【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体，涉及但不限于一种晶圆传送盒内气体的检测装置及检测方法。
技术介绍
1、在半导体制造过程中，晶圆(wafer)上会残留工艺(process)过程中的一些副产物(byproduct)。由于蚀刻等工艺的持续时间长，因此先完成工艺步骤的晶圆会在晶圆传送盒(foup)里存放较长时间。这样，晶圆上残留的副产物会和空气中的水结合，经过长时间挥发，最终会形成块缺陷(block defect)，从而影响未进行工艺步骤的晶圆，造成产品缺陷。目前所使用的foup没有侦测内部环境的功能，不能实时了解到foup内部环境是否发生变化。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请实施例提供一种晶圆传送盒内气体的检测装置及检测方法。
2、第一方面，本申请实施例提供一种晶圆传送盒内气体的检测装置，包括：
3、光线发射器，用于发射测试光线，所述测试光线用于照射晶圆传送盒中的空气；
4、信号检测器，用于接收所述测试光线穿过所述晶圆传送盒中的空气所形成的待测光线，并确定所述待测光线的光强信号以及所述晶圆传送盒中的气体成份；
5、控制器，与所述信号检测器连接，用于对所述光强信号进行处理，以确定所述气体成份中每一种气体的含量。
6、在一些实施例中，还包括：
7、吹扫机构，用于对所述晶圆传送盒内的空气进行吹扫；
8、所述吹扫机构与所述控制器连接，所述控制器还用于在所述信号检测器检测出所述气体成份中包含预设气体、且在所述预设气体的含量大
9、在一些实施例中，所述光线发射器和所述信号检测器均设置于所述晶圆传送盒上；所述晶圆传送盒包括前开门以及与所述前开门处于相对侧的尾部；
10、其中，所述光线发射器设置于所述晶圆传送盒尾部的顶部，所述信号检测器设置于所述光线发射器的正下方，且位于所述晶圆传送盒的底部；或者，
11、所述光线发射器设置于所述晶圆传送盒尾部的底部，所述信号检测器设置于所述光线发射器的正上方，且位于所述晶圆传送盒的顶部。
12、在一些实施例中，所述晶圆传送盒包括前开门以及与所述前开门处于相对侧的尾部；
13、所述光线发射器设置于所述晶圆传送盒尾部的顶部，所述信号检测器设置于所述光线发射器的正下方，且位于所述晶圆传送盒底部的晶圆装载口上；或者，
14、所述信号检测器设置于所述晶圆传送盒尾部的顶部，所述光线发射器设置于所述信号检测器的正下方，且位于所述晶圆传送盒底部的晶圆装载口上。
15、在一些实施例中，还包括：反射镜；
16、所述反射镜用于对穿过所述晶圆传送盒中空气的光线进行反射，使得反射光线再次进入所述晶圆传送盒中的空气中；
17、所述信号检测器，还用于接收经过所述反射镜反射后再次穿过所述晶圆传送盒中空气的待测光线。
18、在一些实施例中，所述光线发射器、所述信号检测器和所述反射镜均设置于所述晶圆传送盒上；所述晶圆传送盒包括前开门以及与所述前开门处于相对侧的尾部；
19、其中，所述光线发射器和所述信号检测器设置于所述晶圆传送盒尾部的顶部，所述反射镜设置于所述光线发射器和所述信号检测器的正下方，且位于所述晶圆传送盒的底部；或者，
20、所述反射镜设置于所述晶圆传送盒尾部的顶部，所述光线发射器和所述信号检测器设置于所述反射镜的正下方，且位于所述晶圆传送盒的底部。
21、在一些实施例中，所述晶圆传送盒包括前开门以及与所述前开门处于相对侧的尾部；
22、所述光线发射器和所述信号检测器设置于所述晶圆传送盒的尾部顶部，所述反射镜设置于所述光线发射器和所述信号检测器的正下方，且位于所述晶圆传送盒底部的晶圆装载口上；或者，
23、所述反射镜设置于所述晶圆传送盒的尾部顶部，所述光线发射器和所述信号检测器设置于所述反射镜的正下方，且位于所述晶圆传送盒底部的晶圆装载口上。
24、在一些实施例中，还包括：与所述控制器和所述信号检测器连接的存储器；
25、所述存储器用于记录所述信号检测器检测到的所述晶圆传送盒中的气体成份和所述控制器确定的所述气体成份中每一种气体的含量；
26、所述控制器还用于在所述存储器记录的所述气体成份中包含所述预设气体，且所述预设气体的含量大于阈值时，控制所述吹扫机构进行工作，并且在所述存储器记录的所述预设气体的含量小于或等于所述阈值时，控制吹扫机构停止对所述晶圆传送盒内的空气进行吹扫。
27、第二方面，本申请实施例提供一种晶圆传送盒内气体的检测方法，应用于第一方面所述的检测装置，所述方法包括：
28、通过光线发射器发射测试光线，以照射所述晶圆传送盒中的空气；
29、通过信号检测器接收所述测试光线穿过所述晶圆传送盒中的空气所形成的待测光线，并确定所述待测光线的光强信号以及所述晶圆传送盒中的气体成份；
30、通过控制器对所述光强信号进行处理，以确定所述气体成份中每一种气体的含量。
31、在一些实施例中，所述方法还包括：
32、在所述信号检测器检测到所述晶圆传送盒中的气体成份中包含预设气体、且所述预设气体的含量大于阈值时，控制吹扫机构对所述晶圆传送盒内的空气进行吹扫，并且在所述预设气体的含量小于或等于所述阈值时，控制吹扫机构停止对所述晶圆传送盒内的空气进行吹扫。
33、在一些实施例中，所述方法还包括：
34、通过存储器记录所述信号检测器检测到所述晶圆传送盒中的气体成份以及所述控制器确定的所述气体成份中每一种气体的含量；
35、在所述存储器记录的所述气体成份中包含预设气体、且所述预设气体的含量大于阈值时，控制吹扫机构对所述晶圆传送盒内的空气进行吹扫，并且在所述存储器记录的所述预设气体的含量小于或等于所述阈值时，控制吹扫机构停止对所述晶圆传送盒内的空气进行吹扫。
36、本申请实施例提供一种晶圆传送盒内气体的检测装置及检测方法，该检测装置包括：光线发射器，用于发射测试光线，测试光线用于照射晶圆传送盒(foup)中的空气；信号检测器，用于接收测试光线穿过晶圆传送盒中的空气所形成的待测光线，并确定待测光线的光强信号以及晶圆传送盒中的气体成份；控制器，与信号检测器连接，用于对光强信号进行处理，以确定气体成份中每一种气体的含量。本申请实施例提供的检测装置可以实现对foup内的气体类型以及气体含量进行检测，这样，可以实现对foup内部的环境进行侦测，从而可以及时判断出foup内部环境是否发生变化，并及时做出应对，减少块状缺陷的污染，提高晶圆的良率。
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1.一种晶圆传送盒内气体的检测装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：
3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述光线发射器和所述信号检测器均设置于所述晶圆传送盒上；所述晶圆传送盒包括前开门以及与所述前开门处于相对侧的尾部；
4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述晶圆传送盒包括前开门以及与所述前开门处于相对侧的尾部；
5.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，还包括：反射镜；
6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述光线发射器、所述信号检测器和所述反射镜均设置于所述晶圆传送盒上；所述晶圆传送盒包括前开门以及与所述前开门处于相对侧的尾部；
7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述晶圆传送盒包括前开门以及与所述前开门处于相对侧的尾部；
8.根据权利要求2至7任一项所述的装置，其特征在于，还包括：与所述控制器和所述信号检测器连接的存储器；
9.一种晶圆传送盒内气体的检测方法，其特征在于，应用于上述权利要求1至8任一项所述的检测装置，
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
11.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆传送盒内气体的检测装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：
3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述光线发射器和所述信号检测器均设置于所述晶圆传送盒上；所述晶圆传送盒包括前开门以及与所述前开门处于相对侧的尾部；
4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述晶圆传送盒包括前开门以及与所述前开门处于相对侧的尾部；
5.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，还包括：反射镜；
6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述光线发射器、所述信号检测器和所述反射镜均设置...
【专利技术属性】
技术研发人员：李秋智，潘超，程翠，田应超，陈闰鹏，
申请(专利权)人：湖北三维半导体集成创新中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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