【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种静电吸盘，并且尤其涉及一种用于从静电吸盘安全和最优化地移 开晶片的方法。
技术介绍
在静电吸盘中，可调的电压源向电极施加电压以在晶片和吸盘表面之间产生静电 力，从而将晶片吸附到吸盘表面。提升销设置成在静电力被去除时提升晶片离开吸盘表面。 但是其非常难以确定在静电力去除或足够低时来安全地提升晶片离开吸盘表面。如果在静 电力太大时提升晶片，晶片可跳跃或甚至断裂、产生微粒或打碎晶片，这需要清洗衬底处理 工具。晶片的损耗和清洗都是昂贵的。而且清洗消耗时间，需要整个衬底处理工具停止运 行。众所周知存在特定的电压(即，释放电压(dechuck voltage))，如果该特定电压 施加到静电吸盘电极可补偿使晶片粘在吸盘表面的静电场。典型地，存在作为释放电压的 最佳值一如果施加的释放电压高于或低于这个最佳值，相当大的静电吸引力仍然存在于晶 片和吸盘表面之间。开发了很多方法来确定合适的释放电压(即，释放电压的最佳值)。示例性的方法 包括自偏压渐近法、残留电荷测量法、查找表和He气漏率测量法。然而，所有公知的方法都 具有系统的问题。例如，He气漏率法产生微粒，需要...
【技术保护点】
一种衬底处理系统，包括：静电吸盘；提升销，所述提升销用于相对于所述静电吸盘移动晶片；电机，所述电机与所述提升销耦接并且利用电机电流移动所述提升销，以便相对于所述静电吸盘移动所述晶片；以及电压源，所述电压源与所述静电吸盘耦接，所述电压源用于施加电压到所述静电吸盘；以及控制器，所述控制器用于测量所述提升销上的力、发送信号给所述电压源以调整施加到所述静电吸盘的所述电压，并且发送信号给所述电压源以固定在所述提升销上所测量的力对应于释放力的值时施加到所述静电吸盘的所述电压。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：T布卢克，H萨西布迪恩，D格里马德，
申请(专利权)人：因特瓦克公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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