玻璃基板减薄蚀刻液及其制备方法与应用技术

本发明专利技术公开了提供一种玻璃基板减薄蚀刻液及其制备方法与应用。该蚀刻液，是由硝酸、乙二胺四乙酸、水和下述两种磺酸中的至少一种组成：甲基磺酸和三氟甲磺酸。所述硝酸、乙二胺四乙酸和所述磺酸中的至少一种占所述蚀刻液总重的百分比分别为：２０－４０％、０．５－５％和５－３５％，余量为水。本发明专利技术提供的玻璃基板减薄用蚀刻液，能够对平板显示玻璃基板进行减薄的安全、稳定、高效的蚀刻，并能够很好的解决蚀刻过程中产生的难溶性副产物问题，尤其适用于包括等离子体显示（ＰＤＰ）、触摸屏（ＴＰ）、液晶显示（ＬＣＤ）及有机电致发光（ＯＬＥＤ）等平板显示领域中玻璃基板的减薄，具有重要的应用价值。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于平板显示领域，特别是涉及一种玻璃基板减薄蚀刻液及其制备方法与 应用。
技术介绍
在平板显示领域中，包括等离子体显示(PDP)、触摸屏(TP)、液晶显示(LCD)及有 机电致发光(OLED)等制备工艺过程中，为了进一步减轻显示器件的重量，生产厂家越来越 多的采用将玻璃基板进行减薄的方法。通常使用的减薄方法有两种，一种是物理方法，用抛 光粉进行抛光研磨，这种方法减薄时间长，且产品良率低；另一种方法为化学蚀刻法，这种 方法减薄时间短，所使用的设备投入小，产品良率高，且减薄液的成分简单，都是一些工业 上常用的酸性物质，成本低廉。目前，用化学方法进行减薄的生产厂家所采用的减薄液，基本都采用氢氟酸为主 要成分，还有一些厂家再辅助加入其它强酸。当蚀刻液中存在氢氟酸时会存在以下问题氢氟酸的毒性大、容易挥发，尤其是在配置时需要采用较高温度和浓度，不仅生产 过程中危险性高，而且会对环境造成巨大污染；蚀刻产生的副产物容易吸附在玻璃、设备和管道表面，造成产品表面处理效果差、 管道阻塞等问题；生产过程中蚀刻速率不稳定，蚀刻液的利用率相对较低，由此还会造成废液处理 量大，处理成本也随之增高。为此本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蚀刻液，是由硝酸、乙二胺四乙酸、水和磺酸组成，所述磺酸选自甲基磺酸和三氟甲磺酸中的至少一种。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：冯卫文，
申请(专利权)人：合肥茂丰电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：34[中国|安徽]