沉积环和静电吸盘制造技术

本实用新型专利技术提供静电吸盘和与之配合使用的沉积环，所述静电吸盘上的各个把持部的形状互不相同、和／或大小互不相同、和／或构成不等边多边形。解决了现有技术中容易将沉积环错误安装到静电吸盘上的问题。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体处理室用处理套件，尤其涉及处理室内常用的沉积环和静 电吸盘。
技术介绍
在半导体处理时，处理室内常用到沉积环和与之配套使用的静电吸盘，然而由于 设计原因，现有的沉积环和静电吸盘经常容易安装反。参照图1所示，处理室10包括腔体500，所述腔体内设置有静电吸盘100、与所述 静电吸盘100配套使用的沉积环200、位于所述静电吸盘上的基板400、位于所述腔体500 侧壁上的覆盖环300。当对所述处理室进行预防和保养时，需要将所述沉积环200安装于所述静电吸盘 100上，正确的安装结果如图1所示；但是，由于所述沉积环200的正反两面极其相似，操作 人员经常将其安装反，错误的安装结果如图2所示。由图1可知，正确安装沉积环200后， 沉积环200的侧壁200a的倾斜方向与覆盖环300的侧壁300a的倾斜方向一致；由图2可 知，错误安装沉积环200后，沉积环200的侧壁200a的倾斜方向与覆盖环300的侧壁300a 的倾斜方向不一致。对所述处理室10进行预防保养时，所述静电吸盘100上升使所述覆盖环300安装 于所述沉积环200上，正确的安装结果如图3所示，错误的安装结果如图4所示。由图3可 知，当正确安装所述沉积环200，再安装所述覆盖环300时，所述沉积环200的凸起部200b 通过所述覆盖环300的凹陷部300b，使沉积环200与覆盖环300保持一定距离；由图4可 知，当错误安装所述沉积环200，再安装所述覆盖环300时，由于所述沉积环200的凸起部 200b朝下，所述覆盖环300和所述沉积环200紧密接触，且由于重力以及2种材料热膨胀系 数不同，所述沉积环200的侧壁200a和所述覆盖环300的侧壁300a受热导致卡在一起且 卡得很紧。因此，当所述处理室10预防和保养完后，需要将所述静电吸盘100下降，由于沉 积环200和覆盖环300卡得很紧，所以，本应随所述静电吸盘100下降的沉积环200和基板 400与所述覆盖环300卡在一起，被卡的情况如图5所示。所述沉积环200和所述静电吸盘100的平面结构图如图6所示，所述沉积环200 上设置有第一凸起202、第二凸起204和第三凸起206，所述第一凸起202、第二凸起204和 第三凸起206的形状大小相同、构成等边三角形，相应的，所述静电吸盘100上设置有第一 凹槽102、第二凹槽104和第三凹槽106，第一凹槽102、第二凹槽104和第三凹槽106的形 状大小也相同并构成等边三角形。所述沉积环200、基板400和覆盖环300被卡在一起，有可能因为卡得太紧而不能 分开，也有可能卡得不够劲而使所述基板400和沉积环200掉下来，无论哪种情况都会影响 使用、甚至造成不必要的损失。
技术实现思路
为了解决现有技术中沉积环经常错误安装到静电吸盘上的问题，本技术提供 一种在错误安装沉积环时，沉积环与静电吸盘不能配合使用的沉积环和静电吸盘。本技术提供第一种静电吸盘，包括2个卡持部，所述2个卡持部的形状互不 相同、和/或大小互不相同，且其中一个卡持部位于所述静电吸盘的对称轴上时，另一个卡 持部位于所述静电吸盘的对称轴之外。可选的，所述卡持部为凹槽或凸起。本技术还提供与第一种静电吸盘配合使用的沉积环，包括2个配合部，所述 2个配合部的形状互不相同、和/或大小互不相同，且其中一个配合部位于所述沉积环的对 称轴上时，另一个配合部位于所述沉积环的对称轴之外。可选的，所述配合部为凹槽或凸起。本技术提供第二种静电吸盘，包括N个卡持部，其中N >3，其中，所述N个卡 持部的形状互不相同、和/或大小互不相同、和/或构成不等边的N边形。可选的，所述卡持部为凹槽或凸起。优选的，所述卡持部的数量为3个。本技术还提供与第二种静电吸盘配合使用的沉积环，包括N个配合部，其中 N >3，所述N个配合部的形状互不相同、和/或大小互不相同、和/或构成不等边的N边形。可选的，所述配合部为凸起或凹槽。优选的，所述配合部的数量为3个。把持部和配合部的数量为3个是最优选的，因为3个点确定一个平面，且根据3角 形的三点稳定性，3个把持部和3个配合部配合使用的配合程度最高，且避免了制造把持部 和配合部时制造更多把持部和配合部的繁琐；且3个把持部和3个配合部识别起来也比较 方便。本技术的把持部和配合部的形状、大小和位置，只有在所述沉积环正确安装 到所述静电吸盘上时才能相互配合，因此，操作人员不会将沉积环错误安装到静电吸盘上， 从而避免了不必要的经济损失。附图说明图1为正确安装沉寂环后处理室的结构示意图；图2为错误安装沉积环后处理室的结构示意图；图3为基于图1的安装覆盖环后处理室的结构示意图；图4为基于图2的安装覆盖环后处理室的结构示意图；图5为沉积环、基板和覆盖环卡在一起的情况；图6为沉积环和静电吸盘的平面结构图；图7为本技术实施例沉积环和静电吸盘的一种平面结构图；图8为本技术实施例沉积环和静电吸盘的另一种平面结构图。具体实施方式为了使本技术的内容更加清楚易懂，下面结合说明书附图对本技术的内4容作详细描述。本技术通过对现有处理室的沉积环和静电吸盘进行分析发现，因为现有的沉 积环的第一凸起、第二凸起和第三凸起的形状大小相同、构成等边三角形，静电吸盘的第一 凹槽、第二凹槽和第三凹槽的形状大小也相同并构成等边三角形，无论所述沉积环怎样安 装都可以安装到所述静电吸盘上。有鉴于此，本技术通过改变所述沉积环的第一凸起、 第二凸起和第三凸起的形状、大小或位置，以及所述静电吸盘的第一凹槽、第二凹槽和第三 凹槽的形状、大小或位置，从而使所述沉积环只能正确安装到所述静电吸盘上。实施例1参照图7所示，本实施例的静电吸盘100包括第一凹槽102、第二凹槽104和第 三凹槽106，其中，所述第一凹槽102、第二凹槽104和第三凹槽106的形状互不相同、大小 也互不相同。优选的，所述第一凹槽、第二凹槽和第三凹槽构成不等边三角形。可选的，所述静电吸盘还可以包括第四凹槽、第五凹槽......，所述凹槽的数量以及每个凹槽的形状、大小和位置的设计思想与所述第一凹槽、第二凹槽相近的设计思想相 近，各个凹槽之间的形状互不相同、大小也互不相同。一般情况下，所述凹槽的数量为3个 时，静电吸盘的凹槽与沉积环的凸起配合程度最好。本实施例中，所述凹槽也可以为凸起。所述静电吸盘的凹槽之间的形状、大小和位置设计的中心思想在于，使与之对应 的沉积环只能正面朝上的安装到所述静电吸盘上，即正确安装到所述静电吸盘上，当与之 对应的沉积环错误安装到所述静电吸盘上时不能使沉积环和静电吸盘相吻合。实施例2参照图8所示，本实施例的静电吸盘100包括第一凹槽102、第二凹槽104和第 三凹槽106，其中，所述第一凹槽102、第二凹槽104和第三凹槽106构成不等边三角形。可选的，所述静电吸盘还包括第四凹槽，所述第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第 四凹槽构成不等边四边形。可选的，所述静电吸盘还可以包括第五凹槽，所述第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽、 第四凹槽和第五凹槽构成不等边五边形。以此类推，所述静电吸盘可以包括更多的凹槽，所有凹槽构成不等边图形。优选的，所述静电吸盘的所有凹槽的形状各不相同。优选的，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种静电吸盘，包括：２个卡持部，其特征在于，所述２个卡持部的形状互不相同、和／或大小互不相同，且其中一个卡持部位于所述静电吸盘的对称轴上时，另一个卡持部位于所述静电吸盘的对称轴之外。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：方文勇，刘兆虎，曾海，李江风，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，武汉新芯集成电路制造有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]