一种新型细纱机上销制造技术

技术编号:3997556 阅读:257 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种细纱机牵伸机构控制件,特别公开了一种新型细纱机上销。该新型细纱机上销,包括上销架,上销架两侧设有两个控制嵌板,上销架内设有弹簧,其特征是:控制嵌板的控制面宽度设计成2.4~2.6mm,控制中心距长度设计成37.3~37.5mm。该新型细纱机上销,通过对细纱上销控制嵌板的控制面宽度和控制中心距长度重新进行设计改进,使细纱机上销对上胶圈的控制性能稳定可靠,该新型上销使用后,条干CVH值由原来的2.2%降低到1.8%,条干波谱在40~50cm的机械波彻底消失,上胶圈中凹现象得到彻底的解决。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种细纱机牵伸机构控制件,特别涉及一种新型细纱机上销
技术介绍
目前细纱上销安装在细纱机牵伸区,与下销和上下胶圈相互配合形成一付控制钳 口,牵伸时对粗纱须条进行有效控制,使成纱条干均勻稳定。由于上销控制性能的不稳定会 使上胶圈运转时产生变速运动或中凹现象,从而使成纱的条干、(^%值产生波动,条干波谱 在40-50cm波段产生严重机械波。
技术实现思路
本技术为了弥补现有技术的缺陷,提供了一种控制性能稳定的新型细纱机上 销。本技术是通过如下技术方案实现的一种新型细纱机上销,包括上销架,上销架两侧设有两个控制嵌板,上销架内设 有弹簧,其特征是控制嵌板的控制面宽度设计成2. 4 2. 6mm,控制中心距长度设计成 37. 3 37. 5mm0本技术的有益效果是该新型细纱机上销,通过对细纱上销控制嵌板的控制 面宽度和控制中心距长度重新进行设计改进,使细纱机上销对上胶圈的控制性能稳定可 靠,该新型上销使用后,条干CVH值由原来的2. 2%降低到1.8%,条干波谱在40 50cm的 机械波彻底消失,上胶圈中凹现象得到彻底的解决。以下结合附图对本技术作进一步的说明。附附图说明图1为本技术新型细纱机上销的结构示意图。附图2为本技术新型细纱机上销的主视示意图。图中,1上销架,2控制嵌板,3弹簧,4控制面宽度,5控制中心距长度。具体实施方式附图为本技术的一种具体实施例。该新型细纱机上销,包括上销架1,上销架 1两侧设有两个控制嵌板2,上销架1内设有弹簧3,其特征是控制嵌板2的控制面宽度4 设计成2. 4 2. 6mm,控制中心距长度5设计成37. 3 37. 5mm。该新型细纱机上销,可将控制嵌板2的控制面宽度4设计成2. 5mm,控制中心距长 度5设计成37. 3mm,可使细纱机上销对上胶圈的控制性能稳定可靠,对成纱条干、波普有稳 定作用和改善作用。权利要求一种新型细纱机上销,包括上销架(1),上销架(1)两侧设有两个控制嵌板(2),上销架(1)内设有弹簧(3),其特征是控制嵌板(2)的控制面宽度(4)设计成2.4~2.6mm,控制中心距长度(5)设计成37.3~37.5mm。专利摘要本技术公开了一种细纱机牵伸机构控制件,特别公开了一种新型细纱机上销。该新型细纱机上销,包括上销架,上销架两侧设有两个控制嵌板,上销架内设有弹簧,其特征是控制嵌板的控制面宽度设计成2.4~2.6mm,控制中心距长度设计成37.3~37.5mm。该新型细纱机上销,通过对细纱上销控制嵌板的控制面宽度和控制中心距长度重新进行设计改进,使细纱机上销对上胶圈的控制性能稳定可靠,该新型上销使用后,条干CVH值由原来的2.2%降低到1.8%,条干波谱在40~50cm的机械波彻底消失,上胶圈中凹现象得到彻底的解决。文档编号D01H5/88GK201678783SQ20102017566公开日2010年12月22日 申请日期2010年4月8日 优先权日2010年4月8日专利技术者杨本峰, 赵振林 申请人:山东华乐新材料科技股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型细纱机上销,包括上销架(1),上销架(1)两侧设有两个控制嵌板(2),上销架(1)内设有弹簧(3),其特征是:控制嵌板(2)的控制面宽度(4)设计成2.4~2.6mm,控制中心距长度(5)设计成37.3~37.5mm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:杨本峰赵振林
申请(专利权)人:山东华乐新材料科技股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:37[中国|山东]

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