进气板，且所述进气管的出气端与所述储气空间连通。
8.根据权利要求7所述的喷淋装置，其特征在于，所述安装底板(30)具有输入孔，所述进气管的进气端连接于所述安装底板(30)，所述反应源经过所述输入孔后进入所述进气管。
9.根据权利要求1-8任一项所述的喷淋装置，其特征在于，所述出气结构为出气板(60)，所述出气板(60)的出气槽两侧均设置有至少一个沉积槽。
10.镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备包括如权利要求1-9任一项所述的喷淋装置(1)。
...【技术特征摘要】
1.喷淋装置，其特征在于，所述喷淋装置(1)包括：
2.根据权利要求1所述的喷淋装置，其特征在于，所述喷淋结构包括进气板和安装底板(30)，所述进气板与所述进气结构连接，所述进气板与所述安装底板(30)连接，所述进气板靠近所述安装底板(30)的一侧开设有进气凹槽，所述进气凹槽与所述安装底板(30)形成所述储气空间，所述安装底板(30)开设有连通所述储气空间与所述缓冲空间的第一出气孔。
3.根据权利要求2所述的喷淋装置，其特征在于，所述喷淋结构还包括过渡板(40)，所述过渡板(40)与所述安装底板(30)连接，所述安装底板(30)靠近所述过渡板(40)的一侧开设有多个缓冲凹槽，多个所述缓冲凹槽与所述过渡板(40)形成多个所述缓冲空间，所述过渡板(40)上开设有连通所述缓冲空间与所述匀流空间的第二出气孔。
4.根据权利要求3所述的喷淋装置，其特征在于，每个所述缓冲空间均沿第一方向延伸，多个所述缓冲空间沿第二方向间隔设置。
5.根据权利要求3所述的喷淋装置，其特征在于，所述喷淋结构还包括匀流板(50)，所述匀流板(50)与所述过渡板(40)连接，所述匀...
【专利技术属性】
技术研发人员：戴佳，林佳继，朱鹤囡，董雪迪，张武，
申请(专利权)人：拉普拉斯无锡半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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