System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种输送机构、等离子清洗设备以及等离子清洗方法技术_技高网

一种输送机构、等离子清洗设备以及等离子清洗方法技术

技术编号:40034442 阅读:10 留言:0更新日期:2024-01-16 18:45
本发明专利技术涉及线路板加工的技术领域,具体涉及一种输送机构以及等离子清洗设备,输送机构包括导向输送组件和驱动组件,导向输送组件包括第一导向输送组和第二导向输送组,第一导向输送组和第二导向输送组分别设在输送路径的两侧且沿输送路径延伸布置,第一导向输送组上设有第一槽道,第二导向输送组上设有第二槽道;在输送路径上,第一槽道的槽口与第二槽道的槽口对向设置以用于将物料的两端托住;驱动组件与导向输送组件驱动连接,驱动组件用于驱使第一导向输送组和第二导向输送组将物料沿输送路径输送。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及线路板加工的,具体涉及一种输送机构、等离子清洗设备以及等离子清洗方法


技术介绍

1、在生产阶段,pcb板主要依靠输送带或者输送滚筒来进行输送,这种输送结构其一问题是,pcb板在输送过程中容易发生偏移,并不利于离子清洗机等仪器的范围覆盖,导致pcb板有一部分区域会出现漏加工的情况,比如在等离子清洗中,放偏了的pcb板有部分区域无法被等离子接触到,而为了改善如此缺陷,往往需要设置多台仪器来扩大覆盖范围,但这会明显加重设备投入成本;除此之外,将pcb板放置在输送带或者输送滚筒上的输送方式其二问题是会导致pcb板的底面被遮挡,当涉及到双面加工时,需要将pcb板正反面调转以使得底面外露,当中操作繁琐并且容易发生对位误差。


技术实现思路

1、本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本专利技术提出一种输送机构,能够防止物料在输送过程中发生偏移,并且能够确保物料的上下表面不被遮挡。

2、本申请还提出一种具有上述输送机构的等离子清洗设备。

3、除此之外,本申请还提出一种应用于上述等离子清洗设备的等离子清洗方法。

4、根据本申请的第一方面实施例的用于将物料沿指定的输送方向输送的输送机构,包括导向输送组件和驱动组件,其中,导向输送组件包括第一导向输送组和第二导向输送组,第一导向输送组和第二导向输送组分别设在输送路径的两侧,第一导向输送组上设有第一槽道,第二导向输送组上设有第二槽道;第一槽道和第二槽道均至少有部分沿输送路径延伸设置,每个第一槽道对应输送路径部分的槽口与第二槽道对应输送路径部分槽道的槽口槽道对向设置,以分别用于托住物料的两相向侧边;驱动组件与导向输送组件驱动连接,且用于驱使导向输送组件将物料沿输送路径输送。

5、根据本专利技术实施例的输送机构,至少具有如下有益效果:

6、本申请实施例设置了第一导向输送组和第二导向输送组,并且在第一导向输送组上设置第一槽道,在第二导向输送组上设置第二槽道,第一槽道和第二槽道用于将物料(尤其是板状物料)的两端(比如是左右两端)托住并能够分别在驱动组件的作用下将物料往指定路径输送,从而实现对于pcb板的导向输送时不发生偏移的功能。

7、在工业领域中,被加工的板状物料的周边通常设有工艺边,在加工完成之后,该工艺边需要被裁切去除以保留物料中部的区域,而本申请实施例利用第一槽道和第二槽道来将物料的两端托住,根据槽深以及工艺边宽度的设计,能够只托住到物料的工艺边区域而物料所需加工的中部区域不造成遮挡而不容易被刮擦损伤,使得物料中部的上下表面整体上不存在加工死角,有利于实施全范围加工比如是等离子清洗处理;并且相比于输送带的输送模式,本申请实施例的输送结构使得物料中部的上下表面均完全外露,因此在双面加工的情况下,可以通过调整加工仪器的位置来分别对准物料的表面,而无需将物料上下翻转,省却工序之余还能够避免翻转重装所导致的对位误差,在一定程度上提升了物料的加工精度。

8、根据本专利技术的一些实施例,第一导向输送组包括若干个沿输送路径排列的第一导向辊轮,第二导向输送组包括若干个沿输送路径排列的第二导向辊轮;第一导向辊轮的周面上设有第一导向辊槽,若干个第一导向辊槽等高设置并共同形成第一槽道;第二导向辊轮的周面上设有第二导向辊槽,若干个第二导向辊槽等高设置并共同形成第二槽道。

9、根据本专利技术的一些实施例,从槽底至槽口的方向,第一导向辊槽和/或第二导向辊槽的上侧壁和下侧壁分别朝相互远离的方向倾斜。

10、根据本专利技术的一些实施例,输送机构还包括预输送组件,预输送组件包括第一预输送组和第二预输送组,沿输送路径的延伸方向,第一预输送组设在第一导向输送组的后方,第二预输送组设在第二导向输送组的后方。

11、根据本专利技术的一些实施例,第一预输送组的顶部边沿设有第一纠偏坡,第二预输送组的顶部边沿设有第二纠偏坡,自第一预输送组的底部至顶部,第一纠偏坡朝远离第二预输送组的方向倾斜,第二纠偏坡朝远离第一预输送组的方向倾斜,第一纠偏坡和第二纠偏坡用于承载物料的两相向侧边,且预输送组件用于将物料沿输送路径输送至导向输送组件。

12、根据本专利技术的一些实施例,第一预输送组包括若干个沿输送路径排列的第一输送辊轮,第二预输送组包括若干个沿输送路径排列的第二输送辊轮,第一输送辊轮的顶部边沿设有第一输送锥面,若干个第一输送锥面等高设置,并在第一预输送组朝向第二预输送组的一侧共同形成第一纠偏坡;第二输送辊轮的顶部边沿设有第二输送锥面,若干个第二输送锥面等高设置,并在第二预输送组朝向第一预输送组的一侧共同形成第二纠偏坡。

13、根据本专利技术的一些实施例,第一纠偏坡的坡顶与第一槽道的槽底等高设置,第二纠偏坡的坡顶与第二槽道的槽底等高设置。

14、根据本专利技术的一些实施例,驱动组件还与预输送组件驱动连接,且用于驱使预输送组件将物料沿输送路径输送。

15、根据本专利技术的一些实施例,导向输送组件还包括第三导向输送组和第四导向输送组;沿输送路径的延伸方向,第三导向输送组设在第一导向输送组的前方,且第三导向输送组上设有与第一槽道等高的第三槽道;第四导向输送组设在第二导向输送组的前方,且第四导向输送组上设有与第二槽道等高的第四槽道;第三槽道和第四槽道均至少有部分沿输送路径延伸设置,第三槽道对应输送路径部分的槽口与第四槽道对应输送路径部分的槽口对向设置,以分别用于托住物料的两相向侧边。

16、根据本专利技术的一些实施例,第一槽道设在第一导向输送组的上部,第二槽道设在第二导向输送组的上部,以使得物料的输送面形成于第一导向输送组和第二导向输送组的上部;第三槽道设在第三导向输送组的下部,第四槽道设在第四导向输送组的下部,以使得物料的输送面形成于第三导向输送组和第四导向输送组的下部。

17、根据本专利技术的一些实施例,输送机构还包括距离调节组件,导向输送组件、预输送组件均与距离调节组件连接,距离调节组件用于调节第一预输送组和第二预输送组之间、第一导向输送组和第二导向输送组之间、以及第三导向输送组和第四导向输送组之间的间距。

18、根据本申请的第二方面实施例的等离子清洗设备,包括离子清洗机以及第一方面实施例的板材输送机构,等离子清洗机设在导向输送组件的一侧,并用于从物料的上方和/或者下方对物料进行清洗。

19、根据本申请的第二方面实施例的等离子清洗设备,至少具有如下有益效果:

20、本申请实施例的等离子清洗设备配置了第一方面实施例的输送机构,根据上述的输送机构的有益效果,输送机构能够以确保物料(比如是pcb板线路板)上下表面不被遮挡的形式将物料沿指定的输送方向输送,因此,本申请实施例的等离子清洗设备能够实现对于物料表面的无死角清洗,省却了后续对于物料被遮挡位置额外清洗的操作,显著提升了对于物料表面的清洗效率。

21、根据本申请的第三方面实施例的等离子清洗方法,该方法应用于第二方面实施例的等离子清洗设备,包括以下步骤:

22、利用导向本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种输送机构,用于将物料沿指定的输送方向输送,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种输送机构,其特征在于,所述第一导向输送组包括若干个沿所述输送路径排列的第一导向辊轮,所述第二导向输送组包括若干个沿所述输送路径排列的第二导向辊轮;所述第一导向辊轮的周面上设有第一导向辊槽,若干个所述第一导向辊槽等高设置并共同形成所述第一槽道;所述第二导向辊轮的周面上设有第二导向辊槽,若干个所述第二导向辊槽等高设置并共同形成所述第二槽道。

3.根据权利要求2所述的一种输送机构,其特征在于,从槽底至槽口的方向,所述第一导向辊槽和/或所述第二导向辊槽的上侧壁和下侧壁分别朝相互远离的方向倾斜。

4.根据权利要求1所述的输送机构,其特征在于,还包括预输送组件,所述预输送组件包括第一预输送组和第二预输送组,沿所述输送路径的延伸方向,所述第一预输送组设在所述第一导向输送组的后方,所述第二预输送组设在所述第二导向输送组的后方。

5.根据权利要求4所述的一种输送机构,其特征在于,所述第一预输送组的顶部边沿设有第一纠偏坡,所述第二预输送组的顶部边沿设有第二纠偏坡,自所述第一预输送组的底部至顶部,所述第一纠偏坡朝远离所述第二预输送组的方向倾斜,所述第二纠偏坡朝远离所述第一预输送组的方向倾斜,所述第一纠偏坡和所述第二纠偏坡用于承载所述物料的两相向侧边,且所述预输送组件用于将所述物料沿所述输送路径输送至所述导向输送组件。

6.根据权利要求5所述的一种输送机构,其特征在于,所述第一预输送组包括若干个沿所述输送路径排列的第一输送辊轮,所述第二预输送组包括若干个沿所述输送路径排列的第二输送辊轮,所述第一输送辊轮的顶部边沿设有第一输送锥面,若干个所述第一输送锥面等高设置,并在所述第一预输送组朝向所述第二预输送组的一侧共同形成所述第一纠偏坡;所述第二输送辊轮的顶部边沿设有第二输送锥面,若干个所述第二输送锥面等高设置,并在所述第二预输送组朝向所述第一预输送组的一侧共同形成所述第二纠偏坡。

7.根据权利要求5所述的一种输送机构,其特征在于,所述第一纠偏坡的坡顶与所述第一槽道的槽底等高设置,所述第二纠偏坡的坡顶与所述第二槽道的槽底等高设置。

8.根据权利要求4所述的一种输送机构,其特征在于,所述驱动组件还与所述预输送组件驱动连接,且用于驱使所述预输送组件将所述物料沿所述输送路径输送。

9.根据权利要求4所述的一种输送机构,其特征在于,所述导向输送组件还包括第三导向输送组和第四导向输送组;沿所述输送路径的延伸方向,所述第三导向输送组设在所述第一导向输送组的前方,且所述第三导向输送组上设有与所述第一槽道等高的第三槽道;所述第四导向输送组设在所述第二导向输送组的前方,且所述第四导向输送组上设有与所述第二槽道等高的第四槽道;所述第三槽道和所述第四槽道均至少有部分沿所述输送路径延伸设置,所述第三槽道对应所述输送路径部分的槽口与所述第四槽道对应所述输送路径部分的槽口对向设置,以分别用于托住所述物料的两相向侧边。

10.根据权利要求9所述的一种输送机构,其特征在于,所述第一槽道设在所述第一导向输送组的上部,所述第二槽道设在所述第二导向输送组的上部,以使得所述物料的输送面形成于所述第一导向输送组和所述第二导向输送组的上部;所述第三槽道设在所述第三导向输送组的下部,所述第四槽道设在所述第四导向输送组的下部,以使得所述物料的输送面形成于所述第三导向输送组和所述第四导向输送组的下部。

11.根据权利要求9所述的一种输送机构,其特征在于,还包括距离调节组件,所述导向输送组件、所述预输送组件均与所述距离调节组件连接,所述距离调节组件用于调节所述第一预输送组和所述第二预输送组之间、所述第一导向输送组和所述第二导向输送组之间、以及所述第三导向输送组和所述第四导向输送组之间的间距。

12.一种等离子清洗设备,其特征在于,包括等离子清洗机以及如权利要求1-11任一所述的输送机构,所述等离子清洗机设在所述导向输送组件的一侧,并用于从所述物料的上方和/或者下方对所述物料的表面进行清洗。

13.一种等离子清洗方法,其特征在于,应用于权利要求12所述的等离子清洗设备,所述方法包括以下步骤:

...

【技术特征摘要】

1.一种输送机构,用于将物料沿指定的输送方向输送,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种输送机构,其特征在于,所述第一导向输送组包括若干个沿所述输送路径排列的第一导向辊轮,所述第二导向输送组包括若干个沿所述输送路径排列的第二导向辊轮;所述第一导向辊轮的周面上设有第一导向辊槽,若干个所述第一导向辊槽等高设置并共同形成所述第一槽道;所述第二导向辊轮的周面上设有第二导向辊槽,若干个所述第二导向辊槽等高设置并共同形成所述第二槽道。

3.根据权利要求2所述的一种输送机构,其特征在于,从槽底至槽口的方向,所述第一导向辊槽和/或所述第二导向辊槽的上侧壁和下侧壁分别朝相互远离的方向倾斜。

4.根据权利要求1所述的输送机构,其特征在于,还包括预输送组件,所述预输送组件包括第一预输送组和第二预输送组,沿所述输送路径的延伸方向,所述第一预输送组设在所述第一导向输送组的后方,所述第二预输送组设在所述第二导向输送组的后方。

5.根据权利要求4所述的一种输送机构,其特征在于,所述第一预输送组的顶部边沿设有第一纠偏坡,所述第二预输送组的顶部边沿设有第二纠偏坡,自所述第一预输送组的底部至顶部,所述第一纠偏坡朝远离所述第二预输送组的方向倾斜,所述第二纠偏坡朝远离所述第一预输送组的方向倾斜,所述第一纠偏坡和所述第二纠偏坡用于承载所述物料的两相向侧边,且所述预输送组件用于将所述物料沿所述输送路径输送至所述导向输送组件。

6.根据权利要求5所述的一种输送机构,其特征在于,所述第一预输送组包括若干个沿所述输送路径排列的第一输送辊轮,所述第二预输送组包括若干个沿所述输送路径排列的第二输送辊轮,所述第一输送辊轮的顶部边沿设有第一输送锥面,若干个所述第一输送锥面等高设置,并在所述第一预输送组朝向所述第二预输送组的一侧共同形成所述第一纠偏坡;所述第二输送辊轮的顶部边沿设有第二输送锥面,若干个所述第二输送锥面等高设置,并在所述第二预输送组朝向所述第一预输送组的一侧共同形成所述第二纠偏坡。

7.根据权利要求5所述的一种输送机构,其特征在于,所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡振新
申请(专利权)人:广东安达智能装备股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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