一种去胶机与晶圆处理系统技术方案

本申请提供了一种去胶机与晶圆处理系统，涉及去胶技术领域。该去胶机包括第一腔体、第二腔体、电磁阀门、真空系统以及驱动模块，电磁阀门与第一腔体、第二腔体连通，真空系统与电磁阀门连接，电磁阀门还与驱动模块电连接；其中，驱动模块包括控制器，控制器与电磁阀门电连接，且驱动模块连接独立电源；控制器用于在其中一个腔体处于维护状态时，控制电磁阀门的工作，以使另一腔体正常工作。本申请提供的去胶机与晶圆处理系统具有提升了产能的优点。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及去胶，具体而言，涉及一种去胶机与晶圆处理系统。

技术介绍

1、aspen ii mastton双腔干法去胶机设备包括两个腔体，当需要对其中一个腔体进行保养维护时，通常需将整机断电，然后对需要保养维护的腔体进行操作。

2、然而，当出现两个腔体中其中一个腔体损坏，另一个腔体可以正常使用的情况时，将整机断电会导致产能降低，同时维护等待时间较长。

3、综上，现有技术中存在当进行去胶机的单腔维护保养时，产能大幅降低的问题。

技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种去胶机与晶圆处理系统，以解决现有技术中存在的当进行去胶机的单腔维护保养时，产能大幅降低的问题。

2、为了实现上述目的，本申请实施例采用的技术方案如下：

3、一方面，本申请实施例提供了一种去胶机，所述去胶机包括第一腔体、第二腔体、电磁阀门、真空系统以及驱动模块，所述电磁阀门与所述第一腔体、所述第二腔体连通，所述真空系统与所述电磁阀门连接，所述电磁阀门还与所述驱动模块电连接；其中，p>

4、所述驱本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种去胶机，其特征在于，所述去胶机包括第一腔体(110)、第二腔体(120)、电磁阀门(130)、真空系统(140)以及驱动模块(150)，所述电磁阀门(130)与所述第一腔体(110)、所述第二腔体(120)连通，所述真空系统(140)与所述电磁阀门(130)连接，所述电磁阀门(130)还与所述驱动模块(150)电连接；其中，

2.如权利要求1所述的去胶机，其特征在于，所述驱动模块(150)还包括整流单元(151)与继电器(152)，所述独立电源为交流电源，所述整流单元的输入端连接所述独立电源，所述整流单元的输出端与所述继电器(152)电连接，所述继电器(152)与所述...

【技术特征摘要】

1.一种去胶机，其特征在于，所述去胶机包括第一腔体(110)、第二腔体(120)、电磁阀门(130)、真空系统(140)以及驱动模块(150)，所述电磁阀门(130)与所述第一腔体(110)、所述第二腔体(120)连通，所述真空系统(140)与所述电磁阀门(130)连接，所述电磁阀门(130)还与所述驱动模块(150)电连接；其中，

2.如权利要求1所述的去胶机，其特征在于，所述驱动模块(150)还包括整流单元(151)与继电器(152)，所述独立电源为交流电源，所述整流单元的输入端连接所述独立电源，所述整流单元的输出端与所述继电器(152)电连接，所述继电器(152)与所述控制器(153)电连接。

3.如权利要求2所述的去胶机，其特征在于，所述继电器(152)包括线圈(1521)与第一开关(1522)，所述整流单元包括正输出端与负输出端，所述线圈(1521)分别与所述正输出端、所述负输出端电连接，所述控制器(153)通过所述第一开关(1522)与所述正输出端电连接，所述控制器(153)连接于所述负输出端；其中，

【专利技术属性】
技术研发人员：徐剑，吕明，宗亮亮，郑东，
申请(专利权)人：捷捷微电南通科技有限公司，
类型：新型
国别省市：